氟化金刚烷衍生物
    23.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1726182A

    公开(公告)日:2006-01-25

    申请号:CN200380105893.6

    申请日:2003-12-11

    CPC classification number: C07C69/753 C07C35/52 C07C69/708 C07C2603/74

    Abstract: 本发明提供了耐浸蚀性好、能用作光刻法用材料、并能用于氟化金刚烷衍生物的制备的新型化合物。即,本发明提供了用下式(3)表示的化合物及用下式(4)表示的化合物。A(-G-Q-R)n……(3);Af(-GfQ-Rf)n……(4);式中符号含义如下所述:A:金刚烷中的n个氢原子成为结合键的n价的基,并且不成为结合键的该氢原子可被烷基取代,R:含氟1价有机基,n:1~4的整数,G:-CH2-或单键,Q:-COO-或-OCO-,Af:与金刚烷的碳原子结合的n个氢原子成为结合键的n价的基,并且在不成为结合键的该氢原子可被烷基取代的基(A)中的至少1个形成C-H键的氢原子被氟原子取代的基,Rf:含氟1价有机基,Gf:-CF2-或单键。

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