公开(公告)号：CN104808266A

公开(公告)日：2015-07-29

申请号：CN201510031490.6

申请日：2015-01-22

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 世森光裕 ,  栗原政树 ,  关根康弘

IPC: G02B3/00 ,  G03F9/00 ,  H01L27/146

CPC classification number: H01L27/14685 ,  G02B3/0018 ,  G02B3/0043 ,  H01L27/14627

Abstract: 本公开内容涉及微透镜形成方法和固态图像传感器制造方法。一种微透镜形成方法包括：对第一构件和布置在第一构件上的第二构件进行蚀刻，第二构件包括凹凸形状；并且从第一构件形成微透镜，其中，在第一构件的蚀刻速率高于第二构件的蚀刻速率的条件下执行第一构件和第二构件的蚀刻，第一构件在凹部下面的部分在第二构件的蚀刻期间暴露，并且第一构件的曝光部分在第一构件的蚀刻时移除。

公开(公告)号：CN103928480A

公开(公告)日：2014-07-16

申请号：CN201410020040.2

申请日：2014-01-16

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 栗原政树 ,  下山大辅 ,  伊藤正孝 ,  渡边杏平

IPC: H01L27/146

CPC classification number: H01L27/14685 ,  H01L27/14621 ,  H01L27/14627

Abstract: 本发明公开了固态图像拾取设备及其制造方法。当在各滤色器之间形成中空部时，为了实现具有较窄宽度的中空部的形成，在半导体基板的上表面上形成多个光接收部，在半导体基板之上形成与各光接收部对应的多个滤色器，在各滤色器上形成光致抗蚀剂，在光致抗蚀剂的侧表面上形成侧壁，以及通过至少使用该侧壁作为掩模执行蚀刻来在各滤色器之间形成中空部。

公开(公告)号：CN102122115A

公开(公告)日：2011-07-13

申请号：CN201110000210.7

申请日：2011-01-04

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 栗原政树 ,  渡边杏平 ,  北村慎吾

IPC: G03F7/00 ,  G03F1/00 ,  G02B3/00 ,  H01L27/146

CPC classification number: G03F7/0005 ,  B29D11/00298 ,  G03F1/50 ,  H01L27/14685

Abstract: 本发明涉及光掩模数据的产生方法、光掩模的制作方法、具有微透镜阵列的固态图像传感器及微透镜阵列的制造方法。提供一种产生用于制作微透镜阵列的光掩模数据的方法，该光掩模在包含周边区域和主区域的各矩形区域中具有包含遮光部分和非遮光部分的微透镜图案，该周边区域具有矩形区域的四个边作为外边缘，该主区域具有作为周边区域的内边缘的边界，该周边区域由分别包含所述四个边中的一个作为其一部分的四个条带区域构成，并且，所述外边缘和所述内边缘之间的宽度不大于曝光用光的波长的1/2，该方法包括确定周边区域中的遮光部分和非遮光部分的布局，使得遮光部分的密度被设为落在0％～15％的范围内。