氮化硅基板的制造方法以及氮化硅基板

    公开(公告)号:CN112912356A

    公开(公告)日:2021-06-04

    申请号:CN201980070845.9

    申请日:2019-10-29

    IPC分类号: C04B35/593 C04B35/64 H05K1/03

    摘要: 一种氮化硅基板的制造方法,其特征在于,将包含氮化硅粉末和烧结助剂的多张生片以在它们之间夹持分离材料的方式层叠并烧结后进行分离,由此得到多张氮化硅烧结体,从而由氮化硅烧结体得到氮化硅基板,分离材料包含氮化硅粉。由于得到的氮化硅基板在表面不含氮化硼粉,因此在与铜接合时的热循环性优异。分离材料的通过BET法测定的比表面积为1m2/g以上且20m2/g以下,通过激光衍射散射法测定的体积基准的50%粒径D50为20μm以下,并且氧量为0.3重量%以上且低于2重量%,通过将分离材料以0.1mg/cm2以上且3mg/cm2以下的涂布量涂布在生片表面,能够得到热导率在室温下为80W/(m·K)以上、4点弯曲强度在室温下为800MPa以上的氮化硅基板。