非易失性半导体存储装置
    21.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102347445B

    公开(公告)日:2014-11-05

    申请号:CN201110215067.3

    申请日:2011-07-29

    CPC classification number: H01L45/04 H01L27/2436 H01L45/1233 H01L45/146

    Abstract: 本发明实现一种可变电阻元件和具有该可变电阻元件的非易失性半导体存储装置,该可变电阻元件通过抑制伴随成形处理完成的急剧电流,从而降低特性偏差,稳定地进行切换动作。一种非易失性半导体存储装置,将在第一电极(12a)与第2电极(14)之间夹持电阻变化层(13)而成的可变电阻元件(2)用于信息存储中,可变电阻元件(2)在形成切换界面的第一电极(12a)与电阻变化层(13)之间被插入缓冲层(12b)而成。以如下方式选择缓冲层(12b)和电阻变化层(13)的材料,即:缓冲层(12b)与电阻变化层(13)均包含n型金属氧化物而构成,构成缓冲层(12b)的n型金属氧化物的导带底的能量比构成电阻变化层(13)的n型金属氧化物的导带底的能量低。

    非易失性半导体存储装置
    22.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102347445A

    公开(公告)日:2012-02-08

    申请号:CN201110215067.3

    申请日:2011-07-29

    CPC classification number: H01L45/04 H01L27/2436 H01L45/1233 H01L45/146

    Abstract: 本发明实现一种可变电阻元件和具有该可变电阻元件的非易失性半导体存储装置,该可变电阻元件通过抑制伴随成形处理完成的急剧电流,从而降低特性偏差,稳定地进行切换动作。一种非易失性半导体存储装置,将在第一电极(12a)与第2电极(14)之间夹持电阻变化层(13)而成的可变电阻元件(2)用于信息存储中,可变电阻元件(2)在形成切换界面的第一电极(12a)与电阻变化层(13)之间被插入缓冲层(12b)而成。以如下方式选择缓冲层(12b)和电阻变化层(13)的材料,即:缓冲层(12b)与电阻变化层(13)均包含n型金属氧化物而构成,构成缓冲层(12b)的n型金属氧化物的导带底的能量比构成电阻变化层(13)的n型金属氧化物的导带底的能量低。

    半导体存储装置
    23.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1649026B

    公开(公告)日:2010-10-06

    申请号:CN200510006820.2

    申请日:2005-01-28

    CPC classification number: G11C7/062 G11C7/06 G11C7/12 G11C7/14 G11C8/08

    Abstract: 本发明具备列读出电压供给电路,对每一条列选择线,在读出选择时供给规定的第1电压,在读出非选择时供给与上述第1电压不同的第2电压,具备行读出电压供给电路,对每一条行选择线,在读出选择时供给第2电压,具备读出电路,在读出时,将流经被选择的行选择线的电流与流经非选择的行选择线的电流分离并进行检测,检测被选择的存储单元的电阻状态,具备列电压位移抑制电路,在读出时,对非选择的列选择线的每一条个别地抑制供给的电压电平的位移。

    非易失性半导体存储装置及读出方法

    公开(公告)号:CN100485811C

    公开(公告)日:2009-05-06

    申请号:CN200510087650.5

    申请日:2005-07-27

    Abstract: 本发明的非易失性半导体存储装置包括:存储单元选择电路(17),以行、列或存储单元为单位从存储单元阵列(15)中选择存储单元;读出电压施加电路(22a),对由存储单元选择电路(17)选出的选择存储单元的可变电阻元件施加读出电压;读出电路(23),对选择存储单元内的读出对象存储单元检测与该可变电阻元件的电阻值对应流过的读出电流的大小,再读出存储在读出对象存储单元中的信息;读出电压施加电路(22a)将和读出电压反极性的伪读出电压施加给选择存储单元的可变电阻元件。

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