半导体装置及其制造方法
    13.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1257549C

    公开(公告)日:2006-05-24

    申请号:CN02158814.7

    申请日:2002-12-25

    CPC classification number: H01L23/3107 H01L23/3192 H01L2924/0002 H01L2924/00

    Abstract: 一种半导体装置及其制造方法,包括在基板上形成的、在电极垫上具有开口部的第1保护膜、在上述开口部中与电极垫连结并且其周边部由上述第1保护膜所覆盖的突起电极、至少覆盖第1保护膜和突起电极之间的边界部分的间隙而形成的并且在突起电极的上面区域除与第1保护膜之间的边界部分周边之外开口的第2保护膜、在第2保护膜的开口上覆盖突起电极表面而形成的覆盖层。这样、在采用无电解电镀法形成突起电极的半导体装置中、可以防止电极垫和突起电极之间的连结强度的降低。

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