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公开(公告)号：CN107164740A
公开(公告)日：2017-09-15
申请号：CN201710334072.3
申请日：2017-05-12
Applicant: 中国工程物理研究院应用电子学研究所
IPC: C23C16/27 , C23C16/458
CPC classification number: C23C16/274 , C23C16/4581 , C23C16/463
Abstract: 本发明公开一种采用微波等离子体化学气相沉积法制备金刚石膜的方法，属于晶体合成技术领域。该方法中，基片台置于微波等离子体化学气相沉积金刚石膜装置反应腔体内的水冷台上，其结构包含用于放置沉积基底的中心凹槽、环形外凸出部、环形内凸出部、介于内外凸出部之间的环形凹槽及位于外凸出部外侧的外表面。该基片台独立于反应腔体及水冷台，用于放置沉积基底并在其上方形成均匀稳定的电场及等离子体分布，提高所制备的金刚石膜的均匀性，同时能够有效防止基片台非沉积区域生成的杂质溅射至沉积基底上污染金刚石膜。本发明具有设计制作简单、能够制备大面积金刚石膜、适合于制备不同尺寸及厚度的金刚石膜、制备的金刚石膜品质高等优点。
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公开(公告)号：CN112291912B
公开(公告)日：2025-02-18
申请号：CN202011319587.4
申请日：2020-11-23
Applicant: 中国工程物理研究院应用电子学研究所
Inventor： 李鹏 , 王建新 , 周征 , 胡栋材 , 肖德鑫 , 吴岱 , 黎明 , 杨兴繁 , 王远 , 王孝忠 , 赵剑衡 , 陈门雪 , 鲁燕华 , 王汉斌 , 刘宇 , 单李军 , 沈旭明 , 和天慧 , 徐勇 , 周奎 , 劳成龙 , 罗星 , 白燕 , 闫陇刚 , 邓德荣 , 陈立均 , 刘婕 , 张德敏 , 潘清 , 柏伟 , 陈亚男 , 邓仕钰 , 李文君 , 宋志大 , 张成鑫 , 刘清华 , 李敬 , 李寿涛 , 李世根 , 程云 , 蒲晓媛 , 涂国锋 , 蔡哲 , 陈云斌 , 力涛 , 石正军 , 罗为 , 刘春林 , 张小丽 , 张冬 , 余虹 , 丁玉寿 , 李雷
IPC: H05G2/00 , G01N23/046 , G01B15/00
Abstract: 本发明公开一种高能微焦点X射线生产设备，包括用于生成高能电子束的电子源组件和用于被电子束轰击生成高能X射线的旋转靶设备，电子源组件生成的高能聚焦电子束轰击到旋转靶设备上生成高能微焦点X射线。本申请通过采用特定的电子源和直线加速器相配合，提供长宏脉冲高平均流强的电子束，再通过螺线管和强聚焦四极透镜组的聚焦，将长宏脉冲高平均流强的电子束横向尺寸在打靶位置聚焦到比较小的尺寸，并通过束斑测量组件对电子束横向尺寸进行精确测量控制，将束斑尺寸控制到0.1mm以下，实现高能微焦点X射线输出的目的。
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公开(公告)号：CN117517359A
公开(公告)日：2024-02-06
申请号：CN202311514847.7
申请日：2023-11-14
Applicant: 中国工程物理研究院应用电子学研究所
IPC: G01N23/046
Abstract: 本发明涉及一种基于双柱模体的扇束CT扫描平面共面校准方法，属于CT成像技术领域，在旋转平台边缘相间隔的固定两个等高的圆柱体，以旋转平台、X射线源为参照物，建立空间三维坐标系；设置旋转平台的初始位置，使两个圆柱体均脱离扫描平面，开启X射线源进行线扫描，旋转平台匀速升降，线阵探测器采集线扫描投影数据；分别调节X射线源与线阵探测器的相对高度、线阵探测器两个端部的相对高度，直至两个圆柱体在线扫描投影数据中同时出现，视为扇束CT扫描平面共面，本发明能够解决现有技术中扫描平面偏离理论模型影响扇束CT成像精度的技术问题。
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公开(公告)号：CN106929828A
公开(公告)日：2017-07-07
申请号：CN201710334592.4
