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公开(公告)号：CN116609996A
公开(公告)日：2023-08-18
申请号：CN202310651908.8
申请日：2017-07-03
Applicant: 三井化学株式会社 , 国立研究开发法人产业技术综合研究所
Abstract: 本发明提供EUV透射性进一步高的防护膜及其组件和组件框体、以及组件制造方法。此外，提供能够以此进行高精度的EUV光刻的、曝光原版、曝光装置和半导体装置的制造方法。本发明的防护膜是铺设在支撑框的开口部的曝光用防护膜，上述防护膜的厚度为200nm以下，上述防护膜包含碳纳米管片，上述碳纳米管片具备由多个碳纳米管形成的捆，上述捆的直径为100nm以下，上述捆在上述碳纳米管片中进行面内取向，上述防护膜的碳纳米管片的膜厚方向的峰强度与碳纳米管片的面内方向的峰强度之比RB为0.40以上。
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公开(公告)号：CN115735160A
公开(公告)日：2023-03-03
申请号：CN202180046004.1
申请日：2021-08-03
Applicant: 三井化学株式会社
Inventor： 小野阳介
IPC: G03F1/64
Abstract: 本发明提供一种防护膜组件(10)，其包含防护膜(12)和支撑防护膜的支撑框(14)，防护膜(12)包含碳含有率为40质量％以上的碳系膜，防护膜与支撑框接触，满足下述条件1和条件2中的至少一者。〔条件1〕支撑框的与防护膜接触的面的粗糙度Ra为1.0μm以下。〔条件2〕支撑框的位于与防护膜接触的一面侧且位于防护膜组件的内部侧的边缘部中的凹凸的宽度为10μm以下。
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公开(公告)号：CN115398334A
公开(公告)日：2022-11-25
申请号：CN202180027875.9
申请日：2021-04-02
Applicant: 三井化学株式会社 , 国立研究开发法人产业技术综合研究所
Abstract: 一种曝光用防护膜，其包含碳纳米管膜，碳纳米管膜含有碳纳米管，碳纳米管膜在波长13.5nm时的EUV光的透射率为80％以上，碳纳米管膜的厚度为1nm以上50nm以下，将碳纳米管膜配置于硅基板上，对于配置后的碳纳米管膜，使用反射分光膜厚度计，以下述条件测定反射率时，反射率的3σ为15％以下。＜条件＞测定点的直径：20μm，基准测定波长：波长285nm，测定点数：121点，相邻的测定点的中心点间距离：40μm。
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公开(公告)号：CN111919171A
公开(公告)日：2020-11-10
申请号：CN201980022551.9
申请日：2019-03-15
Applicant: 三井化学株式会社
Abstract: 本发明提供一种支撑框，其能够设置能够装卸地设置了过滤器的通气孔，粘贴极端紫外光光刻用的防护膜。本发明的一实施方式的支撑框是用于配置防护膜的支撑框，具备：贯通孔，其具有在与上述防护膜的面方向大致平行的第一方向上延伸的孔以及在与上述第一方向相交的第二方向上延伸的孔；以及过滤器，其设于上述贯通孔的内部或上述贯通孔的端部，并且从上述防护膜离开地配置。
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公开(公告)号：CN107924117A
公开(公告)日：2018-04-17
申请号：CN201680047788.9
申请日：2016-08-15
Applicant: 三井化学株式会社
IPC: G03F1/64
CPC classification number: G03F1/64 , B32B15/08 , B32B2311/24 , B32B2379/08 , C25D11/22
Abstract: 本发明的目的在于提供一种即便照射准分子光等短波长光也难以劣化，进而难以产生逸气或异物的防护膜组件框、使用其的防护膜组件。为了实现上述目的，设为如下的防护膜组件框，其为支撑防护膜的外周的防护膜组件框，包括框架和形成于所述框架的表面的含有聚酰亚胺树脂的膜。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106796391A
公开(公告)日：2017-05-31
申请号：CN201580046926.7
申请日：2015-09-18
Applicant: 三井化学株式会社
IPC: G03F1/64 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供远紫外光光刻用的防护膜组件、其制造方法以及曝光方法。本发明涉及的防护膜组件具备：配置有防护膜的第1框体；支持上述第1框体的第2框体；贯通上述第1框体的贯通孔；以及在上述第1框体的配置有上述防护膜的面侧覆盖上述贯通孔的过滤器。上述贯通孔可以贯通上述防护膜，上述过滤器可以配置在上述防护膜上。此外，上述过滤器可以与上述防护膜相邻地配置在上述第1框体上。
