公开(公告)号：CN114072899A

公开(公告)日：2022-02-18

申请号：CN202080048704.X

申请日：2020-06-29

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 中野征二 ,  山胁阳平 ,  川口义广

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/677 ,  H01L21/683

Abstract: 一种分离装置，将处理对象体分离为第一分离体和第二分离体，所述分离装置具有：第一保持部，其保持所述第一分离体；第二保持部，其保持所述第二分离体；移动部，其使所述第一保持部和所述第二保持部相对地移动；以及转动部，其至少使所述第一分离体或所述第二分离体转动，以使所述第一分离体的分离面朝向上方且所述第二分离体的分离面朝向上方。

公开(公告)号：CN113924640A

公开(公告)日：2022-01-11

申请号：CN202080039357.4

申请日：2020-05-14

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 山胁阳平 ,  中野征二 ,  川口义广 ,  児玉宗久

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/683 ,  H01L21/687

Abstract: 一种基板加工装置，其具备：卡盘，其将基板保持为水平；加工单元，其将加工工具压靠于由所述卡盘保持着的状态的所述基板的外周，加工所述基板；以及下杯，其在所述基板的外周整周的范围内回收从所述基板落下的加工屑，在所述下杯形成有排出所述加工屑的排出口。

公开(公告)号：CN103056067A

公开(公告)日：2013-04-24

申请号：CN201210393846.7

申请日：2012-10-17

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 川口义广 ,  坂井光广

IPC: B05C5/02 ,  B05C13/02 ,  B05B13/04 ,  H01L21/677

Abstract: 本发明是一种涂布处理装置。该涂布处理装置可缩短处理动作的节拍时间，且防止因喷嘴的维护处理而导致的被处理基板的污染。本发明的涂布处理装置包括：喷嘴(31)，具有沿被处理基板(G)的宽度方向延伸的喷出口，在所述处理平台上的所述基板的上方沿基板搬送方向移动，并且从所述喷出口将处理液喷出至所述基板上；喷嘴移动机构(32)，可使所述喷嘴升降移动，且可使所述喷嘴向基板搬送方向上游侧或下游侧移动；喷嘴维护机构(35)，设置在基板搬送路径(4)的下方，且调整所述喷嘴的喷出口的状态；及空出区间形成机构(21)、(22)、(23A)、(23B)、(30)，可在所述基板搬送路径上的所述处理平台的上游侧或下游侧，自由出入地形成特定长度的空出区间(d)。

公开(公告)号：CN103043915A

公开(公告)日：2013-04-17

申请号：CN201210379859.9

申请日：2012-10-09

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 坂井光广 ,  川口义广

IPC: C03C17/00

CPC classification number: Y02E10/50 ,  Y02P70/521

Abstract: 本申请的发明涉及一种膜形成装置及膜形成方法。其目的在于缩小占地面积并且缩短处理线的长度、且实现装置成本的降低及生产率的提升。本发明的膜形成装置包括：涂布处理机构(6)，沿水平方向搬送被处理基板(G)，并且从具有在所述基板的宽度方向上较长的喷出口的喷嘴喷出所述涂布液，而在所述基板上形成涂布膜；第1加热处理机构(11)，在第1加热温度下加热形成着所述涂布膜的所述基板；及第2加热处理机构(12)，在高于所述第1加热温度的第2加热温度下加热由所述第1加热处理机构加热过的所述基板。

公开(公告)号：CN102270563A

公开(公告)日：2011-12-07

申请号：CN201110153706.8

申请日：2011-06-03

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 川口义广 ,  佐竹政纪 ,  八寻俊一

IPC: H01L21/00

Abstract: 本发明提供热处理装置、热处理方法和存储介质。包括：基板搬送机构(20)；形成对在基板搬送路搬送的被处理基板(G)的热处理空间的第一腔室(8)；能够变更加热或冷却温度的设定温度，能够将上述第一腔室内加热或冷却的第一加热·冷却机构(17、18)；设置于上述第一腔室的前段，对在上述基板搬送路搬送的上述被处理基板进行检测的基板检测机构(45)；和被供给上述基板检测机构的检测信号，并能够进行上述第一加热·冷却机构的控制的控制机构(40)，上述控制机构，在向着上述第一腔室搬送的多个被处理基板中最前头的被处理基板被上述基板检测机构检测到时，将上述第一加热·冷却机构的设定温度从第一温度变更到第二温度。

公开(公告)号：CN101625965B

公开(公告)日：2011-09-21

申请号：CN200910158485.6

申请日：2009-07-10

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 川口义广 ,  元松一骑

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/683 ,  H01L21/677

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，在该基板处理装置中，能够以不会受到浮起台的由于温度变化而引起的热膨胀或收缩的影响的稳定的基板交接间隙，通过平流式搬送，将基板搬入到浮起台上。预烘单元(PRE-BAKE)(48)，在基板搬送线上在位于浮起台(100)的比浮起面(100a)更靠向外侧的始端部(100b)上搭载有基板交接用的滚子搬送部(126)。该滚子搬送部(126)优选将多个陀螺形的自由滚子(128)在与基板搬送线正交的台宽度方向(Y方向)上配置成一列。基板(G)一边以滚子搬送方式在上游侧的驱动滚子搬送部(82)和浮起台始端部(100b)的自由滚子(128)之上水平移动，一边被搬入到浮起台上。

公开(公告)号：CN101625965A

公开(公告)日：2010-01-13

申请号：CN200910158485.6

申请日：2009-07-10

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 川口义广 ,  元松一骑

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/683 ,  H01L21/677

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，在该基板处理装置中，能够以不会受到浮起台的由于温度变化而引起的热膨胀或收缩的影响的稳定的基板交接间隙，通过平流式搬送，将基板搬入到浮起台上。预烘单元(PRE-BAKE)(48)，在基板搬送线上在位于浮起台(100)的比浮起面(100a)更靠向外侧的始端部(100b)上搭载有基板交接用的滚子搬送部(126)。该滚子搬送部(126)优选将多个陀螺形的自由滚子(128)在与基板搬送线正交的台宽度方向(Y方向)上配置成一列。基板(G)一边以滚子搬送方式在上游侧的驱动滚子搬送部(82)和浮起台始端部(100b)的自由滚子(128)之上水平移动，一边被搬入到浮起台上。

公开(公告)号：CN212659525U

公开(公告)日：2021-03-05

申请号：CN202020952391.8

申请日：2020-05-29

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 川口义广 ,  山胁阳平 ,  中野征二

IPC: H01L21/683 ,  H01L21/687

Abstract: 本实用新型提供一种基板处理装置，该基板处理装置能够形成多组以隔开恰当的间隔的方式相对的旋转流路与固定流路的组，能够针对这些组中的每个组控制气体的流动。基板处理装置具备：主轴，其使基板旋转；和气体轴承，其隔着气体层将所述主轴支承成旋转自由，在所述主轴的内部形成有多个供气体流动的旋转流路，在所述气体轴承的内部形成有多个供气体流动的固定流路，多个所述固定流路隔着所述气体层与不同的所述旋转流路相对。