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公开(公告)号：CN116736523A
公开(公告)日：2023-09-12
申请号：CN202310226307.2
申请日：2023-03-10
Applicant: 意法半导体股份有限公司
Abstract: 公开了压电致动的双轴微机电镜设备。微机电镜设备具有限定界定腔的外部框架的固定结构、被布置在腔上方并限定窗口的内部框架、以及具有反射表面并被布置在窗口中的可倾斜结构。通过第一耦接弹性元件和第二耦接弹性元件弹性地耦接到内部框架。致动结构耦接到内部框架以使得可倾斜结构绕第一轴和第二轴旋转。致动结构具有第一对驱动臂和另一对驱动臂，第一对驱动臂弹性地耦接到内部框架并承载压电材料区域以使得可倾斜结构绕第一轴旋转，另一对驱动臂承载压电材料区域以使得可倾斜结构绕第二轴旋转并插入固定结构和内部框架之间，另一对驱动臂通过第一悬挂弹性元件和第二悬挂弹性元件弹性地耦接到固定结构和内部框架。
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公开(公告)号：CN116203716A
公开(公告)日：2023-06-02
申请号：CN202211518041.0
申请日：2022-11-29
Applicant: 意法半导体股份有限公司
Abstract: 提供具有旋转屏蔽结构的微机电光学快门和相关制造工艺。MEMS快门包括：由主要孔径穿过的半导体材料的衬底，和形成固定到衬底的支撑结构的第一半导体层和第二半导体层；多个可变形结构；多个致动器；以及多个屏蔽结构，多个屏蔽结构中的每个屏蔽结构由第一半导体层与第二半导体层之间的至少一者的对应部分形成，屏蔽结构被布置为成角度地围绕底层主要孔径以便提供对主要孔径的屏蔽，每个屏蔽结构经由对应可变形结构进一步耦合到支撑结构。每个致动器可以被控制以便引起对应屏蔽结构在相应第一位置与相应第二位置之间的旋转，从而改变对主要孔径的屏蔽。屏蔽结构的第一和第二位置使得在MEMS快门的至少一种操作条件下相邻屏蔽结构对至少部分地彼此重叠。
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公开(公告)号：CN113009760B
公开(公告)日：2023-01-03
申请号：CN202011496567.4
申请日：2020-12-17
Applicant: 意法半导体股份有限公司
Abstract: 本公开的各实施例涉及具有改进结构的、带有压电止动的微机电镜设备。一种微机电镜设备具有限定腔的固定的结构。承载反射表面的可倾斜结构被弹性地悬置在腔上方，可倾斜结构具有在水平面中的主延伸。弹性元件被耦合到可倾斜结构，并且承载压电材料的相应的区域的至少一个第一对驱动臂是可偏置的，以导致可倾斜结构围绕与水平面的第一水平轴线平行的至少一个第一旋转轴线的旋转。驱动臂被弹性地耦合到第一旋转轴线的相对侧上的可倾斜结构，并且被插入在可倾斜结构与固定结构之间。驱动臂沿着与水平面横向的正交轴线具有一厚度，该厚度小于被耦合到可倾斜结构的至少一些弹性元件的厚度。
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公开(公告)号：CN113009684A
公开(公告)日：2021-06-22
申请号：CN202011519697.5
申请日：2020-12-21
Applicant: 意法半导体股份有限公司
Abstract: 本公开的各实施例涉及具有防冲击的可倾斜结构的微机电装置。一种微机电装置由具有腔的固定结构形成。可倾斜结构被弹性地悬挂在腔上方并且在可倾斜平面中具有主延伸部，并且能够绕平行于可倾斜平面的旋转轴线旋转。压电致动结构包括第一驱动臂和第二驱动臂，第一驱动臂和第二驱动臂承载相应的压电材料区并且在旋转轴线的相对侧延伸。第一驱动臂和第二驱动臂被刚性地耦合至固定结构并且被弹性地耦合至可倾斜结构。在操作期间，止动结构限制可倾斜结构相对于致动结构沿着垂直于旋转轴线的平面方向的运动。止动结构具有被形成在第一驱动臂与可倾斜结构之间的第一平面止动元件以及被形成在第二驱动臂与可倾斜结构之间的第二平面止动元件。
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公开(公告)号：CN113003533A
公开(公告)日：2021-06-22
申请号：CN202011518882.2
申请日：2020-12-21
Applicant: 意法半导体股份有限公司
Abstract: 本公开涉及利用抗反射表面制造具有可倾斜结构的光学微机电设备的工艺。为了制造光学微机电设备，加工具有第一表面和第二表面的半导体材料的第一晶片，以形成悬挂镜结构、围绕悬挂镜结构的固定结构、在固定结构与悬挂镜结构之间延伸的弹性支撑元件、以及耦接到悬挂镜结构的致动结构。第二晶片被单独加工，以形成由底壁界定的室，该底壁具有贯通开口。第二晶片以如下方式被接合到第一晶片的第一表面，该方式使得室覆盖在致动结构上，并且贯通开口与悬挂镜结构对准。此外，第三晶片被接合到第一晶片的第二表面，以形成复合晶片设备。该复合晶片设备然后被切割以形成光学微机电设备。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111320129A