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公开(公告)号：CN106662806A
公开(公告)日：2017-05-10
申请号：CN201580046947.9
申请日：2015-09-17
Applicant: 三井化学株式会社
IPC: G03F1/64 , H01L21/027
CPC classification number: G03F1/64 , G03F7/2008 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供远紫外光光刻用的防护膜组件、其制造方法以及曝光方法。本发明涉及的防护膜组件具备：第1框体，该第1框体配置有防护膜；第2框体，该第2框体具有厚部和第2面，并将上述防护膜和上述第1框体从外侧包围，所述厚部包含第1面，所述第1面承接与上述第1框体的配置有上述防护膜的面相反侧的面，所述第2面与上述第1面连接并承接上述第1框体的侧面；贯通孔，该贯通孔配置在上述第2框体的上述厚部；以及过滤器，该过滤器配置在与配置有上述防护膜的上述第1框体的面交叉的上述第2框体的外侧的侧面，并覆盖上述贯通孔。
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公开(公告)号：CN102666676B
公开(公告)日：2015-11-25
申请号：CN201080050850.2
申请日：2010-11-11
Applicant: 三井化学株式会社
IPC: C08J5/18 , C08G18/38 , G02B5/30 , G02F1/1335
CPC classification number: C08J5/18 , B29C41/003 , B29D11/00788 , B29K2075/00 , B29L2011/00 , C08G18/3876 , C08G18/7621 , C08G18/7642 , C08G18/7671 , C08J2375/04 , C09D175/04 , G02B1/111 , G02B1/18 , G02B5/021 , G02B5/045 , G02B5/0841 , G02B5/208 , G02B5/3033 , G02B5/3083 , Y10T428/31551
Abstract: 本发明的膜的特征在于，由具有硫代氨基甲酸酯键的树脂构成，该树脂中含有的硫与氮的摩尔比(S/N)为0.8以上、小于3。根据本申请的发明提供一种在高折射率、低双折射率及透光性的均衡性方面优异的膜，进而，该膜在韧性、刚性、尺寸稳定性等机械特性的均衡性方面优异，加工时的变形等的影响极小，另外在耐溶剂性方面也优异。
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公开(公告)号：CN118707801A
公开(公告)日：2024-09-27
申请号：CN202411073173.6
申请日：2022-08-25
Applicant: 三井化学株式会社
Inventor： 小野阳介
IPC: G03F1/62 , G03F7/20 , C01B32/158 , B82Y30/00 , B82Y40/00
Abstract: 本发明涉及防护膜、防护膜组件、曝光原版、曝光装置和防护膜的制造方法，该防护膜，其包含多个碳纳米管且衍射峰比率为1.3以上，该多个碳纳米管的一部分形成多个管束，所述衍射峰比率表示：在利用透射电子显微镜对所述防护膜的表面进行观察得到的选区衍射图像中，第二高斯函数的高度与第一高斯函数的高度的比率。第二高斯函数为将第二绘制曲线拟合而得到的第二拟合函数的构成要素，第一高斯函数为将第一绘制曲线拟合而得到的第一拟合函数的构成要素，第一绘制曲线是相对于散射矢量q的、管束的来自管束格子的衍射强度弱的方向上的衍射强度的线形，第二绘制曲线是相对于散射矢量q的、所述衍射强度强的方向上的衍射强度的线形。
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公开(公告)号：CN117916662A
公开(公告)日：2024-04-19
申请号：CN202280061304.1
申请日：2022-09-12
Applicant: 三井化学株式会社
Abstract: 一种防护膜组件，其具备防护膜组件框、防护膜以及粘着层。粘着层的内壁面和外壁面的至少一者满足下述式(1)。式(1)：([A2s]/[A50s])≤0.97。式(1)中，A2s表示通过飞行时间型二次离子质谱法对粘着层的距表面的深度为第一深度的第一深部进行分析而得的粘着层的主剂成分所含的部分结构的归一化强度。第一深度是通过用氩气团簇离子束即溅射离子枪对表面的600μm见方的区域进行累计2秒照射而形成的。A50s表示通过飞行时间型二次离子质谱法对深度为第二深度的第二深部进行分析而得的粘着层的主剂成分所含的部分结构的归一化强度。第二深度是通过用上述溅射离子枪对上述区域进行累计50秒照射而形成的。
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