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公开(公告)号：CN105884186A
公开(公告)日：2016-08-24
申请号：CN201610245434.7
申请日：2016-04-20
Applicant: 同济大学
IPC: C03B33/09
CPC classification number: C03B33/09
Abstract: 本发明涉及一种玻璃镜片的无微裂纹热阻丝切割加工方法，涉及裂纹扩展机理、裂纹扩展控制方法和裂纹扩展加工工艺等技术领域。由传统的玻璃切割方法加工而成的玻璃断面存在细小微裂纹，当玻璃镜片在特殊的大加速度环境中（如玻璃镜片由地球送往太空），细小微裂纹在巨大压力作用下迅速延展扩大，导致镜片完全破碎。因此发明了一种无微裂纹的玻璃镜片切割方法，将发热的热阻丝固定于三轴平动平移台上，需要加工的玻璃镜片固定于平台上，同时使热阻丝与玻璃保持一定距离，使玻璃内部产生稳定变化的热应力，达到切割玻璃镜片的目的，利用运动控制卡来调整加工参数进行玻璃镜片的热阻丝切割，可以得到裂纹直线度高、方向性好且断面无微裂纹的玻璃镜片。
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公开(公告)号：CN102602070B
公开(公告)日：2015-04-08
申请号：CN201210044966.6
申请日：2012-02-27
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明属于精密光学元件制作技术领域，公开了一种低应力中子转换薄膜元件及其制备方法。该元件包括基底(1)和碳化硼/铬周期多层膜(2)，铬薄膜层(3)和碳化硼薄膜层(4)交替沉积于基底(1)表面上，铬薄膜层(3)和碳化硼薄膜层(4)的数目相同。制备方法如下：首先对基底(1)进行清洗，然后在基底(1)上镀制碳化硼/铬周期多层膜(2)。本发明的基于碳化硼/铬周期多层膜的低应力中子转换薄膜元件具有低应力、高制作效率、价格便宜、中子转换性能满足需求等优势，更适于实现此类产品的产业化。
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公开(公告)号：CN103048712B
公开(公告)日：2014-11-19
申请号：CN201310009896.5
申请日：2013-01-10
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种极紫外多层膜反射镜及其制作方法，，该反射镜包括基底、硅铝合金薄膜层及锆薄膜层，硅铝合金薄膜层和锆薄膜层依次交替的沉积在基底上，直至最上层为锆薄膜层，硅铝合金薄膜层及锆薄膜层分别设有35～40层，硅铝合金薄膜层共分为五层，从上到下依次为：硅铝合金超薄膜层、硅超薄膜层、硅铝合金超薄膜层、硅超薄膜层及硅铝合金超薄膜层；制作方法包括以下步骤：首先对基底进行清洗，然后采用直流磁控溅射方法在基底上依次镀制硅铝合金薄膜层和锆薄膜层。与现有技术相比，本发明制备的极紫外多层膜反射镜具有成膜质量好、光学性能满足需求等优势，更适于对反射率要求较高的极紫外光学系统。
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公开(公告)号：CN102520470A
公开(公告)日：2012-06-27
申请号：CN201110425986.3
申请日：2011-12-19
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明属于精密光学元件制作技术领域，公开了一种硬铝/碳化硅极紫外多层膜反射镜及其制备方法。本发明的反射镜包括基底(1)和硬铝/碳化硅周期多层膜(2)，硬铝薄膜层(3)和碳化硅薄膜层(4)交替沉积于基底(1)表面上。本发明的反射镜制备方法如下：首先对基底(1)进行清洗，然后在基底(1)上镀制硬铝/碳化硅周期多层膜(2)。本发明的反射镜克服了传统的铝/碳化硅多层膜界面粗糙度和膜层材料相互渗透较大等缺点，降低了制作工艺难度，并将金属材料的价格降低了2个数量级；这种新型的硬铝/碳化硅极紫外多层膜反射镜具有成膜质量好、易于制作、价格便宜、光学性能满足需求等优势，更适于实现此类产品的产业化。
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公开(公告)号：CN116953833A
公开(公告)日：2023-10-27
申请号：CN202310816605.7
申请日：2023-07-04
Applicant: 同济大学
IPC: G02B5/18
Abstract: 本发明涉及一种减小高线密度X射线闪耀光栅闪耀角的调控方法，包括在目标闪耀角小于光栅基底闪耀角前提下，根据基底制作闪耀角α0和目标闪耀角的差值，及最终衍射效率影响最小化原则，利用不同薄膜材料生长平滑特性，选取平滑层膜系结构和镀膜材料，获取镀膜后闪耀角随优化参数变化的变化曲线，根据变化曲线确定镀制参数，使得镀膜后闪耀角等于目标闪耀角。与现有技术相比，本发明提供了一种高线密度闪耀光栅闪耀角的修正方法，克服了高线密度闪耀光栅闪耀角难以自由调控导致应用能点受限，工作级次受限，衍射效率低等难题，提高高线密度多层膜闪耀光栅在目标级次的衍射效率。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115389537A
