雪崩二极管和探测器
    12.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118867012A

    公开(公告)日:2024-10-29

    申请号:CN202310489279.3

    申请日:2023-04-27

    Abstract: 本发明公开一种雪崩二极管和探测器,其中,雪崩二极管包括具有第一掺杂类型的衬底,具有第二掺杂类型的第一电极,具有第一掺杂类型的第二电极,以及具有第一掺杂类型的第一半导体区,所述衬底形成有相对的第一表面和第二表面;所述第一电极由第一表面延伸至所述衬底中设置;所述第二电极由第一表面延伸至衬底中设置,并与所述第一电极间隔设置;所述第一半导体区为倒掺杂结构,所述第一半导体区由所述第一表面延伸至所述衬底中设置,在垂直于第一表面至第二表面的方向上,所述第一半导体区的内侧与所述第一电极抵接,并与所述第一电极形成主结。本发明技术方案的雪崩二极管为完全边缘击穿类型,提高探测效率的同时有利于小型化。

    雪崩二极管、光电二极管器件和探测器

    公开(公告)号:CN118867011A

    公开(公告)日:2024-10-29

    申请号:CN202310489192.6

    申请日:2023-04-27

    Abstract: 本发明公开一种雪崩二极管、光电二极管器件和探测器,雪崩二极管包括具有第一掺杂类型的衬底、第三半导体区以及第四半导体区,具有第二掺杂类型的第一半导体区和第二半导体区,第一半导体区由衬底的第一表面向第二表面延伸设置;第二半导体区由第一表面向第二表面延伸设置,并包裹于第一半导体区的周缘;第三半导体区由第二半导体区背离第一表面的一侧向第二表面延伸设置,第三半导体区与第一半导体区在第一表面至第二表面的方向上至少部分重叠;第四半导体区与第二半导体区在平行于第一表面的方向具有间隔,第四半导体区以第一半导体区的中垂线为轴对称设置。本发明技术方案的雪崩二极管可减少边缘击穿并提高探测效率。

    用于测距的采样方法和测距方法以及测距装置

    公开(公告)号:CN117347981A

    公开(公告)日:2024-01-05

    申请号:CN202210755736.4

    申请日:2022-06-28

    Abstract: 本申请提供了一种用于测距的采样方法,包括:将第一采样数组中的其中的一个第一采样数据确定为第一有效数据;将从第一有效数据中截取得到的第一输出数据向数字集成电路传输,确定目标对象相对于参考位置的距离区间;将第二采样数组中匹配所述距离区间的第二采样数据确定为第二有效数据;将从所述第二有效数据中截取得到的第二输出数据向数字集成电路传输,确定目标对象相对于所述参考位置的距离测量结果。本申请在对一个目标对象的一次测距中先后进行两个阶段的采样并对采样数据进行处理,并且通过从采样数组中选取采样数据并截取采样数据的一部分进行传输,以在保证测量结果的准确性的基础上,能够在分离式的架构中减少数据传输的带宽。

    一种光电探测器
    15.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117334757A

    公开(公告)日:2024-01-02

    申请号:CN202210743017.0

    申请日:2022-06-27

    Abstract: 本申请提供一种光电探测器,所述光电探测器包括金属硅化物层,所述金属硅化物层包括金属硅化物区域和多个第一金属硅化物阻挡区域,所述金属硅化物区域用于放置金属硅化物,所述第一金属硅化物阻挡区域用于放置目标物质,所述目标物质的透光性优于所述金属硅化物的透光性;所述多个第一金属硅化物阻挡区域对称分布在所述金属硅化物区域的周围区域。通过本申请的技术方案,通过设置多个金属硅化物阻挡区域,且多个金属硅化物阻挡区域对称分布在金属硅化物区域的周围区域,使得每个金属硅化物阻挡区域的电场一致性比较好,即中心区与边缘区的电场一致性比较好,避免影响电场分布的均匀性,也不影响电场的分布,从而避免影响光电探测器的特性。

    人脸防伪检测方法、装置及多目相机

    公开(公告)号:CN111046703B

    公开(公告)日:2023-04-18

    申请号:CN201811192155.4

    申请日:2018-10-12

    Abstract: 本申请实施例提供了人脸防伪检测方法、装置及多目相机,该人脸防伪检测方法包括:利用TOF相机及RGB相机获取深度图像、红外图像及RGB图像;通过预设人脸检测算法对RGB图像进行分析,确定RGB图像中人脸的RGB人脸区域及RGB人脸区域的位置信息;按照RGB人脸区域的位置信息,确定人脸在深度图像中的深度人脸区域,及人脸在红外图像中的红外人脸区域;在深度人脸区域、红外人脸区域及RGB人脸区域各自满足相应的预设规则时,判定人脸通过检测。在本申请实施例的人脸防伪检测方法中,不用用户配合执行相应的动作就能够完成人脸活体检测,能够节省检测时间,用户体验佳。

