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公开(公告)号：CN111465690A
公开(公告)日：2020-07-28
申请号：CN201880080218.9
申请日：2018-12-13
Applicant: 东洋炭素株式会社
Abstract: 本发明所要解决的技术问题在于：提供一种微生物容易附着于微生物固定化载体并且能够降低微生物固定化载体的制造成本和使用微生物固定化载体的装置的运行成本的微生物固定化载体。本发明解决技术问题的技术方案的微生物固定化载体的特征在于，其为含有碳成分和树脂，Zeta电位为－25mV以上0mV以下，并且表面和/或内部附着有微生物，希望上述微生物为硝化菌群，希望上述碳成分的粒度为1μm以上1000μm以下。
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公开(公告)号：CN103582621B
公开(公告)日：2016-03-02
申请号：CN201280025810.1
申请日：2012-05-24
Applicant: 东洋炭素株式会社
IPC: C01B31/36 , C01B31/02 , C01B31/04 , C04B35/52 , C04B35/565 , C04B35/573
CPC classification number: C04B35/622 , B82Y30/00 , C01B32/956 , C04B35/522 , C04B35/528 , C04B35/62836 , C04B35/62884 , C04B35/62886 , C04B35/62892 , C04B35/6316 , C04B35/63468 , C04B35/638 , C04B35/645 , C04B2235/3217 , C04B2235/3225 , C04B2235/3826 , C04B2235/3865 , C04B2235/3873 , C04B2235/425 , C04B2235/5445 , C04B2235/5454 , C04B2235/6023 , C04B2235/6565 , C04B2235/658 , C04B2235/666 , C04B2235/77 , C04B2235/80 , C04B2235/96 , C04B2235/9607
Abstract: 本发明提供一种新的碳化硅－碳复合材料的制造方法。通过对包含表面附着有氮化硅的碳质材料（2）的成型体进行烧制，制造碳化硅－碳复合材料（1）。
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公开(公告)号：CN102482165B
公开(公告)日：2014-01-22
申请号：CN201080039227.7
申请日：2010-09-01
Applicant: 东洋炭素株式会社
Abstract: 制造在石墨等碳基材的表面致密且均匀地包覆有碳化硅覆膜的碳化硅包覆碳基材。其特征在于，包括：准备在表面具有由没有悬空键的SP2碳结构构成的基部、和由具有悬空键的SP2碳结构构成的边缘部的碳基材的工序；和通过在温度1400～1600℃、压力1～150Pa的气氛中使碳基材的表面与SiO气体反应而形成碳化硅，制造由碳化硅所包覆的碳基材的工序。
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公开(公告)号：CN101296881B
公开(公告)日：2013-06-26
申请号：CN200680040106.8
申请日：2006-10-12
Applicant: 东洋炭素株式会社
IPC: C04B35/52 , C01B31/04 , H01J37/317
CPC classification number: H01J37/3171 , C04B35/522 , C04B35/532 , C04B2235/5436 , C04B2235/656 , C04B2235/77 , H01J37/16 , H01J2237/0213 , H01J2237/022 , H01J2237/31705
Abstract: 一种在高电流低能量型离子注入装置中用于离子注入装置束流线(beam line)内部部件的石墨部件，该石墨部件能够显著减少结合到晶片表面中的颗粒的数量。还提供了用于离子注入装置束流线内部部件的石墨部件，该部件具有1.80Mg/m3或更高的堆积密度和9.5μΩ·m或更低的电阻。优选地，在石墨部件的自然断裂(natural fracture)表面的拉曼光谱中用1370cm-1处的D谱带强度除以1570cm-1处的G谱带强度得到的R值为0.20或更低。
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公开(公告)号：CN101942670A
