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公开(公告)号：CN101925955A
公开(公告)日：2010-12-22
申请号：CN200980102742.2
申请日：2009-01-14
Applicant: 昭和电工株式会社
Abstract: 本发明提供一种不良品的发生少、制造成本低的磁记录介质制造方法，该方法在基板上成膜出磁性层后形成磁图案。该磁记录介质的制造方法是具有磁分离了的磁记录图案的磁记录介质的制造方法，其中，依次地进行下述工序：在中央具有开口部的基板上形成磁性层的工序、在磁性层上涂布树脂膜的工序、将形成有凹凸形状的图案的膜状的模子压靠于基板上的工序、将模子的凹凸图案转印于树脂膜上的工序、从基板上剥离模子的工序、使用转印出的凹凸图案在磁性层上形成磁记录图案的工序。
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公开(公告)号：CN101523487A
公开(公告)日：2009-09-02
申请号：CN200780036461.2
申请日：2007-07-30
Applicant: 昭和电工株式会社
CPC classification number: G11B5/855
Abstract: 本发明提供一种可使合格率格外地提高并使生产率显著提高的磁记录介质的制造方法。该磁记录介质的制造方法的抗蚀剂层形成工序具有：浸渍工序，以内周区域(3)配置于抗蚀剂溶液(11)的液面(11a)上方、并且数据记录区(4)的一部分配置于所述抗蚀剂溶液的液面(11a)下方的方式使所述非磁性基板(31)的一部分浸渍于所述抗蚀剂溶液(11)中；和取出工序，一边以通过所述开口部(37)的中心沿所述非磁性基板(31)的厚度方向延伸的旋转轴(37a)为中心，使浸渍于所述抗蚀剂溶液(11)中的所述非磁性基板(31)旋转，一边从所述抗蚀剂溶液(11)中取出所述非磁性基板(31)。
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公开(公告)号：CN112863551A
公开(公告)日：2021-05-28
申请号：CN202011307999.6
申请日：2020-11-19
Applicant: 昭和电工株式会社
Abstract: 本发明提供一种对于自外部的较强振动、冲击的耐受性较高的记录再现装置，包括：圆盘状的记录介质；电动机，其用于旋转驱动上述记录介质；磁头，其用于进行对于上述记录介质的信息的读取、或者写入；斜坡机构，其用于使上述磁头自上述记录介质之上退避；斜坡退避机构，其用于使上述斜坡机构自上述记录介质之上退避。
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公开(公告)号：CN102456358B
公开(公告)日：2014-12-10
申请号：CN201110320471.7
申请日：2011-10-20
Applicant: 昭和电工株式会社
CPC classification number: G11B5/855
Abstract: 本发明提供一种不使磁性层的表面氧化或卤化，并且，表面不被粉尘污染、制造工序不复杂的形成有磁分离的磁记录图案的磁记录介质的制造方法。所述具有磁分离的磁记录图案的磁记录介质的制造方法，其特征在于，依次具有：在非磁性基板(1)上形成磁性层(2)的工序；在磁性层(2)上形成用于形成磁记录图案的由碳构成的掩模层(3)的工序；对磁性层(2)的未被掩模层(3)覆盖的部位(7)照射含有氢化碳离子的离子束(10)，在磁性层(2)上形成作为非磁性体的碳化钴的工序；和除去掩模层(3)的工序。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102349103B
公开(公告)日：2014-09-17
申请号：CN201080011288.2
申请日：2010-03-08
Applicant: 昭和电工株式会社
CPC classification number: G11B5/855
Abstract: 本发明提供不使磁性层的表面氧化或卤化并且表面不被粉尘污染、制造工序不复杂的形成有磁性分离了的磁记录图案的磁记录介质的制造方法。这样的磁记录介质的制造方法，其特征在于，依次具有：在非磁性基板上(1)形成磁性层(2)的工序；在磁性层(2)之上形成用于形成磁记录图案的掩模层(3)的工序；以及对磁性层(2)的未被掩模层(3)覆盖的部位照射离子束(10)，除去该部位(7)的磁性层(2)的上层部并且对下层部(8)的磁特性进行改性的工序，离子束(10)使用质量不同的两种以上的正离子，形成离子束的离子枪具有向基板侧推出来自离子源的正离子的正电极和使正离子向基板侧加速的负电极。