公开(公告)日：2020-06-23
申请号：CN201911284633.9
申请日：2019-12-13
Applicant: 意法半导体股份有限公司
Abstract: 本公开的各实施例涉及具有通过压电致动而可倾斜的结构的微机电设备。一种微机电设备，包括固定结构，该固定结构限定具有可倾斜结构的腔，该可倾斜结构被弹性地悬挂在该腔中。压电驱动的致动结构，被插入在可倾斜结构和固定结构之间，其被偏置以用于使可倾斜结构围绕第一旋转轴旋转，该第一旋转轴属于可倾斜结构所在的水平平面。致动结构包括一对驱动臂，该一对驱动臂承载压电材料的相应区域，并且通过相应的弹性解耦元件，在第一旋转轴的相对侧上弹性地耦合到该可倾斜结构。弹性解耦元件关于离开水平平面的运动表现出刚性，并且关于绕第一旋转轴的扭转表现出顺应性。
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公开(公告)号：CN220467578U
公开(公告)日：2024-02-09
申请号：CN202320443633.4
申请日：2023-03-10
Applicant: 意法半导体股份有限公司
Abstract: 公开了包括微机电镜设备的设备及微机电镜设备。包括微机电镜设备的设备具有限定界定腔的外部框架的固定结构、布置在腔上方并限定窗口的内部框架、具有反射表面并被布置在窗口中的可倾斜结构。通过第一和第二耦接弹性元件弹性地耦接到内部框架。致动结构耦接到内部框架使得可倾斜结构绕第一和第二轴旋转。致动结构具有第一对和另一对驱动臂，第一对驱动臂弹性地耦接到内部框架并承载压电材料区域以使得可倾斜结构绕第一轴旋转，另一对驱动臂承载压电材料区域使得可倾斜结构绕第二轴旋转并插入固定结构和内部框架之间，另一对驱动臂通过第一和第二悬挂弹性元件弹性地耦接到固定结构和内部框架。本公开的方案提供了具有改进特性的微机电镜设备。
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公开(公告)号：CN220976584U
公开(公告)日：2024-05-17
申请号：CN202223176757.5
申请日：2022-11-29
Applicant: 意法半导体股份有限公司
IPC: B81B7/02
Abstract: 本公开的实施例涉及微机电遮蔽件与微机电装置。微机电遮蔽件包括：由孔径通过的半导体衬底；第一和第二半导体层，形成固定到衬底的支撑结构；多个可变形结构，每个可变形结构由第一和第二半导体层之间的至少一者的对应部分形成；多个致动器；多个屏蔽结构，每个屏蔽结构由第一和第二半导体层之间的至少一者的对应部分形成，屏蔽结构围绕下层孔径成角度布置，以提供对孔径的屏蔽，每个屏蔽结构还经由可变形结构耦合到支撑结构。每个致动器可以被控制为在第一和第二位置之间平移对应屏蔽结构，从而改变对孔径的屏蔽。利用本公开的实施例有利地减少屏蔽结构之间的重叠面积，从而减少下层主孔径的遮挡。
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公开(公告)号：CN219916077U
公开(公告)日：2023-10-27
申请号：CN202320769023.3
申请日：2023-04-10
Applicant: 意法半导体股份有限公司
Abstract: 本公开涉及微机电镜器件。一种微机电镜器件在半导体材料的管芯中具有：限定腔体的固定结构；承载反射区域的可倾斜结构，弹性地悬置在腔体上方并且具有在水平面中的主延伸部；承载相应压电结构的至少一对第一驱动臂，压电结构可以被偏置以生成驱动力，该驱动力引起可倾斜结构围绕平行于水平面的第一水平轴的旋转轴的旋转；弹性悬置元件，在旋转轴处将可倾斜结构弹性地耦合到固定结构，并且对于离开水平面的运动是刚性的并且对于围绕旋转轴的扭转是柔顺的。特别地，第一对驱动臂中的驱动臂磁性地耦合到可倾斜结构，以便在相应压电结构的偏置之后通过磁性相互作用使其围绕旋转轴旋转。
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公开(公告)号：CN215006226U
公开(公告)日：2021-12-03
申请号：CN202023064448.X
申请日：2020-12-17
Applicant: 意法半导体股份有限公司
Abstract: 本公开的各实施例涉及微机电系统镜设备和微型投影仪装置。一种微机电镜设备具有限定腔的固定的结构。承载反射表面的可倾斜结构被弹性地悬置在腔上方，可倾斜结构具有在水平面中的主延伸。弹性元件被耦合到可倾斜结构，并且承载压电材料的相应的区域的至少一个第一对驱动臂是可偏置的，以导致可倾斜结构围绕与水平面的第一水平轴线平行的至少一个第一旋转轴线的旋转。驱动臂被弹性地耦合到第一旋转轴线的相对侧上的可倾斜结构，并且被插入在可倾斜结构与固定结构之间。驱动臂沿着与水平面横向的正交轴线具有一厚度，该厚度小于被耦合到可倾斜结构的至少一些弹性元件的厚度。根据本公开的实施例，提供了改进的微机电系统镜设备。
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