公开(公告)日：2011-01-12
申请号：CN201010275685.2
申请日：2004-12-17
Applicant: 东洋炭素株式会社
Abstract: 本发明提供一种气体生成装置，通过延长过滤器的使用寿命而能够长时间保护压力调整阀。本发明的气体生成装置是一种将电解槽内的电解液电解生成气体的气体生成装置，包括：将从气体生成装置中生成的不要成分除去的除去塔，将从上述除去塔排放的雾沫除去的过滤器，以及调整上述电解槽内的压力的压力调整阀，上述过滤器插入上述除去塔的下游，上述压力调整阀配置在上述过滤器的下游。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101213325B
公开(公告)日：2010-09-22
申请号：CN200780000033.4
申请日：2007-01-19
Applicant: 东洋炭素株式会社
CPC classification number: C25B1/245 , C25B11/0478 , C25B11/12
Abstract: 本发明的任务在于提供一种通过电解含氟化氢的熔盐而制造氟或三氟化氮的电解装置，此电解装置的优点在于可进行电解，而即使在大电流密度下也不会出现阳极效应，而且不会发生阳极溶解。在本发明中，此任务通过下面的电解装置完成，所述电解装置通过施加1到1000A/dm2的电流密度电解含氟化氢的熔盐以制造氟或三氟化氮，该电解装置以涂覆导电金刚石的电极作为阳极。
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公开(公告)号：CN100474523C
公开(公告)日：2009-04-01
申请号：CN200580023035.6
申请日：2005-07-06
Applicant: 东洋炭素株式会社 , 三井化学株式会社 , 住友大阪水泥株式会社
IPC: H01L21/3065 , C30B29/36 , C30B33/08
CPC classification number: H01L21/0445 , C30B29/36 , C30B33/08
Abstract: 本发明提供得到包括半导体领域等应用非常广泛的碳化硅单晶以及使用三氟化氮等离子体能够使碳化硅单晶平滑的碳化硅单晶的蚀刻方法。为了获得平滑性(表面粗糙度)在±150nm以内的碳化硅单晶以及该材料，对含有三氟化氮的气体进行等离子体激发，使碳化硅单晶表面平滑。并且，优选三氟化氮气体的压力为0.5～10Pa。另外，优选前述三氟化氮气体的流量为5～15sccm。
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公开(公告)号：CN1307325C
公开(公告)日：2007-03-28
申请号：CN01807654.8
申请日：2001-04-06
Applicant: 东洋炭素株式会社
Abstract: 一种对含氟化氢的混合熔融盐进行电解而生成高纯度的氟气用的氟气发生装置，由以下部分构成：被隔板28分成阳极室5和阴极室7的电解槽；分别向上述阳极室5和上述阴极室7供给气体，且将上述阳极室5和上述阴极室7维持在既定压力的压力维持机构50。
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公开(公告)号：CN1604970A
公开(公告)日：2005-04-06
申请号：CN02825158.X
申请日：2002-12-09
Applicant: 东洋炭素株式会社
Abstract: 本发明是对由KF·2HF组成的电解液(24)进行电解而发生高纯度F2气体的F2气体发生装置(G)，其特征在于有从KF或KF·HF制备成KF·2HF的制备系统(A)、和向前述电解液(24)及前述制备系统(A)供给HF的HF供给系统(B)、及对由前述制备系统(A)制备的KF·2HF进行电解而发生F2气体发生系统(C)。
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公开(公告)号：CN111479782B
公开(公告)日：2023-05-02
申请号：CN201880080293.5
申请日：2018-12-13
Abstract: 本发明所要解决的技术问题在于：提供能够飞跃性地缩短用于获得氮去除速度1kg－N/m3/day的起步时间的厌氧氨氧化菌群保持用载体、厌氧氨氧化菌群附着体和废水处理装置。本发明解决技术问题的技术方案的厌氧氨氧化菌群保持用载体的特征在于，含有碳颗粒，希望碳颗粒为石墨颗粒，特别是各向同性石墨颗粒，另外，希望Zeta电位为－35mV以上0mV以下，希望上述碳颗粒的平均粒径为2μm以上1000μm以下。
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