公开(公告)号：CN101676806A

公开(公告)日：2010-03-24

申请号：CN200910166147.7

申请日：2009-08-14

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 金柄郁 ,  尹锡壹 ,  郑宗铉 ,  许舜范 ,  辛成健 ,  郑世桓 ,  张斗瑛 ,  朴善周 ,  权五焕

IPC: G03F7/42

Abstract: 本发明涉及一种剥离剂组合物，其在薄膜晶体管液晶显示器的制备工艺中，用于再利用薄膜晶体管液晶显示器的热固性树脂形成过程中产生的不良基板，包括：(a)0.5-15重量份的氢氧化铵或具有碳原子数为1-4个的烷基的烷基氢氧化铵化合物；(b)9-89重量份的具有碳原子数为1-4个的烷基的烷撑二醇醚；(c)10-40重量份的甘醇化合物；(d)0.01-5重量份的防腐剂；以及(e)0.1-5重量份的水。本发明的剥离剂组合物可以在短时间内去除彩色光阻、正性或负性有机绝缘层，并不会使作为下部膜质的无机绝缘层和各种金属布线受损，从而可以再利用滤色器基板和薄膜晶体管基板。

公开(公告)号：CN118689047A

公开(公告)日：2024-09-24

申请号：CN202410314636.7

申请日：2024-03-19

Applicant: 三星电子株式会社 ,  株式会社东进世美肯

Inventor： 姜律 ,  权泰熹 ,  金东俊 ,  徐娥滥 ,  郑美莲 ,  崔三宗 ,  权五焕 ,  金珉岐 ,  金宰贤 ,  辛成健 ,  柳承律 ,  李熙敬

IPC: G03F7/42 ,  C11D7/26

Abstract: 提供稀释剂组合物和通过使用所述稀释剂组合物处理基板表面的方法，所述稀释剂组合物可普遍用于极紫外(EUV)光致抗蚀剂以及KrF和ArF光致抗蚀剂并且在减胶涂覆(RRC)和边缘珠状物除去(EBR)方面呈现出改善的性能并且具有优异的管道清洁能力。所述稀释剂组合物包括C2‑C4亚烷基二醇C1‑C4烷基醚乙酸酯、C2‑C3亚烷基二醇C1‑C4烷基醚、和环酮。

公开(公告)号：CN107921476A

公开(公告)日：2018-04-17

申请号：CN201680049458.3

申请日：2016-08-25

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 尹荣敏 ,  金浩钟 ,  李圣贤 ,  辛成健

IPC: B05D7/24 ,  B05D7/02 ,  B05D7/00 ,  B05D5/00 ,  B05D3/02 ,  B05D3/06 ,  C09D183/04

CPC classification number: C09D183/04 ,  B05D3/02 ,  B05D3/0254 ,  B05D3/06 ,  B05D3/067 ,  B05D5/00 ,  B05D7/00 ,  B05D7/02 ,  B05D7/24 ,  B05D7/54

Abstract: 本发明涉及一种涂层及中间界面层的层叠体及其制造方法，所述涂层及中间界面层包括含Si-O基物质。更具体而言，涉及一种层叠体及其制造方法，在基体材料与包括含Si-O基物质的涂层之间局域组成基体材料的物质和组成涂层的物质相混合而成的中间界面层，所以能够显著提高抗弯曲能力、透明度及基体材料与涂层之间的粘接强度，而且通过硅倍半氧烷涂层，能够增强耐划痕性能、拒水特性、耐污性能、抗指纹性能、热稳定性、光泽特性及提高表面硬度的效果。

公开(公告)号：CN101373343A

公开(公告)日：2009-02-25

申请号：CN200810210852.8

申请日：2008-08-20

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 金柄郁 ,  尹锡壹 ,  金圣培 ,  郑宗铉 ,  许舜范 ,  辛成健 ,  郑世桓 ,  张斗瑛

IPC: G03F7/42

Abstract: 本发明涉及一种为了回收使用薄膜晶体管液晶显示器的滤色器形成工艺中产生的不良基板，而用于去除彩色光阻剂图案及涂层的彩色光阻剂剥离溶液组合物，具体涉及一种包含1－20重量％的选自无机碱氢氧化物、氢氧化铵、具有C1－C4烷基的烷基氢氧化铵或具有C1－C4烷基的苯烷基氢氧化铵中的氢氧化物；1－70重量％的选自具有C1－C4烷基的烷撑二醇醚或烷撑二醇中的至少一种化合物；0.5－10重量％的羟胺；0.5－50重量％的烷氧基烷基胺；以及余量水的彩色光阻剂剥离溶液组合物。本发明的组合物可以在短时间内去除彩色光阻剂和涂层，从而可以回收使用以往技术中由于难以去除彩色光阻剂图案而大部分被废弃的滤色器基板。

公开(公告)号：CN101140428A

公开(公告)日：2008-03-12

申请号：CN200710145306.6

申请日：2007-09-07

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 金圣培 ,  尹锡壹 ,  许舜范 ,  辛成健 ,  金柄郁

IPC: G03F7/42

Abstract: 本发明涉及一种光刻胶剥离剂组合物以及利用该组合物的光刻胶剥离及分解方法，具体说是涉及一种包含氨基甲酸酯化合物的光刻胶剥离剂组合物。而且，本发明还提供一种包含：a)环状内酯类化合物，及b)酰胺类化合物、氨基甲酸酯化合物或其混合物的光刻胶剥离剂组合物。本发明的光刻胶剥离剂组合物，在利用臭氧的工艺中可以选择性地分解去除光刻胶时所产生的光刻胶残留物，从而可极大地提高处理量，并且具有对金属布线或氧化膜的腐蚀防护效果。