喷淋板、处理装置和喷出方法

    公开(公告)号:CN108570662B

    公开(公告)日:2020-11-17

    申请号:CN201810186981.1

    申请日:2018-03-07

    Abstract: 根据实施方式,喷淋板包括第一构件和第二构件。所述第一构件包括设置有多个第一开口的第一壁并且在内部包括与所述第一开口连通的室。所述第二构件包括设置有第二开口并被布置在所述室中的第二壁。所述第二构件被布置在与所述第一构件间隔开的位置,并且通过改变相对于所述第一构件的所述第二构件的位置能够将面向所述第二开口的所述第一开口中的一个第一开口替换为所述第一开口中的另一个第一开口。

    高刚性板及空气调节设备
    22.
    发明授权

    公开(公告)号:CN108626870B

    公开(公告)日:2020-09-22

    申请号:CN201810185345.7

    申请日:2018-03-07

    Abstract: 提供一种高刚性板及空气调节设备。根据实施例,高刚性板包括:第一突起,其包括被配置为支承振动构件的第一顶壁以及与第一顶壁的外周边缘连接的第一周壁,第一突起被配置为向壳体的内侧或壳体的外侧突出;中间部,当沿着第一方向观察时,中间部设置于围绕第一顶壁的位置处并且经由第一弯曲部与第一周壁连接;以及环形的第二突起,其包括第二顶壁和第二周壁,当沿着所述第一方向观察时,该第二顶壁设置于围绕第一顶壁的位置处,所述第二周壁与中间部经由第二弯曲部连接,并与第二顶壁的内周边缘连接,该第二突起被配置为向壳体的内侧或壳体的外侧突出。

    静电致动器
    24.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102185517B

    公开(公告)日:2014-11-05

    申请号:CN201010573402.2

    申请日:2010-11-29

    Abstract: 实施方式的静电致动器具备:设置在基板(100)上的电极部(2);与电极部(2)相对而设置的导电性的膜体部(3);设置于导电性的膜体部(3)的第1周边部(3a)的、支撑膜体部(3)的多个加载部(4);以及设置在与第1周边部(3a)相对的第2周边部(3b)的、支撑膜体部(3)的多个加载部(4);构成为通过对电极部(2)设定预定值的电压从而电极部(2)与导电性的膜体部(3)接触或者脱离的实施方式的静电致动器,在第1周边部(3a)以及第2周边部(3b)的各个,在多个加载部(4)的各个之间,其刚性相互不同。

    静电致动器
    25.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102674231A

    公开(公告)日:2012-09-19

    申请号:CN201210068873.7

    申请日:2012-03-15

    CPC classification number: B81B3/0072 B81B2201/016 B81B2203/0163 H01H59/0009

    Abstract: 提供一种静电致动器,该静电致动器具备基板、电极部、膜体部和施力部。上述电极部设在上述基板上。上述膜体部与上述电极部对置设置,具有导电性。上述施力部具有与上述基板连接的连接部和设在上述连接部与上述膜体部之间的弹性部,支承上述膜体部。上述电极部和上述膜体部能够对应于施加在上述电极部上的电压而成为接触的状态和分离的状态。上述弹性部在连接于上述连接部的一端与连接于上述膜体部的多个其他端之间具有分支部。

    静电致动器
    26.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102185517A

    公开(公告)日:2011-09-14

    申请号:CN201010573402.2

    申请日:2010-11-29

    Abstract: 实施方式的静电致动器具备:设置在基板(100)上的电极部(2);与电极部(2)相对而设置的导电性的膜体部(3);设置于导电性的膜体部(3)的第1周边部(3a)的、支撑膜体部(3)的多个加载部(4);以及设置在与第1周边部(3a)相对的第2周边部(3b)的、支撑膜体部(3)的多个加载部(4);构成为通过对电极部(2)设定预定值的电压从而电极部(2)与导电性的膜体部(3)接触或者脱离的实施方式的静电致动器,在第1周边部(3a)以及第2周边部(3b)的各个,在多个加载部(4)的各个之间,其刚性相互不同。

    研磨头及研磨装置
    28.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1626313A

    公开(公告)日:2005-06-15

    申请号:CN200410100168.6

    申请日:2004-12-03

    CPC classification number: B24B37/30

    Abstract: 一种研磨头,包括:与研磨衬垫的研磨面相对配置的头本体;设置在头本体下面的第1凹部;在第1凹部内大致水平地设置、可在上下方向移动的支承板;设置在从支承板的上面至第1凹部的内面上、使支承板的上面与头本体之间形成第1空间的第1膜状构件;设置在支承板下面的第2凹部;将第2凹部封闭地设置在支承板下面、与支承板之间形成第2空间、同时在下面对晶片进行保持的第2膜状构件;设置在支承板上、连通第1、第2空间的连通孔;对第1、第2空间内以相同压力进行流体加压、将晶片朝研磨衬垫进行按压的气体供给装置。

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