感辐射线性树脂组合物
    11.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101313247A

    公开(公告)日:2008-11-26

    申请号:CN200680043327.0

    申请日:2006-11-20

    CPC classification number: G03F7/2041 G03F7/0397

    Abstract: 本发明是提供感辐射线性树脂组合物,其能使液浸曝光方法所得的图案形状良好,且具有优良解像度及焦点深度充裕性,且对液浸曝光时所接触的折射率液体(浸渍液)的溶出物量较少,可形成在透镜及抗蚀膜之间介由波长193nm的折射率超过1.44但不足1.85的液浸曝光用液体照射辐射线的液浸曝光微影蚀刻法中所使用的抗蚀膜。该感辐射线性树脂组合物含有;含具有内酯结构的重复单元的碱不溶性或碱难溶性但在酸作用下可成为碱易溶性的树脂,及感辐射线性酸发生剂。

    染料和染料敏化太阳能电池

    公开(公告)号:CN1965034A

    公开(公告)日:2007-05-16

    申请号:CN200580018977.5

    申请日:2005-04-13

    Inventor: 王勇 松木安生

    CPC classification number: Y02E10/542

    Abstract: 本发明提供新型的染料以及使用该染料的染料敏化太阳能电池,所述染料在用于染料敏化太阳能电池时,显示高转换效率、优异的耐候性、耐热性。该染料如下式(1)所示:ML1L2X1X2…(1),式(1)中,M为元素周期表长表上的8~10族元素,L1和L2分别为含有特定联吡啶的二齿配体,X1和X2为一价原子基团或单齿配体。

    锍盐化合物、辐射敏感性酸产生剂和正型辐射敏感性树脂组合物

    公开(公告)号:CN100457749C

    公开(公告)日:2009-02-04

    申请号:CN200480002268.3

    申请日:2004-01-09

    Abstract: 提供一种在波长220nm以下的透明性优良,且作辐射敏感性酸产生剂时其感光度、分辨率、图案形状、LER、保存稳定性等性能优良的锍盐化合物以及以该化合物作为辐射敏感性酸产生剂的正型辐射敏感性树脂组合物。锍盐化合物用通式(1)表示。[R1表示卤素原子、烷基、1价的脂环烃基、烷氧基、-OR3基(R3为1价的脂环烃基。)等,R2表示(取代)烷基,或者2个以上的R2相互结合形成环状结构,p为0~7,q为0~6,n为0~3,X-表示磺酸阴离子。]正型辐射敏感性树脂组合物含有(A)由该锍盐化合物构成的辐射敏感性酸产生剂和(B)含有酸解离性基的树脂。

    浸液曝光用液体以及浸液曝光方法

    公开(公告)号:CN1943013A

    公开(公告)日:2007-04-04

    申请号:CN200580005118.2

    申请日:2005-05-19

    Abstract: 本发明的目的在于提供一种在浸液曝光方法中,折射率大于纯水,防止光致抗蚀膜或其上层膜成分的洗脱或溶解,能够抑制抗蚀图案生成时的缺陷的浸液曝光用液体、以及利用该液体的浸液曝光方法。一种浸液用曝光液体,其在通过投影光学系统的透镜和基板之间充满的液体进行曝光的浸液曝光装置或浸液曝光方法中使用,在浸液曝光装置工作的温度区域内是液体,是包含脂环烃化合物或在环结构中含有硅原子的环烃化合物。

    锍盐化合物、辐射敏感性酸产生剂和正型辐射敏感性树脂组合物

    公开(公告)号:CN1738813A

    公开(公告)日:2006-02-22

    申请号:CN200480002268.3

    申请日:2004-01-09

    Abstract: 提供一种在波长220nm以下的透明性优良,且作辐射敏感性酸产生剂时其感光度、分辨率、图案形状、LER、保存稳定性等性能优良的锍盐化合物以及以该化合物作为辐射敏感性酸产生剂的正型辐射敏感性树脂组合物。锍盐化合物用通式(1)表示。[R1表示卤素原子、烷基、1价的脂环烃基、烷氧基、-OR3基(R3为1价的脂环烃基。)等,R2表示(取代)烷基,或者2个以上的R2相互结合形成环状结构,p为0~7,q为0~6,n为0~3,X-表示磺酸阴离子。]正型辐射敏感性树脂组合物含有(A)由该锍盐化合物构成的辐射敏感性酸产生剂和(B)含有酸解离性基的树脂。

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