一种用于微波等离子体化学气相沉积法制备金刚石膜的基片台

    公开(公告)号:CN106929828B

    公开(公告)日:2023-05-23

    申请号:CN201710334592.4

    申请日:2017-05-12

    Abstract: 本发明公开一种用于微波等离子体化学气相沉积法制备金刚石膜的基片台,属于晶体合成技术领域。该基片台置于微波等离子体化学气相沉积金刚石膜装置反应腔体内的水冷台上,其结构包含用于放置沉积基底的中心凹槽、环形外凸出部、环形内凸出部、介于内外凸出部之间的环形凹槽及位于外凸出部外侧的外表面。该基片台独立于反应腔体及水冷台,用于放置沉积基底并在其上方形成均匀稳定的电场及等离子体分布,提高所制备的金刚石膜的均匀性,同时能够有效防止基片台非沉积区域生成的杂质溅射至沉积基底上污染金刚石膜。本发明具有设计制作简单、能够制备大面积金刚石膜、易于调节尺寸以适合制备不同尺寸及厚度的金刚石膜、制备的金刚石膜品质高等优点。

    一种医用放射性同位素生产装置

    公开(公告)号:CN112837838B

    公开(公告)日:2024-11-05

    申请号:CN202011330394.9

    申请日:2020-11-24

    Abstract: 本发明公开一种医用放射性同位素生产装置,包括用于产生电子束团的电子源、用于增强或回收电子束团能量的强流电子加速器、通过电子束团轰击产生γ射线的韧致辐射靶、用于引发核反应的核反应靶、用于收集电子束团的垃圾桶以及多个用于改变电子束团运动方向的磁铁和用于电子束团传输的传输段。本发明通过采用强流电子加速器,提高了电子束团的平均功率,从而提高放射性同位素生产效率,有利于提高产量;并且,通过对打靶后的电子剩余能量进行回收,使得装置具有高的能量利用率,有利于节能降耗。

    一种基于辐照剂量的快保护装置及方法

    公开(公告)号:CN113805222A

    公开(公告)日:2021-12-17

    申请号:CN202111068171.4

    申请日:2021-09-13

    Abstract: 本发明提供一种基于辐照剂量的快保护装置及方法,所述快保护装置包括X射线转换靶、X射线剂量仪、平板踢束器、踢束器电源和控制电脑;X射线转换靶安装在电子加速器产生的电子束的末端,X辐射转换靶的前端的电子束上安装平板踢束器,后端安装X射线剂量仪;X射线转换靶和X射线剂量仪之间放置被照物;平板踢束器通过电缆连接至踢束器电源;X射线剂量仪和平板踢束器电源通过数据线与控制电脑连接。本发明通过X射线剂量计实时监测被照物上的剂量,并采用平板踢束器能快速切断被照物上的X射线,由此本发明能够精确控制照射在被照物上的剂量值,能够应用于辐射放疗等对照射剂量要求较高的辐射应用中。

    一种医用放射性同位素生产装置

    公开(公告)号:CN112837838A

    公开(公告)日:2021-05-25

    申请号:CN202011330394.9

    申请日:2020-11-24

    Abstract: 本发明公开一种医用放射性同位素生产装置,包括用于产生电子束团的电子源、用于增强或回收电子束团能量的强流电子加速器、通过电子束团轰击产生γ射线的韧致辐射靶、用于引发核反应的核反应靶、用于收集电子束团的垃圾桶以及多个用于改变电子束团运动方向的磁铁和用于电子束团传输的传输段。本发明通过采用强流电子加速器,提高了电子束团的平均功率,从而提高放射性同位素生产效率,有利于提高产量;并且,通过对打靶后的电子剩余能量进行回收,使得装置具有高的能量利用率,有利于节能降耗。

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