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公开(公告)号：CN102861521A
公开(公告)日：2013-01-09
申请号：CN201210234338.4
申请日：2012-07-06
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
Inventor： 广濑治道
IPC: B01F5/00 , B01F3/04 , H01L21/304 , B08B3/08
Abstract: 提供能够以最低限度的压力进行送液、使气体溶解于液体的气液混合流体生成装置、气液混合流体生成方法、处理装置以及处理方法。实施方式的气液混合流体生成装置（3）具备：容器（3a）；液体供给流路（3b），与该容器（3a）内连通，用于将溶解有气体的液体向容器（3a）内供给；内压调整部（3d），能够将容器（3a）切换为密闭状态和开放状态，在从液体供给流路（3b）向容器（3a）进行送液的期间，使容器（3a）为开放状态而使容器（3a）的内压小于将液体供给流路（3b）内的液体向容器（3a）推压的压力；以及气体供给流路（3e），与容器（3a）内连通，用于向供给了液体的密闭状态的容器（3a）内的空间供给气体。
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公开(公告)号：CN101114576B
公开(公告)日：2010-07-21
申请号：CN200710136984.6
申请日：2007-07-26
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
Inventor： 广濑治道
IPC: H01L21/00 , H01L21/67 , F26B21/00 , G02F1/13 , G02F1/1333
Abstract: 本发明提供一种基板的处理装置，对以规定的角度倾斜搬运的基板进行干燥处理时，防止基板从支持背面的支持辊浮起，该处理装置具备：腔；支持辊，设置在该腔内，并支持基板的倾斜方向下侧的背面；驱动辊，将背面由支持辊支持的基板的下端，用该驱动辊的外周面支持并旋转驱动，由此在规定方向上搬运上述基板；气刀(61)，与基板的倾斜方向上侧的前面和下侧的背面之间的高度方向的大致全长相对置地配置，并向基板的搬运方向上游侧喷射气体；及前面整流板(64)，在基板的前面的比喷气机构更靠基板的搬运方向上游侧，与上述基板的前面对置设置，并引导从喷气机构喷射的气体沿着基板的前面流动。
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公开(公告)号：CN101061761A
公开(公告)日：2007-10-24
申请号：CN200480044442.0
申请日：2004-11-19
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
Inventor： 广濑治道
IPC: H05K3/26 , H01L21/304
CPC classification number: H01L21/67712 , B65G49/063 , B65G49/067 , B65G2249/02 , H01L21/67721 , H01L21/67748 , H01L21/67751 , H01L21/6776 , H05K3/0085 , H05K2203/1527 , H05K2203/1554
Abstract: 本发明的处理基板的处理装置具备：输送机构(28)，将基板以立位状态输送；处理部(4)，对由该输送机构以立位状态输送的基板进行规定的处理；装载部(2)，将基板交接给该处理部；以及卸载部(3)，接受由上述处理部处理后的基板。上述装载部和上述卸载部的至少一个具备：交接体(6)，可旋转地设置，具有供给载置上述基板的支撑面(5)；以及马达(11)，旋转驱动该交接体，以规定的倾斜角度定位该交接体的支撑面。
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公开(公告)号：CN101114573B
公开(公告)日：2011-04-13
申请号：CN200710136755.4
申请日：2007-07-27
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/30 , H01L21/306 , H01L21/67 , G02F1/1333 , B08B3/02
Abstract: 本发明提供一种基板的处理装置，防止以规定的角度倾斜搬运的基板从支持背面的支持辊上浮起。一种基板的处理装置，将基板以规定的角度倾斜搬运并用处理液处理，具备：腔(3)；支持辊(14)，设在腔内，并支持基板的倾斜方向下侧的背面；驱动辊(17)，将由支持辊支持背面的基板的下端，利用外周面支持并旋转驱动，由此在规定方向上搬运基板；喷嘴体(62)，向基板的倾斜方向上侧的前面喷射处理液；及流体回流防止部件(65)，设置在与被搬运的基板的背面对置的腔的后壁内表面，防止从喷嘴体喷射后冲撞腔的壁内表面而反射的处理液与基板的背面接触。
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公开(公告)号：CN100582886C
公开(公告)日：2010-01-20
申请号：CN200610165985.9
申请日：2006-12-12
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
Inventor： 广濑治道
IPC: G02F1/1333 , B65G49/06 , B65G13/00 , B65G39/02
