纳米工艺下非对称MOS结构及其设计方法

    公开(公告)号:CN103137670A

    公开(公告)日:2013-06-05

    申请号:CN201110395462.4

    申请日:2011-12-03

    Abstract: 本发明提供了纳米工艺下非对称MOS结构及其设计方法。其中该结构包括:对于NMOS,栅到源端STI的距离小于栅到漏端STI的距离;对于PMOS,栅到漏端STI的距离小于栅到源端STI的距离。其中该方法包括:对于NMOS,将器件的栅到源端STI的距离缩小而将其栅到漏端STI的距离增大,这样可以在不增加器件面积的情况下提高器件性能;对于PMOS,将器件的栅到漏端STI的距离缩小而保持栅到源端STI的距离不变,这样可以在减小器件面积的情况下提高器件性能。

    层间层内电容的分离方法
    22.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103134993A

    公开(公告)日:2013-06-05

    申请号:CN201110397748.6

    申请日:2011-12-05

    Abstract: 本发明提出了一种金属层间层内电容的分离方法,以有效的分离金属层间、层内电容。该分离方法主要包括:测量平行金属板结构和combmeander结构的层间电容,测量金属结构combmeander的层内电容,测量平行金属板结构和金属结构comb之间的层间电容,测量平行金属板结构和金属结构meander之间的层间电容;combmeander的层内电容乘二再加上平行金属板结构各与结构comb、meander之间的层间电容,再减去平行金属板结构和combmeander结构之间的总电容,便分离出金属结构combmeander的层内电容。这种金属层间层内电容的分离方法能够更加精确有效的分离出层内电容。

    电容测试方法
    23.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102169141A

    公开(公告)日:2011-08-31

    申请号:CN201010113495.0

    申请日:2010-02-25

    Abstract: 本发明公开了多层互连线系统中电容测试方法,以提高电容测试的精确度,其中该方法包括步骤:依照测试信号施加方式,给多层互连线系统中各互连线均施加测试信号;在每次施加测试信号后,测试该多层互连线系统的整体电容值;根据测试出的整体电容值,以及整体电容值和待测电容值的数量关系,计算出待测电容值。

    原边控制恒流实现电路
    24.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113133159A

    公开(公告)日:2021-07-16

    申请号:CN201911390970.6

    申请日:2019-12-30

    Abstract: 本发明提供了一种适用于发光二极管(LED)驱动的原边控制恒流实现电路,以消除传统恒流实现电路中的光藕和分离运算放大器。对于工作于不连续模式的芯片来说,原边控制技术直接在变压器的辅助绕组采样输出电压,用电路采样输出端续流二极管放电的时间和芯片的工作周期,通过设定这两个时间的比值为常数以实现恒流。其中所述原边控制电路包括:电流基准产生模块,电流镜模块,采集输出二极管放电时间的模块,采集芯片工作周期的模块和比较器模块。电流基准产生模块产生电流基准,电流镜模块镜像不同的电流对两个电容充电,这两个电容分别采集续流二级管放电时间和工作周期,当两个电容的电压相等的时候打开功率开关管以实现恒流。

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