具有主动光学防抖功能的抗振型面阵扫频测距/厚的装置和方法

    公开(公告)号:CN112731345B

    公开(公告)日:2024-02-09

    申请号:CN202011517751.2

    申请日:2020-12-21

    Abstract: 本发明公开一种具有主动光学防抖功能的抗振型面阵扫频测距/厚的装置,涉及激光测距领域,包括第一二向色镜、分束器、第二二向色镜、镜头、相机、光谱仪、采集控制单元、可运动的部分反射元件,第一二向色镜的透射光方向上设分束器,分束器反射光方向上设载物台,在载物台和分束器之间设置可运动的部分反射元件,分束器具有四个端口,第一端口正对第一二向色镜,第二端口正对可运动的部分反射元件,第四端口的方向上设有第二二向色镜,第二二向色镜透射光方向上设置镜头,镜头与相机相连,相机与采集控制单元相连,第二二向色镜反射光方向上设置光谱仪,光谱仪连通采集控制单元。本发明装置能减小测量误差,其结构简单、测量快速、测量精度高。

    基于单次测量的薄膜参数计算方法、干涉测量装置和系统

    公开(公告)号:CN117146717A

    公开(公告)日:2023-12-01

    申请号:CN202311047561.2

    申请日:2023-08-17

    Abstract: 本发明公开了基于单次测量的薄膜参数计算方法、干涉测量装置和系统,属于微纳结构探测领域。本发明只需单次测量,就可以同时获得薄膜厚度分布及表面形貌,避免多次测量带来的测量误差,更适用于实际工业环境。对每个扫描点执行上述计算方法,得到每个扫描点的光程差信息,将其组合得到薄膜样品的表面形貌,由于薄膜厚度计算中引入补偿量函数,使一微米以下的薄膜表面形貌准确度更高。本发明适用于使用Linnik型干涉结构或Mirau型干涉结构,还适用于使用宽光谱光源或扫频光源,可根据工业场景灵活调整。

    具有主动光学防抖功能的放大型面阵扫频测距/厚的装置和方法

    公开(公告)号:CN112731344B

    公开(公告)日:2023-11-28

    申请号:CN202011517749.5

    申请日:2020-12-21

    Abstract: 本发明公开一种具有主动光学防抖功能的放大型面阵扫频测距/厚的装置,涉及激光扫频测距领域,包括第一、二二向色镜、分束器、镜头、相机、光谱仪、采集控制单元和可运动反射器件,第一二向色镜的透射光方向上设分束器,分束器反射光方向上设载物台,载物台和分束器之间设镜头,分束器有四个端口,第一端口正对第一二向色镜,第二端口正对镜头,第三端口正对可运动反射器件,第四端口正对第二二向色镜,第二二向色镜透射光方向上设置相机,相机与采集控制单元相连,第二二向色镜反射光方向上设光谱仪,光谱仪连通采集控制单元,采集控制单元具有采集相机和光谱仪的信号以及显示数据的功能。本发明装置结构简单、测量快速、测量精度高。

    一种样品形貌结构检测系统及方法

    公开(公告)号:CN117091534A

    公开(公告)日:2023-11-21

    申请号:CN202311083386.2

    申请日:2023-08-25

    Abstract: 本发明提供一种样品形貌结构检测系统及方法,包括:光源单元,用于发射光束;参考臂,用于将发射光束反射,提供第一路反射光束;测量臂,用于将所述发射光束传输至待测样品,并将从待测样品反射的光束收集,提供第二路反射光束;光分析成像模块,用于获取第一路反射光束和第二路反射光束的干涉光谱,并基于预先标定的测量臂反射光谱中峰值波数与待测样品表面位置的关系和第二路反射光束确定干涉光谱在傅里叶空间域的符号,以提取出待测样品的真实反射信号,并基于真实反射信号得到样品形貌结构信息。本发明无需多次傅里叶变换,无需添加色散元件,无需添加压电位移台、电光调制器、声光调制器等相移调制设备,并且仅需单次测量,测量时间缩短。

    一种多层折射样品形貌结构检测系统及方法

    公开(公告)号:CN116907383A

    公开(公告)日:2023-10-20

    申请号:CN202311089248.5

    申请日:2023-08-25

    Abstract: 本发明提供一种多层折射样品形貌结构检测系统及方法,方法包括:发射光束;获取发射光束反射得到的第一路反射光束;获取发射光束经色散元件和光学延迟单元传输至待测样品后从待测样品反射的第二路反射光束;光学延迟单元用于调制不同次测量的第二路反射光束的光程,使得不同次测量得到的待测样品形貌结构能够拼接;将第一路和第二路反射光束的干涉光谱进行分析成像,得到待测样品的形貌结构信息,并将不同次测量得到待测样品形貌结构信息拼接;第二路反射光束中每个反射界面的反射信号具有相同符号的非线性相位,使得光分析成像模块对干涉光谱相位补偿时真实信号被增强,真实信号共轭的镜像信号被抑制。本发明实现对大深径比样品的形貌检测。