Abstract: 本发明提供一种处理装置，可容易进行设有输送基板的驱动辊的驱动轴的组装。处理装置具有：处理腔(12)；多个支承辊(14)，可旋转，沿基板的输送方向及与输送方向交叉的上下方向设置在处理腔中，并支承基板的倾斜方向的下侧的面；多个驱动辊(17)，沿基板的输送方向以规定间隔设置，支承以规定角度倾斜的基板的下端；驱动机构(18)，对驱动辊进行旋转驱动并将支承在支承辊上的基板向规定方向输送，驱动机构包括：基座部件，安装在处理腔；多个驱动轴，以规定间隔可旋转地支承在基座部件上，并在向处理腔内突出的前端可装卸地设有驱动辊；及动力传递部件，设置在驱动轴的位于处理腔的外部的后端，将来自驱动源的动力传递到驱动轴使驱动轴旋转。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1903683B
公开(公告)日：2012-04-11
申请号：CN200610107462.9
申请日：2006-07-25
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
IPC: B65G49/06 , G02F1/1333
Abstract: 提供一种基板处理装置，不仅减小设置空间，而且能够在相同场所进行基板的供给和送出。该基板处理装置具有：装置主体(1)；输送辊，设置在装置主体上，将基板以规定角度倾斜地输送；处理部(3)，对由输送辊输送的基板进行处理；上部输送部(4)，设置于装置主体的上部，将基板在水平状态下向与倾斜输送的输送方向相反的方向输送；倾斜交接单元(61)，设置在装置主体的至少一端，接受由上部输送部水平地输送的基板，使该基板下降的同时倾斜至规定角度，并交接给输送辊。
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公开(公告)号：CN1676231B
公开(公告)日：2011-09-07
申请号：CN200510068565.4
申请日：2005-03-29
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
Abstract: 本发明提供了一种基板的处理装置，可以使腔内的气体相对该腔的宽度方向和长度方向均匀地排出。该装置具有装置主体(1)、传送辊(17)、主排气通道(6)以及多个分支排气通道(8)，其中装置主体(1)形成用处理液进行处理的腔(5a，5c)，传送辊(17)沿着上述腔内的预定方向传送基板，主排气通道(6)位于基板的上方，沿基板的传送方向设置在与基板传送方向相交叉的上述腔的宽度方向的中央部分上，分支排气通道(8)的一端连通上述主排气通道，另一端位于腔宽度方向的端部以形成抽吸腔内气体的抽气口(9)，并且分支排气通道(8)以主排气通道为中心在上述腔的宽度方向上对称地设置。
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公开(公告)号：CN101114573A
公开(公告)日：2008-01-30
申请号：CN200710136755.4
申请日：2007-07-27
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/30 , H01L21/306 , H01L21/67 , G02F1/1333 , B08B3/02
Abstract: 本发明提供一种基板的处理装置，防止以规定的角度倾斜搬运的基板从支持背面的支持辊上浮起。一种基板的处理装置，将基板以规定的角度倾斜搬运并用处理液处理，具备：腔(3)；支持辊(14)，设在腔内，并支持基板的倾斜方向下侧的背面；驱动辊(17)，将由支持辊支持背面的基板的下端，利用外周面支持并旋转驱动，由此在规定方向上搬运基板；喷嘴体(62)，向基板的倾斜方向上侧的前面喷射处理液；及流体回流防止部件(65)，设置在与被搬运的基板的背面对置的腔的后壁内表面，防止从喷嘴体喷射后冲撞腔的壁内表面而反射的处理液与基板的背面接触。
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公开(公告)号：CN1903683A
公开(公告)日：2007-01-31
申请号：CN200610107462.9
申请日：2006-07-25
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
IPC: B65G49/06 , G02F1/1333
Abstract: 提供一种基板处理装置，不仅减小设置空间，而且能够在相同场所进行基板的供给和送出。该基板处理装置具有：装置主体(1)；输送辊，设置在装置主体上，将基板以规定角度倾斜地输送；处理部(3)，对由输送辊输送的基板进行处理；上部输送部(4)，设置于装置主体的上部，将基板在水平状态下向与倾斜输送的输送方向相反的方向输送；倾斜交接单元(61)，设置在装置主体的至少一端，接受由上部输送部水平地输送的基板，使该基板下降的同时倾斜至规定角度，并交接给输送辊。
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公开(公告)号：CN1676231A
公开(公告)日：2005-10-05
申请号：CN200510068565.4
申请日：2005-03-29
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
Abstract: 本发明提供了一种基板的处理装置，可以使腔内的气体相对该腔的宽度方向和长度方向均匀地排出。该装置具有装置主体(1)、传送辊(17)、主排气通道(6)以及多个分支排气通道(8)，其中装置主体(1)形成用处理液进行处理的腔(5a，5c)，传送辊(17)沿着上述腔内的预定方向传送基板，主排气通道(6)位于基板的上方，沿基板的传送方向设置在与基板传送方向相交叉的上述腔的宽度方向的中央部分上，分支排气通道(8)的一端连通上述主排气通道，另一端位于腔宽度方向的端部以形成抽吸腔内气体的抽气口(9)，并且分支排气通道(8)以主排气通道为中心在上述腔的宽度方向上对称地设置。
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