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公开(公告)号：CN108827915B
公开(公告)日：2020-10-30
申请号：CN201810849568.9
申请日：2018-07-28
Applicant: 华中科技大学
IPC: G01N21/43
Abstract: 本发明公开了一种基于光电传感阵列测量折射率的亚像素位置获取方法，属于测量与光学领域，包括如下步骤：S1取临界角对应的像素位置前后各m个像素，一共为(2m+1)个像素，采集该(2m+1)个像素对应的反射率，以作为拟合数据，S2采用菲涅尔反射率公式，对步骤S1获取的拟合数据进行菲涅尔反射率拟合，得到菲涅尔拟合函数，S3对步骤S2获得的菲涅尔拟合函数求导，导函数的峰值点即为临界角对应的亚像素位置。本发明提供了一种基于光电传感阵列测量折射率的亚像素位置获取方法，其充分利用了阵列器件测量折射率的自动化、快速的特点，同时提高了折射率测量的精度。
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公开(公告)号：CN108732132B
公开(公告)日：2020-05-19
申请号：CN201810849972.6
申请日：2018-07-28
Applicant: 华中科技大学
IPC: G01N21/41
Abstract: 本发明公开了一种基于光电传感阵列测量折射率过程中数据处理方法，属于测量与光学领域，其包括如下步骤：S1光电传感阵列器件探测得到光强数据，根据光强数据计算获得临界角对应的像素，S2提取临界角对应的像素及该像素前后各一个像素，一共获得三个像素的信息，所述信息包括光强信息和坐标信息，计算获得该三个像素对应的反射率微分值；S3三个点能唯一确定一条抛物线，得到抛物线公式；S4对抛物线公式求导，导函数为0处即为抛物线峰值处，该峰值处对应为亚像素位置处。本发明方法结合了阵列器件测量折射率的自动化、快速的特点，同时提高了折射率测量的精度。
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公开(公告)号：CN109142272B
公开(公告)日：2020-06-09
申请号：CN201810850002.8
申请日：2018-07-28
Applicant: 华中科技大学
IPC: G01N21/41
Abstract: 本发明公开了一种提高光电传感阵列测量折射率过程中数据处理精度的方法，属于测量与光学领域，其包括如下步骤，S1光电传感阵列器件探测得到光强数据，根据光强数据计算获得临界角对应的像素，S2取临界角对应的像素位置前后m个像素，一共为(2m+1)个像素，采集该(2m+1)个像素对应的反射率，以作为拟合数据，S3采用高斯拟合公式，对步骤S2获取的拟合数据进行高斯拟合，得到高斯拟合函数，S4：对步骤S3获得的高斯拟合函数求导，导函数为0即为高斯拟合峰值处，该峰值处对应为亚像素位置处。本发明方法在光电阵列器件测量折射率的自动化、快速的特点基础上，进一步地提高了折射率测量的精度。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN108572160B
公开(公告)日：2020-05-19
申请号：CN201710148080.9
申请日：2017-03-14
Applicant: 华中科技大学
IPC: G01N21/41
Abstract: 本发明公开了一种折射率分布测量的折光计，属于测量与光学领域，其包括光源单元、光路调节单元、探测单元以及图像采集及处理单元，其中，光源单元用于产生平行光，光路调节单元用于根据设定的测量范围调节平行光光束大小，还用于调节平行光光束方向以使光束垂直入射至探测单元，探测单元包括棱镜和透镜阵列，透镜阵列贴合设置在棱镜的一个侧面上，其用于接受来自光路调节单元的平行光束，棱镜的底面贴合于待测对象的界面上，图像采集及处理单元用于接收从棱镜的另一个侧面出射的光斑，还用于对光斑进行图像处理，进而获得待测对象的折射率。本发明装置结构简单紧凑，能对折射率分布进行测量，测量精度较高。
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公开(公告)号：CN108827915A
公开(公告)日：2018-11-16
申请号：CN201810849568.9
申请日：2018-07-28
Applicant: 华中科技大学
IPC: G01N21/43
Abstract: 本发明公开了一种基于光电传感阵列测量折射率的亚像素位置获取方法，属于测量与光学领域，包括如下步骤：S1取临界角对应的像素位置前后各m个像素，一共为(2m+1)个像素，采集该(2m+1)个像素对应的反射率，以作为拟合数据，S2采用菲涅尔反射率公式，对步骤S1获取的拟合数据进行菲涅尔反射率拟合，得到菲涅尔拟合函数，S3对步骤S2获得的菲涅尔拟合函数求导，导函数的峰值点即为临界角对应的亚像素位置。本发明提供了一种基于光电传感阵列测量折射率的亚像素位置获取方法，其充分利用了阵列器件测量折射率的自动化、快速的特点，同时提高了折射率测量的精度。
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公开(公告)号：CN108732132A
公开(公告)日：2018-11-02
申请号：CN201810849972.6
申请日：2018-07-28
Applicant: 华中科技大学
IPC: G01N21/41
Abstract: 本发明公开了一种基于光电传感阵列测量折射率过程中数据处理方法，属于测量与光学领域，其包括如下步骤：S1光电传感阵列器件探测得到光强数据，根据光强数据计算获得临界角对应的像素，S2提取临界角对应的像素及该像素前后各一个像素，一共获得三个像素的信息，所述信息包括光强信息和坐标信息，计算获得该三个像素对应的反射率微分值；S3三个点能唯一确定一条抛物线，得到抛物线公式；S4对抛物线公式求导，导函数为0处即为抛物线峰值处，该峰值处对应为亚像素位置处。本发明方法结合了阵列器件测量折射率的自动化、快速的特点，同时提高了折射率测量的精度。
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公开(公告)号：CN108572160A
公开(公告)日：2018-09-25
申请号：CN201710148080.9
申请日：2017-03-14
Applicant: 华中科技大学
IPC: G01N21/41
Abstract: 本发明公开了一种折射率分布测量的折光计，属于测量与光学领域，其包括光源单元、光路调节单元、探测单元以及图像采集及处理单元，其中，光源单元用于产生平行光，光路调节单元用于根据设定的测量范围调节平行光光束大小，还用于调节平行光光束方向以使光束垂直入射至探测单元，探测单元包括棱镜和透镜阵列，透镜阵列贴合设置在棱镜的一个侧面上，其用于接受来自光路调节单元的平行光束，棱镜的底面贴合于待测对象的界面上，图像采集及处理单元用于接收从棱镜的另一个侧面出射的光斑，还用于对光斑进行图像处理，进而获得待测对象的折射率。本发明装置结构简单紧凑，能对折射率分布进行测量，测量精度较高。
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公开(公告)号：CN109142272A
公开(公告)日：2019-01-04
申请号：CN201810850002.8
申请日：2018-07-28
Applicant: 华中科技大学
IPC: G01N21/41
Abstract: 本发明公开了一种提高光电传感阵列测量折射率过程中数据处理精度的方法，属于测量与光学领域，其包括如下步骤，S1光电传感阵列器件探测得到光强数据，根据光强数据计算获得临界角对应的像素，S2取临界角对应的像素位置前后m个像素，一共为(2m+1)个像素，采集该(2m+1)个像素对应的反射率，以作为拟合数据，S3采用高斯拟合公式，对步骤S2获取的拟合数据进行高斯拟合，得到高斯拟合函数，S4：对步骤S3获得的高斯拟合函数求导，导函数为0即为高斯拟合峰值处，该峰值处对应为亚像素位置处。本发明方法在光电阵列器件测量折射率的自动化、快速的特点基础上，进一步地提高了折射率测量的精度。
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