申请日：2017-05-12
Applicant: 中国工程物理研究院应用电子学研究所
IPC: C23C16/458
CPC classification number: C23C16/4583
Abstract: 本发明公开一种用于微波等离子体化学气相沉积法制备金刚石膜的基片台，属于晶体合成技术领域。该基片台置于微波等离子体化学气相沉积金刚石膜装置反应腔体内的水冷台上，其结构包含用于放置沉积基底的中心凹槽、环形外凸出部、环形内凸出部、介于内外凸出部之间的环形凹槽及位于外凸出部外侧的外表面。该基片台独立于反应腔体及水冷台，用于放置沉积基底并在其上方形成均匀稳定的电场及等离子体分布，提高所制备的金刚石膜的均匀性，同时能够有效防止基片台非沉积区域生成的杂质溅射至沉积基底上污染金刚石膜。本发明具有设计制作简单、能够制备大面积金刚石膜、易于调节尺寸以适合制备不同尺寸及厚度的金刚石膜、制备的金刚石膜品质高等优点。
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公开(公告)号：CN114092594B
公开(公告)日：2022-04-08
申请号：CN202210076334.1
申请日：2022-01-21
Applicant: 中国工程物理研究院应用电子学研究所
IPC: G06T11/00
Abstract: 本申请属于锥束CT技术领域，具体公开一种锥束CT系统和轴对称外形样品的几何误差校正方法，包括：获取轴对称外形样品的投影图像，基于获取的投影图像构建二值图像；对二值图像进行Radon变换，求解样品形态的旋转误差，并基于旋转误差反向旋转校正投影图像；基于反向校正后的投影图像对称性，求解样品横向偏移误差，并基于横向偏移误差反向平移校正投影图像。本方法不需要使用标定体模，扫描流程得以简化，省去了设计、加工标定体模的成本，无需反复重建图像以动态调整几何参数，计算效率得以大幅提升，对样品仅有外形轴对称的要求，适用范围广泛。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114092594A
公开(公告)日：2022-02-25
申请号：CN202210076334.1
申请日：2022-01-21
Applicant: 中国工程物理研究院应用电子学研究所
IPC: G06T11/00
Abstract: 本申请属于锥束CT技术领域，具体公开一种锥束CT系统和轴对称外形样品的几何误差校正方法，包括：获取轴对称外形样品的投影图像，基于获取的投影图像构建二值图像；对二值图像进行Radon变换，求解样品形态的旋转误差，并基于旋转误差反向旋转校正投影图像；基于反向校正后的投影图像对称性，求解样品横向偏移误差，并基于横向偏移误差反向平移校正投影图像。本方法不需要使用标定体模，扫描流程得以简化，省去了设计、加工标定体模的成本，无需反复重建图像以动态调整几何参数，计算效率得以大幅提升，对样品仅有外形轴对称的要求，适用范围广泛。
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公开(公告)号：CN113225886B
公开(公告)日：2021-11-23
申请号：CN202110771076.4
申请日：2021-07-07
Applicant: 中国工程物理研究院应用电子学研究所
Inventor： 刘宇 , 吴岱 , 肖德鑫 , 李鹏 , 单李军 , 张鹏 , 王建新 , 周奎 , 周征 , 罗星 , 胡栋材 , 陈立均 , 和天慧 , 沈旭明 , 刘婕 , 邓德荣 , 邓仕钰 , 闫陇刚 , 劳成龙 , 王汉斌 , 潘清 , 王远 , 杨兴繁 , 黎明 , 金晓 , 赵剑衡 , 陈门雪 , 柏伟 , 张德敏 , 陈亚男 , 宋志大 , 白燕 , 张成鑫 , 刘清华 , 张小丽 , 程云 , 石正军 , 李敬 , 罗为 , 李雷 , 蒲晓媛 , 力涛 , 杨林德 , 崔玉柱
Abstract: 本发明属于放射装置技术领域，具体公开一种用于高能微焦点X射线的水冷旋转式辐射转换靶，包括沿靶面垂直方向水平移动的平移组件、设置于平移组件上的旋转驱动组件、传动连接于旋转驱动组件输出端的辐射转换靶以及套接于辐射转换靶外的真空腔室，所述辐射转换靶上设置有用于给辐射转换靶降温的冷却水路，所述旋转驱动组件与真空腔室之间设置有用于密封冷却水路的磁流体密封组件。通过对辐射转换靶靶盘增加水冷的冷却水路，对辐射转换靶靶盘进行水冷散热，以保护辐射转换靶；通过设置能在大气与真空环境之间传递旋转运动作用的磁流体密封组件，确保增加的冷却水路在辐射转换靶靶盘旋转过程中始终维持密封状态，从而实现辐射转换靶的正常运行。
