公开(公告)号：CN1619415A

公开(公告)日：2005-05-25

申请号：CN200410080378.3

申请日：2004-09-29

Applicant: 国际商业机器公司

Inventor： M·安耶洛普洛斯 ,  黄武松 ,  A·P·马霍罗维拉 ,  W·莫罗 ,  D·法伊弗 ,  R·苏恩雅库马兰

IPC: G03F1/00 ,  G03F7/20 ,  G03F7/00

CPC classification number: G03F7/0754 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/091 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/115

Abstract: 特征在于存在带有悬吊生色团的含Si聚合物的抗反射组合物是光刻技术方法中可用的抗反射涂层/硬掩膜组合物。在使用旋涂应用技术加以运用时，这些组合物提供了优异的光学、机械和蚀刻选择性能。在用于设计基片支撑材料层(尤其是金属或半导体层)的光刻技术方法中，此组合物是特别适用的。