半导体器件
    21.
    发明公开
    半导体器件 审中-实审

    公开(公告)号:CN113903734A

    公开(公告)日:2022-01-07

    申请号:CN202110766100.5

    申请日:2021-07-07

    Abstract: 提供了一种半导体器件。该半导体器件包括:衬底;在衬底上在第一方向上延伸的有源图案;栅电极,在有源图案上在与第一方向交叉的第二方向上延伸;栅极间隔物,沿着栅电极的侧壁在第二方向上延伸;层间绝缘层,接触栅极间隔物的侧壁;沟槽,在层间绝缘层中形成在栅电极上;第一覆盖图案,沿着沟槽的侧壁提供,第一覆盖图案的至少一个侧壁具有倾斜的轮廓;以及第二覆盖图案,在沟槽中提供在第一覆盖图案上。

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