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公开(公告)号：CN101978420B
公开(公告)日：2013-06-05
申请号：CN200980109283.0
申请日：2009-03-10
Applicant: 昭和电工株式会社
IPC: G11B5/84 , C09D183/04 , G11B5/65
CPC classification number: G11B5/855 , C09D183/06 , G03F7/0757
Abstract: 本发明提供了一种磁记录介质的制造方法，是在非磁性基板上至少具有记录层和保护膜的磁记录介质的制造方法，其特征在于，依次具有以下工序：在基板上形成连续的记录层的工序，形成图案化的抗蚀剂层的工序，依照该抗蚀剂图案部分性地除去上述记录层的工序，在上述记录层和已除去记录层的部位上涂布具有活性能量线固化性官能团的有机硅化合物的工序，通过活性能量线使上述有机硅化合物固化的工序，对上述有机硅化合物进行蚀刻，使磁性层在表面露出的工序，以及形成保护膜的工序。
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公开(公告)号：CN101933090B
公开(公告)日：2013-05-01
申请号：CN200880126071.9
申请日：2008-11-28
Applicant: 昭和电工株式会社
Abstract: 一种制造磁记录介质的方法，该磁记录介质在非磁性基底的至少一个表面上具有磁性分离的磁记录图形，该方法包括以(A)到(G)的顺序执行的下列七个步骤：(A)在非磁性基底上形成磁性层的步骤；(B)在磁性层上形成碳掩模层的步骤；(C)在碳掩模层上形成抗蚀剂层的步骤；(D)在抗蚀剂层上形成磁记录图形的负图形的步骤；(E)去除在与磁记录图形的负图形对应的区域中的掩模层的部分的步骤；(F)去除在与磁记录图形的负图形对应的区域中的磁性层的至少表面层部分的步骤；以及(G)需要时去除剩余的抗蚀剂层和碳掩模层的步骤。所制成的磁记录介质确保了等于或优于常规介质的记录/再现特性并呈现高记录密度。
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公开(公告)号：CN102037508B
公开(公告)日：2013-03-27
申请号：CN200980118008.5
申请日：2009-05-20
Applicant: 昭和电工株式会社
Inventor： 福岛正人
IPC: G11B5/84
CPC classification number: G11B5/855 , G01R33/1207
Abstract: 本发明提供一种磁记录介质的评价方法，所述磁记录介质是离散方式或者位图案方式磁记录介质，即使在其表面残留凹凸也有稳定的磁头浮起特性、并且能够适应高记录密度，本发明的评价方法能够以高生产效率提供该磁记录介质。这样的评价方法是在圆盘状基板的至少一个表面具磁记录图案、在表面具有与所述磁记录图案对应的凹凸的磁记录介质的评价方法，其特征在于，使安装有传感器的磁头滑块在旋转的所述磁记录介质的表面浮起走行，对所述磁头滑块和所述磁记录介质非接触状态下从所述传感器输出的信号进行检测，根据该信号来判断所述磁记录介质是否合格。
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公开(公告)号：CN102016988B
公开(公告)日：2012-10-10
申请号：CN200980116115.4
申请日：2009-03-03
Applicant: 昭和电工株式会社
Inventor： 福岛正人
CPC classification number: G11B5/855 , G11B5/8408
Abstract: 一种磁记录介质，其具有磁记录图形，其中通过形成边界区域的凹部来隔离形成磁性层的磁记录区域的凸部。在所述磁性层上，形成连续的碳保护膜。所述凸部上的所述碳保护膜被形成为比所述凹部上的所述碳保护膜厚。所述碳保护膜是通过CVD方法形成的。所述凹部的边界区域优选具有通过将该区域暴露到等离子体等而改性的磁特性。所述磁记录介质的所述磁记录区域不容易被侵蚀，从而所述磁记录介质具有高的环境耐性。
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