    一种混杂颗粒系粒径分布反演方法与系统

    公开(公告)号:CN115127965B

    公开(公告)日:2022-12-02

    申请号:CN202211038130.5

    申请日:2022-08-29

    Abstract: 本发明公开了一种混杂颗粒系粒径分布反演方法与系统,属于光散射微小颗粒检测领域。包括:根据若干散射角度测量到的未知粒径分布的待测样品的光强自相关函数,通过累积量法计算在若干散射角度下待测样品的平均粒径,接着将该平均粒径输入至采用最优平滑因子训练好的混杂颗粒系粒径分布反演回归网络,最终得到待测样品的粒径分布曲线,所述最优平滑因子根据标定的动态光散射系统的噪声水平,评价并比较混杂颗粒系粒径分布反演回归网络反演效果得到。该方法适用于球形颗粒系、非球形颗粒系及存在多种不同性质与形态颗粒物的混杂颗粒系,且粒径分布反演速度快、效果好、非接触,可满足实际检测环境下的多种需求。

    一种光伏印刷网版的栅线提取方法及系统

    公开(公告)号:CN114972233A

    公开(公告)日:2022-08-30

    申请号:CN202210545211.8

    申请日:2022-05-19

    Abstract: 本发明提供一种光伏印刷网版的栅线提取方法及系统,包括:利用矩形和六边形的结构元素对图片进行灰度值闭运算,得到粗栅区域1和粗栅区域2;提取竖直型栅线区域。对粗栅区域1进行开运算得到竖直型栅线1;提取波浪型栅线。利用通过阈值分割得到的粗栅区域3和竖直型栅线进行差分运算得到波浪型栅线,并利用骨架抽取对波浪型栅线进行整形;提取图案栅线。利用粗栅区域2对竖直栅线1和波浪栅线2进行差分操作准确的提取图案栅线1。将分块提取的三种栅线进行组合得到网版的栅线。本发明实施例能够精确、快速的提取网版中的竖直型栅线、波浪型栅线和图案型栅线,提升了网版提升效率。

    一种物体成分均匀性的测定装置和测定方法

    公开(公告)号:CN112557345A

    公开(公告)日:2021-03-26

    申请号:CN202011372129.7

    申请日:2020-11-30

    Abstract: 本发明公开一种物体成分均匀性的测定装置,属于光学与晶体学领域,其包括激光源、扩束镜、波片、聚焦物镜、棱镜、载物台组件、位移平台、偏光显微镜、带通滤波片、物镜和滤光镜筒,扩束镜设置在激光光源的出射方向上,聚焦物镜设置在扩束镜出射光方向上,波片设置在扩束镜和聚焦物镜之间,棱镜设置在聚焦物镜出射光方向上,棱镜的底面用于设置待测样品,棱镜的顶面上悬置有偏光显微镜,聚焦物镜出射光对准棱镜的一个侧面,物镜镜头对准棱镜的另一个侧面,滤光镜筒设置在物镜的出射光方向上,滤光镜筒内设置有可调针孔和偏振片,在滤光镜筒和物镜之间设置有带通滤波片,待测样品设置在载物台组件上。本发明装置能够精确、简单地判定样品的成分。

    一种飞秒激光闭环加工系统

    公开(公告)号:CN110369859B

    公开(公告)日:2020-09-18

    申请号:CN201910648605.4

    申请日:2019-07-18

    Abstract: 本发明公开一种飞秒激光闭环加工系统及方法,属于飞秒激光加工领域。系统包括飞秒加工系统、飞秒测距系统、三维运动平台和处理器。加工系统和测距系统共用部分元器件。飞秒加工系统包括飞秒激光器、光隔离器、第一分束器和显微物镜。飞秒测距系统包括飞秒激光器、光隔离器、第一、二分束器、显微物镜、第一、二参考臂、耦合透镜、F‑P滤波器和光谱仪。被加工的物体放置在三维运动平台上,由处理器控制运动平台的运动、分析飞秒测距系统中光谱仪获取的信息,从而获得物体加工点的高度信息,进而反馈至飞秒加工系统,由此形成闭环控制。本发明还提供了相应的加工方法。本发明系统和方法可以实现对工件的高精度在线反馈加工。

    提高光电传感阵列测量折射率过程中数据处理精度的方法

    公开(公告)号:CN109142272A

    公开(公告)日:2019-01-04

    申请号:CN201810850002.8

    申请日:2018-07-28

    Abstract: 本发明公开了一种提高光电传感阵列测量折射率过程中数据处理精度的方法,属于测量与光学领域,其包括如下步骤,S1光电传感阵列器件探测得到光强数据,根据光强数据计算获得临界角对应的像素,S2取临界角对应的像素位置前后m个像素,一共为(2m+1)个像素,采集该(2m+1)个像素对应的反射率,以作为拟合数据,S3采用高斯拟合公式,对步骤S2获取的拟合数据进行高斯拟合,得到高斯拟合函数,S4:对步骤S3获得的高斯拟合函数求导,导函数为0即为高斯拟合峰值处,该峰值处对应为亚像素位置处。本发明方法在光电阵列器件测量折射率的自动化、快速的特点基础上,进一步地提高了折射率测量的精度。

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