    一种光电器件及其制造方法

    公开(公告)号:CN115064601A

    公开(公告)日:2022-09-16

    申请号:CN202210770504.6

    申请日:2022-06-30

    Abstract: 本发明提供一种光电器件及其制造方法。所述光电器件包括衬底、重掺杂区、量子点薄膜及透明导电膜层。所述衬底具有相对的第一表面和第二表面。所述重掺杂区设于所述衬底中并自所述衬底的第一表面外露,所述重掺杂区的材料为第一导电类型材料。所述量子点薄膜设于所述衬底的第二表面,所述量子点薄膜的材料为第二导电类型材料。所述透明导电膜层,设于所述量子点薄膜背离所述衬底的一侧。上述光电器件在衬底的第二表面设置量子点薄膜,使得量子点薄膜与重掺杂区之间形成异质结,基于量子点薄膜可设置为能吸收更大波长的光,使得该设置量子点薄膜的光电器件能够探测更大波长范围的光,提高光电器件的探测效果。

    一种遮挡物检测方法、装置及监控摄像机

    公开(公告)号:CN112561874A

    公开(公告)日:2021-03-26

    申请号:CN202011460219.1

    申请日:2020-12-11

    Abstract: 本发明实施例提供了一种遮挡物检测方法、装置及监控摄像机。方案如下:获取当前时刻N个TOF摄像头采集到的深度图像以及灰度图像,深度图像和灰度图像中的像素点一一对应,灰度图像中每一像素点的像素值表示深度图像中对应像素点的深度值的置信度;针对每一TOF摄像头采集到的深度图像,若该TOF摄像头采集到的深度图像中存在深度值在待检测深度范围内的像素点,且该像素点的深度值的置信度大于预设置信度阈值,则确定监控摄像机前存在遮挡物;其中,待检测深度范围是基于拼接视场角确定的。通过本发明实施例提供的技术方案,降低了遮挡物检测过程的计算时间复杂度和空间复杂度,有效提高了遮挡物检测结果的准确性。

    一种光电器件及其制造方法

    公开(公告)号:CN115064601B

    公开(公告)日:2025-01-28

    申请号:CN202210770504.6

    申请日:2022-06-30

    Abstract: 本发明提供一种光电器件及其制造方法。所述光电器件包括衬底、重掺杂区、量子点薄膜及透明导电膜层。所述衬底具有相对的第一表面和第二表面。所述重掺杂区设于所述衬底中并自所述衬底的第一表面外露,所述重掺杂区的材料为第一导电类型材料。所述量子点薄膜设于所述衬底的第二表面,所述量子点薄膜的材料为第二导电类型材料。所述透明导电膜层,设于所述量子点薄膜背离所述衬底的一侧。上述光电器件在衬底的第二表面设置量子点薄膜,使得量子点薄膜与重掺杂区之间形成异质结,基于量子点薄膜可设置为能吸收更大波长的光,使得该设置量子点薄膜的光电器件能够探测更大波长范围的光,提高光电器件的探测效果。

    单光子雪崩二极管、光电探测器及检测装置

    公开(公告)号:CN119008759A

    公开(公告)日:2024-11-22

    申请号:CN202310574885.5

    申请日:2023-05-18

    Abstract: 本公开的一些实施例公开了一种单光子雪崩二极管、光电探测器及检测装置,涉及图像传感器技术领域,该单光子雪崩二极管具有位置灵敏功能,有效提升了分辨率,能准确判定光子入射位置。该单光子雪崩二极管包括半导体晶片、第一电极、多个第二电极。半导体晶片包括主体部、第一掺杂部和第二掺杂部,第一掺杂部的远离第二掺杂部的表面形成第一表面;第一掺杂部和第二掺杂部形成PN结;多个第二电极和第一电极中的一者与第一掺杂部接触,另一者与主体部接触;任意两个第二电极呈间隔设置;每个第二电极与一个读出电路电连接。本公开的一些实施例提供的一种单光子雪崩二极管、光电探测器及检测装置用于三维成像装置。

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