保护膜组合物
    11.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1493020A

    公开(公告)日:2004-04-28

    申请号:CN02805512.8

    申请日:2002-01-31

    Abstract: 提供了可形成对放射线的透明度和干蚀刻性优异、且灵敏度、析像度、平坦性、耐热性等优异的保护膜图形的化学放大型保护膜组合物。该保护膜组合物的特征是,它是具有以式(1)表示的含氟二烯的环化聚合重复单元的含氟聚合物,且包含Q中具有嵌段化酸性基团的含氟聚合物(A)、受光照射而产生酸的产酸化合物(B)及有机溶剂(C),CF2=CR1-Q-CR2=CH2……(1)式中,R1、R2分别独立地表示氢原子、氟原子、甲基或三氟甲基,Q为2价的有机基,且表示具有通过酸能够显现为酸性基团的嵌段化酸性基团或能转换成该嵌段化酸性基团的基团的有机基。

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