公开(公告)日：2022-11-25
申请号：CN202211030012.X
申请日：2022-08-26
Applicant: 同济大学
IPC: G01N23/20008 , G01N23/207 , G02B27/00 , G02B5/08 , G06F30/20
Abstract: 本发明公开了一种具有高通量的小焦斑中子聚焦系统，包括：将八个Montel型中子超镜进行环形布置，共焦点精密对准，使不同的物有共同的像；与中子超镜间隔设置的非球面反射镜基板；还包括以下步骤：S1、利用Zmax光学系统设计软件，构建拓展发散光源和聚焦系统的光学模型；S2、用光学追迹软件模拟计算光学系统的聚焦性能；S3、将光学元件的面形误差、反射率因素引入系统光学模型；S4、通过光学追迹，研究系统像差来源，结合实际应用需求，优化系统结构和器件尺寸，确定器件加工要求。根据本发明，具有高通量、小焦斑等优点，填补了中子聚焦在小尺寸高强度方面的空缺，实现了宽谱的适用于散裂中子源的聚焦。
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公开(公告)号：CN113253449B
公开(公告)日：2022-08-30
申请号：CN202110378331.9
申请日：2021-04-08
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种小角度高衍射效率多层膜矩形光栅结构优化设计方法，所述多层膜矩形光栅结构包括矩形光栅基底、周期多层膜和表面层，包括以下步骤：获取目标能点，对在该目标能点下不同材料对的周期多层膜获得的最高反射率进行排序；针对最高反射率高于或等于设定阈值的材料对，计算在设定的吸收层厚度与周期厚度比值下的平均折射率小量，选择平均折射率小量最小的材料对作为多层膜材料；选择在所述目标能点下吸收系数与折射率小量的比值最小的材料作为表面层材料；通过数值优化方法确定多层膜每个周期内吸收层占比和表面层厚度。与现有技术相比，本发明可以工作在更小工作角度，在保证较高效率的同时，提高分辨率。
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公开(公告)号：CN113253449A
公开(公告)日：2021-08-13
申请号：CN202110378331.9
申请日：2021-04-08
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种小角度高衍射效率多层膜矩形光栅结构优化设计方法，所述多层膜矩形光栅结构包括矩形光栅基底、周期多层膜和表面层，包括以下步骤：获取目标能点，对在该目标能点下不同材料对的周期多层膜获得的最高反射率进行排序；针对最高反射率高于或等于设定阈值的材料对，计算在设定的吸收层厚度与周期厚度比值下的平均折射率小量，选择平均折射率小量最小的材料对作为多层膜材料；选择在所述目标能点下吸收系数与折射率小量的比值最小的材料作为表面层材料；通过数值优化方法确定多层膜每个周期内吸收层占比和表面层厚度。与现有技术相比，本发明可以工作在更小工作角度，在保证较高效率的同时，提高分辨率。
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公开(公告)号：CN112342513A
公开(公告)日：2021-02-09
申请号：CN202011079375.3
申请日：2020-10-10
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种直线型多功能磁控溅射镀膜设备及镀膜方法，所述设备包括真空腔以及设置于所述真空腔内的移动机构、样品架以及多个靶枪机构，所述移动机构位于真空腔底部，贯穿真空腔，所述样品架设置于移动机构上，所述多个靶枪机构沿所述样品架移动方向排列设置，形成镀膜区域，以实现掠靶式直线镀膜；各所述靶枪机构包括沿溅射方向依次设置的靶枪基座、磁控溅射靶枪、气动挡板和掩膜板，所述磁控溅射靶枪通过多功能连接件安装于靶枪基座上，所述气动挡板连接有控制该气动挡板打开或关闭的控制件，所述掩膜板连接有升降件。与现有技术相比，本发明能够实现在同一块反射镜分区镀制不同结构膜系，降低制备周期，能满足实现不同尺寸反射镜的镀制。
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公开(公告)号：CN111996506A
公开(公告)日：2020-11-27
申请号：CN202010761773.7
申请日：2020-07-31
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种高反射率高纯度X射线多层膜反射镜的制备方法及反射镜，该方法包括以下步骤：1)在磁控溅射镀膜真空腔内的样品架上放置基板，该基板的表面粗糙度小于0.3纳米；2)对磁控溅射镀膜真空腔进行抽真空后，向该真空腔内充入高纯氪气作为溅射气体以调节磁控溅射镀膜真空腔内的工作气压，使工作气压接近等离子体稳定启辉的最低临界值，工作过程中，氪气气压变化幅度小于5％；3)开启直流磁控溅射电源，进行钯靶材和碳化硼靶材的预溅射；4)控制装有基板的样品架交替停留在钯靶材和碳化硼靶材的溅射区域，完成制备。与现有技术相比，本发明能够有效降低靶材反溅效果，保障成膜质量，具有工艺重复性好、可控性强等优点。
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