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公开(公告)号：CN1244019C
公开(公告)日：2006-03-01
申请号：CN01117666.0
申请日：1997-11-28
申请人： 株式会社尼康
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70216 , G03F7/70358 , G03F7/70425 , G03F7/70716 , G03F7/70733 , G03F9/70 , G03F9/7003 , G03F9/7015 , G03F9/7026 , G03F9/7088
摘要： 保持基片的2个载片台WS1、WS2可以在定位系统24a下的位置信息测量区域PIS和投影光学系统PL下的曝光区域EPS之间独立地移动。在上述WS1上正在进行晶片交换以及对位期间，可以在载片台WS2上曝光晶片W2。晶片WS1的各拍照区域的位置在区域PIS中被作为相对形成在载片台WS1上的基准标记的相对位置求出。因为相对位置信息在晶片WS1被移动到区域EPS被曝光时，用于相对曝光图形的对位，所以在载片台移动时不需要连续监视载片台的位置。通过使用2个晶片载片台WS1、WS2并行处理曝光动作就可以提高生产率。
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公开(公告)号：CN1367878A
公开(公告)日：2002-09-04
申请号：CN00808377.0
申请日：2000-05-30
申请人： 康宁股份有限公司
发明人： R·W·斯帕罗
CPC分类号： G03F7/70958 , C30B11/00 , C30B29/12 , G02B1/02 , G03F7/70216
摘要： 本发明提供了用于VUV光刻系统和过程的氟化物透镜晶体。本发明提供了用于157nm显微光刻元件中的氟化钡光刻晶体,该元件操作低于193nm的光刻光子。本发明包括用于低于160nm光刻过程中色散控制的氟化钡晶体材料。
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公开(公告)号：CN1322972A
公开(公告)日：2001-11-21
申请号：CN01117666.0
申请日：1997-11-28
申请人： 株式会社尼康
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027 , H01L21/30
CPC分类号： G03F7/70216 , G03F7/70358 , G03F7/70425 , G03F7/70716 , G03F7/70733 , G03F9/70 , G03F9/7003 , G03F9/7015 , G03F9/7026 , G03F9/7088
摘要： 保持基片的2个载片台WS1、WS2可以在定位系统24a下的位置信息测量区域PIS和投影光学系统PL下的曝光区域EPS之间独立地移动。在上述WS1上正在进行晶片交换以及对位期间,可以在载片台WS2上曝光晶片W2。晶片WS1的各拍照区域的位置在区域PIS中被作为相对形成在载片台WS1上的基准标记的相对位置求出。因为相对位置信息在晶片WS1被移动到区域EPS被曝光时,用于相对曝光图形的对位,所以在载片台移动时不需要连续监视载片台的位置。通过使用2个晶片载片台WS1、WS2并行处理曝光动作就可以提高生产率。
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公开(公告)号：CN1322971A
公开(公告)日：2001-11-21
申请号：CN01117665.2
申请日：1997-11-28
申请人： 株式会社尼康
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027 , H01L21/30
CPC分类号： G03F7/70216 , G03F7/70358 , G03F7/70425 , G03F7/70716 , G03F7/70733 , G03F9/70 , G03F9/7003 , G03F9/7015 , G03F9/7026 , G03F9/7088
摘要： 保持基片的2个载片台WS1、WS2可以在定位系统24a下的位置信息测量区域PIS和投影光学系统PL下的曝光区域EPS之间独立地移动。在上述WS1上正在进行晶片交换以及对位期间,可以在载片台WS2上曝光晶片W2。晶片WS1的各拍照区域的位置在区域PIS中被作为相对形成在载片台WS1上的基准标记的相对位置求出。因为相对位置信息在晶片WS1被移动到区域EPS被曝光时,用于相对曝光图形的对位,所以在载片台移动时不需要连续监视载片台的位置。通过使用2个晶片载片台WS1、WS2并行处理曝光动作就可以提高生产率。
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公开(公告)号：CN108267828A
公开(公告)日：2018-07-10
申请号：CN201810150904.0
申请日：2018-02-13
申请人： 佛山尉达科技有限公司
发明人： 不公告发明人
CPC分类号： G02B7/023 , G03F7/70216
摘要： 本发明公开了一种曝光系统，包括曝光腔室、光源组件、投影组件、承载台、固定支撑件、支撑框架；光源组件、投影组件和承载台均设置于曝光腔室内；光源组件用于产生曝光光线；投影组件设置有连杆构件、支撑构件以及驱动机构；驱动机构包括驱动器、滑轮、连接线，驱动器用于摆动透镜并将透镜保持在预定的角度；驱动器包括驱动主体和动力传递轴，圆盘状的滑轮安装在动力传递轴的前端；透镜的透镜主体的边缘部安装有两个轨道部件，第一、第二连接部件分别固定在轨道部件的左右方向的中间部分；支撑构件具有安装台，安装台包括支承构件和支撑部件，驱动器设置在支承构件的板状部的下表面。本发明能调整曝光系统中的投影组件的透镜的朝向。