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公开(公告)号：CN112333908A
公开(公告)日：2021-02-05
申请号：CN202011319588.9
申请日：2020-11-23
Applicant: 中国工程物理研究院应用电子学研究所
Inventor： 刘宇 , 王建新 , 肖德鑫 , 李鹏 , 胡栋材 , 周征 , 吴岱 , 黎明 , 杨兴繁 , 王远 , 王孝忠 , 赵剑衡 , 陈门雪 , 鲁燕华 , 王汉斌 , 单李军 , 沈旭明 , 和天慧 , 徐勇 , 周奎 , 劳成龙 , 罗星 , 白燕 , 闫陇刚 , 邓德荣 , 陈立均 , 刘婕 , 张德敏 , 潘清 , 柏伟 , 陈亚男 , 邓仕钰 , 李文君 , 宋志大 , 张成鑫 , 刘清华 , 李敬 , 李寿涛 , 李世根 , 程云 , 蒲晓媛 , 涂国锋 , 蔡哲 , 陈云斌 , 力涛 , 石正军 , 罗为 , 刘春林 , 张小丽 , 张冬 , 余虹 , 丁玉寿 , 李雷
IPC: H05G2/00 , G01N23/046
Abstract: 本发明公开一种用于高能微焦点X射线的旋转靶，包括用于分散电子束打靶能量的旋转靶和用于测量电子束束斑大小的束斑测量组件，所述旋转靶和束斑测量组件均可相对移动，使电子束在旋转靶和束斑测量组件的同一位置上形成的束斑。本申请通过提供一种可旋转的靶盘，分散电子束轰击靶盘的能量，通过在打靶前设置束斑测量靶以及移动机构，确保打到旋转靶上的电子束束斑分布尺寸可精确测量与控制，从而实现产生高能微焦点X射线的目的。
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公开(公告)号：CN107164740B
公开(公告)日：2019-05-07
申请号：CN201710334072.3
申请日：2017-05-12
Applicant: 中国工程物理研究院应用电子学研究所
IPC: C23C16/27 , C23C16/458
Abstract: 本发明公开一种采用微波等离子体化学气相沉积法制备金刚石膜的方法，属于晶体合成技术领域。该方法中，基片台置于微波等离子体化学气相沉积金刚石膜装置反应腔体内的水冷台上，其结构包含用于放置沉积基底的中心凹槽、环形外凸出部、环形内凸出部、介于内外凸出部之间的环形凹槽及位于外凸出部外侧的外表面。该基片台独立于反应腔体及水冷台，用于放置沉积基底并在其上方形成均匀稳定的电场及等离子体分布，提高所制备的金刚石膜的均匀性，同时能够有效防止基片台非沉积区域生成的杂质溅射至沉积基底上污染金刚石膜。本发明具有设计制作简单、能够制备大面积金刚石膜、适合于制备不同尺寸及厚度的金刚石膜、制备的金刚石膜品质高等优点。
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公开(公告)号：CN106929828B
公开(公告)日：2023-05-23
申请号：CN201710334592.4
申请日：2017-05-12
Applicant: 中国工程物理研究院应用电子学研究所
IPC: C23C16/458
Abstract: 本发明公开一种用于微波等离子体化学气相沉积法制备金刚石膜的基片台，属于晶体合成技术领域。该基片台置于微波等离子体化学气相沉积金刚石膜装置反应腔体内的水冷台上，其结构包含用于放置沉积基底的中心凹槽、环形外凸出部、环形内凸出部、介于内外凸出部之间的环形凹槽及位于外凸出部外侧的外表面。该基片台独立于反应腔体及水冷台，用于放置沉积基底并在其上方形成均匀稳定的电场及等离子体分布，提高所制备的金刚石膜的均匀性，同时能够有效防止基片台非沉积区域生成的杂质溅射至沉积基底上污染金刚石膜。本发明具有设计制作简单、能够制备大面积金刚石膜、易于调节尺寸以适合制备不同尺寸及厚度的金刚石膜、制备的金刚石膜品质高等优点。
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