-
公开(公告)号：CN1677157A
公开(公告)日：2005-10-05
申请号：CN200410095156.9
申请日：2004-10-31
Applicant: 日本航空电子工业株式会社
CPC classification number: G02B6/358 , G02B6/3514 , G02B6/3546 , G02B6/357 , G02B6/3584
Abstract: 形成在基底上的光学器件包括：多个形成在基底顶面的光纤通道；反射镜，在配置在光纤通道中的光纤之间的光路中推进和拉出；可移动杆，一端支撑反射镜；梳形静电激励器，在与可移动杆的中间部分相关的位置，在可移动杆长度方向上移动可移动杆；多个支撑梁，在可移动杆的驱动力施加点的两侧上的两端附近，可移动支承可移动杆，驱动力由梳形静电激励器产生。支撑梁在关于平行于可移动杆长度方向的中心线成线对称的位置上支持可移动杆，由多个支撑梁支承可移动杆的点关于由梳形静电激励器产生的驱动力的施加点对称。即使由梳形静电激励器产生的驱动力包括不同的矢量分量，可抑制可移动杆在驱动可移动杆的所需方向外的方向上的移动。
-
公开(公告)号：CN1619351A
公开(公告)日：2005-05-25
申请号：CN200410102355.8
申请日：2004-09-30
Applicant: 日本航空电子工业株式会社
CPC classification number: G02B6/3584 , B81B3/0083 , B81B2201/045 , B81C1/00182 , G02B6/122 , G02B6/136 , G02B6/3514 , G02B6/3518 , G02B6/3546 , G02B6/357 , G02B6/3596 , G02B26/0841
Abstract: 本发明涉及微光学装置及其制造方法。该装置包括复杂结构和可移动反射镜，可在更短的时间内制造出该微光学装置。硅基底和单晶硅装置层以及置于其间的氧化硅中间层构成基底，其上掩模材料层得以形成且被构图，从而形成与如平面图所示的预期光学装置的结构具有相同图案的掩模。将构造为反射镜表面的表面选择为硅晶体的面。利用掩模，通过反应离子干刻蚀，垂直刻蚀装置层，直到露出中间层为止。随后利用KOH溶液在约十分钟的时间段内以大约0.1μm/min的刻蚀速率，执行对于晶向是各向异性的湿刻蚀，从而将反射镜4的侧壁表面转变为光滑的晶体学表面。随后，选择性地湿刻蚀中间层，从而仅在位于光学装置的可移动部件下面的区域中除去中间层。
-
公开(公告)号：CN1607410A
公开(公告)日：2005-04-20
申请号：CN200410100529.7
申请日：2004-10-10
Applicant: 日本航空电子工业株式会社
CPC classification number: G02B6/3566 , G02B6/3514 , G02B6/3546 , G02B6/357 , G02B6/358 , G02B6/3584 , G02B6/3596 , G02B6/3636 , G02B6/3692
Abstract: 本发明提供形成在基底上并适于沿平行于所述基底薄片表面的方向移动的可移动部件(11)；形成在所述基底上并固定设置在其上的固定部件(10a)；以及平行于基底薄片表面延伸的弹性铰链(6A)至(6D)，其相反两端与可移动部件(11)和固定部件(10a)连接，用于以可移动方式支撑可移动部件(11)。沿垂直于铰链(6A)至(6D)纵向平面的横截面来看，铰链具有随着接近基底顶面而变小的宽度，进而具有梯形或三角形横截面。在要求提供相等弹簧常数的所述铰链顶面上测量的宽度被选定为比具有矩形横截面(等宽)的铰链宽度大，并且这样易于在制造过程中进行光刻。
-
-
-
Search Results
24
records
(took 0.023 seconds)