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公开(公告)号：CN107367905A
公开(公告)日：2017-11-21
申请号：CN201710576149.8
申请日：2017-07-14
申请人： 北京师范大学
IPC分类号： G03F7/20 , G03F7/40 , G03F7/42 , C01B32/182
CPC分类号： G03F7/70216 , G03F7/40 , G03F7/42
摘要： 本发明涉及一种制备光刻胶-石墨烯材料的复合体系的方法，其包括：1)提供包含石墨烯材料和光刻胶的混合物；2)采用掩模图形版对由步骤1)得到的混合物进行曝光；和3)用显影液处理由步骤2)得到的曝光的材料以除去未交联部分，得到光刻胶-石墨烯材料的复合体系，其中所述石墨烯材料选自石墨烯、氧化石墨烯及其混合物。本发明方法工艺简单且所得复合体系具有高比表面积。所得复合体系适用于制备催化剂载体、表面吸附材料和微传感器。
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公开(公告)号：CN103282512B
公开(公告)日：2016-09-21
申请号：CN201180063540.9
申请日：2011-12-27
申请人： 萨尼根有限公司
CPC分类号： C12Q1/24 , G01N1/02 , G01N2001/028 , G02B27/18 , G03F7/70216 , G09F19/18
摘要： 本发明涉及收集微生物样品以用于制备韩国食品标准法典的微生物分析指南中的测试溶液。更具体地，本发明涉及一种利用非接触式划分系统从固体物质的表面收集微生物样品的方法以及一种用于划分固体物质的表面的装置，其中，采用使用光源的样品表面分区装置，从而利用光源在固体物质的表面形成最佳分区的样品面积而不引起固体物质的表面与操作者或分区工具之间的直接接触，该结果可防止固体材料的表面在分区期间被污染，并且可提高样品的精度，而且简化分区过程以能够连续工作并且缩短了处理该样品所需的时间，并且尤其是，用于划分固体材料的表面的装置可无限次重复利用以降低取样的成本。
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公开(公告)号：CN102770806B
公开(公告)日：2014-07-16
申请号：CN201080064274.7
申请日：2010-12-17
申请人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司
CPC分类号： G03F7/70316 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F1/24 , G03F7/70216
摘要： 为针对EUV光刻设备的掩模的高反射率而改进EUV光刻设备的掩模，提出了用于EUV光刻的反射掩模，所述反射多层系被构造用于EUV范围内的工作波长且具有在所述工作波长处具有不同折射率实部的至少两种材料的层的层堆，其中所述多层系（V）被构造为使得当所述多层系被固定波长的EUV辐射照射且最小和最大入射角之间的角度区间高至21°时，切趾小于30％。
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公开(公告)号：CN102253477B
公开(公告)日：2014-05-28
申请号：CN201110163295.0
申请日：2007-02-23
申请人： 株式会社尼康
发明人： 加藤正纪
CPC分类号： G02B17/0892 , G02B17/08 , G03F7/70216 , G03F7/70275 , G03F7/70791
摘要： 本发明是有关于一种反射折射投影光学系统，把配置于第1面的第1物体的放大像形成在配置于第2面的第2物体上，所述反射折射投影光学系统的特征在于包括：光束传送部，从所述第1面发出并沿着与所述第1面正交的方向行进的光，是在沿着所述第1面的第1方向传送，并使在所述第1方向已传送的光沿着与所述第1面正交的方向行进，并引导往所述第2面。
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公开(公告)号：CN103814331A
公开(公告)日：2014-05-21
申请号：CN201180073600.5
申请日：2011-09-21
申请人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司
发明人： J.哈特杰斯
CPC分类号： G03F7/702 , G02B7/1815 , G02B26/0866 , G03F7/70216 , G03F7/70266 , G03F7/708 , G03F7/70891
摘要： 本发明涉及在微光刻投射曝光设备中热致动反射镜的布置，其中反射镜(901)具有光学有效表面(901a)和至少一个进入通道(910、910’)，至少一个进入通道(910、910’)在所述有效表面的方向上从该反射镜的不对应于光学有效表面的表面延伸，其中该布置设计为利用在进入通道(910)中传播的电磁辐射热致动反射镜(901)，其中该布置还具有至少一个热辐射装置，其产生在进入通道(910、910’)中传播的电磁辐射，以及其中热辐射装置可沿着进入通道(910、910’)致动。
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