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公开(公告)号：CN102016988A
公开(公告)日：2011-04-13
申请号：CN200980116115.4
申请日：2009-03-03
Applicant: 昭和电工株式会社
Inventor： 福岛正人
CPC classification number: G11B5/855 , G11B5/8408
Abstract: 一种磁记录介质，其具有磁记录图形，其中通过形成边界区域的凹部来隔离形成磁性层的磁记录区域的凸部。在所述磁性层上，形成连续的碳保护膜。所述凸部上的所述碳保护膜被形成为比所述凹部上的所述碳保护膜厚。所述碳保护膜是通过CVD方法形成的。所述凹部的边界区域优选具有通过将该区域暴露到等离子体等而改性的磁特性。所述磁记录介质的所述磁记录区域不容易被侵蚀，从而所述磁记录介质具有高的环境耐性。
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公开(公告)号：CN101981619A
公开(公告)日：2011-02-23
申请号：CN200980111091.3
申请日：2009-03-30
Applicant: 昭和电工株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够将涂液均匀地涂布在被处理基板的两面上并在被处理基板的两面上形成均匀的涂膜的双面涂布装置。双面涂布装置(1)包括以被处理基板(2)的厚度方向为水平方向的方式保持被处理基板(2)的保持机构(3a)、使被处理基板(2)沿周向旋转的旋转驱动机构、将涂液喷出到被处理基板(2)的一个主面(2a)上的第一涂液用喷嘴(18a)、和将涂液喷出到被处理基板(2)的另一主面(2b)上的第二涂液用喷嘴(18b)。第一涂液用喷嘴(18a)和第二涂液用喷嘴相对于被处理基板(2)的厚度中心面对称配置。提供一种边缘清洗装置，能够正确稳定地仅对基板的外缘部的一定宽度进行清洗，即使应该清洗的外缘部的宽度窄，也能轻易地控制要清洗的外缘部的宽度。
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公开(公告)号：CN101809658A
公开(公告)日：2010-08-18
申请号：CN200880109314.8
申请日：2008-07-24
Applicant: 昭和电工株式会社
CPC classification number: G11B5/855 , B82Y10/00 , G11B5/743 , G11B5/746 , G11B5/82 , G11B5/865 , Y10T29/49025 , Y10T29/4903 , Y10T29/49032
Abstract: 本发明提供一种制造具有磁分离了的磁记录图形的磁记录介质的方法，该方法的特征在于，包括按以下的(1)～(3)的顺序进行实施的3个工序：(1)在非磁性基板上形成磁性层的工序；(2)除去将磁性层磁分离的区域的磁性层表层部分的工序；(3)将通过除去该磁性层表层部分而露出的磁性层区域的表面暴露于反应性等离子体或反应性离子，降低该磁性层区域的矫顽力和残余磁化，由此形成被具有改性了的磁特性的磁性层区域磁分离的磁记录图形的工序。根据该方法能够高生产率地制造具有增大的记录密度并且消除了磁记录时溢写的磁记录介质。
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公开(公告)号：CN101681629A
公开(公告)日：2010-03-24
申请号：CN200880019557.2
申请日：2008-06-17
Applicant: 昭和电工株式会社
Abstract: 本发明旨在提供一种制造磁记录介质的方法，其是一种制造具有磁性分离的磁记录图形的磁记录介质的方法，所述方法包括：在非磁性基底上形成磁性层；然后将所述磁性层的表面部分地暴露到反应性等离子体或在所述等离子体中产生的反应性离子，以使所述磁性层的该部分非晶化。
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公开(公告)号：CN101401154A
公开(公告)日：2009-04-01
申请号：CN200780008569.0
申请日：2007-02-06
Applicant: 昭和电工株式会社
Abstract: 一种制造磁记录介质(30)的方法，包括在非磁性基底(1)的至少一侧上沉积磁性层或含Co磁性层(3)以及将原子部分地注入到磁性层或含Co磁性层中以部分地非磁性化磁性层或含Co磁性层的步骤，从而形成非磁性部分(4)和通过非磁性部分磁性分离的磁记录图形，且在含Co磁性层的情况下，使由X射线衍射确定的含Co磁性层的相关部分的Co(002)或Co(110)峰值强度降低至1/2以下。一种磁记录和再现装置包括磁记录介质(30)、用于在记录方向上驱动磁记录介质的驱动部件(26)、由记录部件和再生部件组成的磁头(27)、用于使磁头相对于磁记录介质运动的机构(28)、以及适于使信号进入磁头并从磁头再生输出信号的记录和再现信号处理机构(29)。
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公开(公告)号：CN101203909A
公开(公告)日：2008-06-18
申请号：CN200680022097.X
申请日：2006-06-30
Applicant: 昭和电工株式会社
Abstract: 本发明提供一种磁记录介质基底产品，该基底产品能够增强基底端面和软磁层之间的接触强度，并能抑制腐蚀的发生，还提供一种包含所述基底产品的磁记录介质，该磁记录介质显示出没有退化的电磁转换特性并具有非常好的耐用性，还提供一种包含所述磁记录介质的磁记录和再现装置。所述磁记录介质基底产品包括一种圆盘形非磁性基底，该基底在其中心部分有圆孔，并且在将要在上面形成磁性层的主表面与外端面之间的部分以及所述主表面与界定所述圆孔的内端面之间的部分中的至少一个部分处形成斜切面，其中，通过AFM测量到的所述斜切面的表面粗糙度(Ra)在4.0≤Ra≤100范围内，优选是落在4.0≤Ra≤50的范围内。
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公开(公告)号：CN113053420A
公开(公告)日：2021-06-29
申请号：CN202011462334.2
申请日：2020-12-10
Applicant: 昭和电工株式会社
Abstract: 本发明提供一种对于来自外部的较强振动、冲击的耐受性较高的记录再现装置，包括：圆盘状的记录介质；电动机，其用于旋转驱动上述记录介质；磁头，其用于进行对于上述记录介质的信息的读取、或写入，上述记录再现装置具有支承部件，该支承部件用于支承因来自外部的冲击而弯曲的记录介质，上述支承部件仅在施加有来自外部的冲击时与上述记录介质相接来支承上述弯曲的记录介质。
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公开(公告)号：CN102456358A
公开(公告)日：2012-05-16
申请号：CN201110320471.7
申请日：2011-10-20
Applicant: 昭和电工株式会社
CPC classification number: G11B5/855
Abstract: 本发明提供一种不使磁性层的表面氧化或卤化，并且，表面不被粉尘污染、制造工序不复杂的形成有磁分离的磁记录图案的磁记录介质的制造方法。所述具有磁分离的磁记录图案的磁记录介质的制造方法，其特征在于，依次具有：在非磁性基板(1)上形成磁性层(2)的工序；在磁性层(2)上形成用于形成磁记录图案的由碳构成的掩模层(3)的工序；对磁性层(2)的未被掩模层(3)覆盖的部位(7)照射含有氢化碳离子的离子束(10)，在磁性层(2)上形成作为非磁性体的碳化钴的工序；和除去掩模层(3)的工序。
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