公开(公告)号：CN100392035C

公开(公告)日：2008-06-04

申请号：CN200410043512.2

申请日：2004-05-09

Applicant: 福吉米株式会社

Inventor： 宇野贵规 ,  杉山博保 ,  大胁寿树

IPC: C09G1/02

CPC classification number: C09G1/02 ,  C09K3/1409 ,  C09K3/1463

Abstract: 本发明设计一种适合用于抛光磁盘基片的抛光组合物。该抛光组合物包括含有α-氧化铝作为主要组分的氧化铝颗粒、热解法氧化铝、含有选自有机酸、无机酸和这些酸的盐中的至少一种组分的抛光加速剂、以及水。

公开(公告)号：CN101012313A

公开(公告)日：2007-08-08

申请号：CN200610103020.7

申请日：2003-05-30

Applicant: 福吉米株式会社

Inventor： 石桥智明 ,  杉山博保 ,  大脇寿树

IPC: C08J5/14

CPC classification number: C09K3/1463 ,  C09G1/02

Abstract: 本发明提供一种能够防止磁盘基片表面的外周部分被过度研磨的研磨用组合物。依照本发明的第一研磨用组合物包括由上面的通式表示的化合物，字母X表示聚醚多元醇的残基，字母m表示与一个聚醚多元醇分子中的羟基数相等的数字，字母Y表示二价烃基，字母Z表示具有活性氢原子的单价化合物的残基，字母n表示等于或者大于3的整数。依照本发明的第二研磨用组合物包括具有衍生自异戊二烯磺酸或其盐的单体单元的聚合物。