从射束中去除了中性粒子的像差校正维恩ExB滤质器

    公开(公告)号:CN102737932B

    公开(公告)日:2016-08-17

    申请号:CN201210107940.1

    申请日:2012-04-13

    Applicant: FEI公司

    Abstract: 本发明涉及从射束中去除了中性粒子的像差校正维恩ExB滤质器。一种用于离子束系统的滤质器包括至少两级并且降低色像差。一个实施例包括两个对称滤质器级,所述两个对称滤质器级的结合降低或者消除了色像差以及入口和出口边缘场误差。实施例也可以防止中性粒子抵达样本表面以及避免射束路径中的交叉。在一个实施例中,所述过滤器能够使来自生成多个种类的源的单一离子种类通过。在其他实施例中,所述过滤器能够使具有一定能量范围的单一离子种类通过并将所述多能量离子聚焦到衬底表面上的同一点。

    组合激光器和带电粒子束系统

    公开(公告)号:CN102812533B

    公开(公告)日:2015-12-02

    申请号:CN201180016692.3

    申请日:2011-04-07

    Applicant: FEI公司

    Abstract: 一种组合激光器和带电粒子束系统。脉冲激光使得能够以比针对聚焦离子束的可能的材料去除速率大几个数量级的材料去除速率实现样本的铣削。在某些实施例中,扫描电子显微镜使得能够在激光处理期间实现样本的高分辨率成像。在某些实施例中,聚焦离子束使得能够实现样本的更精确铣削。用于在激光铣削期间将成像检测器去激活的方法和结构使得能够去除由于检测器饱和而引起的成像伪像,所述检测器饱和是由于由激光束产生的等离子体羽流。在某些实施例中,采用两种类型的检测器:类型1检测器在用电子或离子束进行样本的扫描期间提供高增益成像,而类型2检测器使得能够在激光铣削期间实现较低增益的成像和端点检测。

    从射束中去除了中性粒子的像差校正维恩ExB滤质器

    公开(公告)号:CN102737932A

    公开(公告)日:2012-10-17

    申请号:CN201210107940.1

    申请日:2012-04-13

    Applicant: FEI公司

    Abstract: 本发明涉及从射束中去除了中性粒子的像差校正维恩ExB滤质器。一种用于离子束系统的滤质器包括至少两级并且降低色像差。一个实施例包括两个对称滤质器级,所述两个对称滤质器级的结合降低或者消除了色像差以及入口和出口边缘场误差。实施例也可以防止中性粒子抵达样本表面以及避免射束路径中的交叉。在一个实施例中,所述过滤器能够使来自生成多个种类的源的单一离子种类通过。在其他实施例中,所述过滤器能够使具有一定能量范围的单一离子种类通过并将所述多能量离子聚焦到衬底表面上的同一点。

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