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公开(公告)号：CN109471211B
公开(公告)日：2021-07-02
申请号：CN201811639285.8
申请日：2018-12-29
Applicant: 润坤(上海)光学科技有限公司 , 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种消偏振合束镜薄膜，包括基底以及设置在基底上的第一薄膜，所述的第一薄膜的膜系结构为Sub|x1H x2L x3H x4L......xk‑3H xk‑2L xk‑1H xkL|Air，其中，Sub为薄膜元件基板，Air为出射介质空气，H和L分别为1/4中心波长光学厚度的高折射率材料薄膜层和低折射率材料薄膜层，x1～xk为每层薄膜层的光学厚度系数，k为薄膜层总数。与现有技术相比，本发明具有优化过程简单，膜系规整，便于精确制备，降低了制备复杂性，消偏效果好、光谱特性优良，便于推广使用等优点，在大型激光装置光路传输中具有广阔的实用前景，可用于不同波长激光的非相干合束。
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公开(公告)号：CN119619015A
公开(公告)日：2025-03-14
申请号：CN202411739957.8
申请日：2024-11-29
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明公开了一种基于椭偏和紫外可见光谱互校准的介质薄膜测试方法，包括以下步骤：首先拟合椭偏光谱获得折射率和消光系数的初值，对比正常消光系数色散模型，确定异常波段；其次拟合透射光谱，截取对应椭偏仪异常波段的透射光谱折射率和消光系数；然后计算加权因子和平移因子，校准透射光谱在异常波段的折射率和消光系数；最后校正异常波段的椭偏光谱，重新拟合获得校准的折射率和消光系数。本发明采用上述的一种基于椭偏和紫外可见光谱互校准的介质薄膜测试方法，应用紫外可见光谱的结果内标特定波段的椭偏光谱，实现折射率和厚度的准确拟合，从而提高了介质薄膜检测精度。
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公开(公告)号：CN118938421A
公开(公告)日：2024-11-12
申请号：CN202410983252.4
申请日：2024-07-22
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明公开了一种高能激光内通道的气体热效应控制装置，涉及激光技术领域，设置于内通道上，激光内通道包括依次垂直连接的进光段、转折段、输出段，包括波前探测装置和气体散热装置，波前探测装置包括设置于进光段一端的波前探测器和设置于输出段一端的信号光发射器，气体散热装置包括均匀气流单元、控温流道、气流通道和监测装置，若干气流通道均匀分布于内通道的侧壁上，控温流道设置于内通道的侧壁内，控温流道与气流通道间隔分布，均匀气流单元覆盖在气流通道上。本发明采用上述结构的一种用于高能激光内通道的气体热效应控制装置，能够实时探测内通道气体热效应导致的气体热畸变，均匀稳定控制内通道气体的温度，保证光束传输不变性。
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公开(公告)号：CN117991427B
公开(公告)日：2024-08-09
申请号：CN202410284689.9
申请日：2024-03-13
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明公开了一种低损耗、高反射率的193nm薄膜及其制备方法，包括基底、薄膜，所述薄膜设置在所述基底上；膜系结构为Sub/(HL)^n/Air，其中，Sub为薄膜元件基板，Air为出射介质空气，H和L分别为1/4中心波长光学厚度的高折射率材料薄膜层和低折射率材料薄膜层，n为高低折射率材料的膜堆数。本发明采用上述一种低损耗、高反射率的193nm薄膜及其制备方法，能够有效抑制193nm高反射薄膜中的LaF3薄膜的结晶，进而降低反射膜的粗糙度、抑制散射损耗，并提高薄膜的反射率；而且有效提升了电子束蒸发193nm LaF3/AlF3多层高反膜的反射率和成膜质量，同时制作成本低，易于推广，在紫外光刻领域具有广泛的应用前景。
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公开(公告)号：CN109471211A
公开(公告)日：2019-03-15
申请号：CN201811639285.8
申请日：2018-12-29
Applicant: 润坤(上海)光学科技有限公司 , 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种消偏振合束镜薄膜，包括基底以及设置在基底上的第一薄膜，所述的第一薄膜的膜系结构为Sub|x1H x2L x3H x4L......xk-3H xk-2L xk-1H xkL|Air，其中，Sub为薄膜元件基板，Air为出射介质空气，H和L分别为1/4中心波长光学厚度的高折射率材料薄膜层和低折射率材料薄膜层，x1～xk为每层薄膜层的光学厚度系数，k为薄膜层总数。与现有技术相比，本发明具有优化过程简单，膜系规整，便于精确制备，降低了制备复杂性，消偏效果好、光谱特性优良，便于推广使用等优点，在大型激光装置光路传输中具有广阔的实用前景，可用于不同波长激光的非相干合束。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106862114A
公开(公告)日：2017-06-20
申请号：CN201710070731.7
申请日：2017-02-09
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种LBO晶体表面镀膜前的清洗方法，将LBO晶体依次执行下述步骤：采用无水乙醇和乙醚混合液擦拭LBO晶体表面；采用弱碱性溶液对LBO晶体进行超声波清洗，所述弱碱性溶液包括NH4OH和H2O2，体积比为NH4OH:H2O2:H2O＝1:8:50；采用无水乙醇对LBO晶体进行漂洗；将LBO晶体放置于装有无水乙醇的密闭容器内，对LBO晶体进行超声加热清洗；取出LBO晶体，再次漂洗；在正压容器环境中干燥氮气风刀对LBO晶体进行干燥。与现有技术相比，本发明具有清洗效果好，既可以提升LBO晶体镀膜后的抗激光损伤特性，可以提升其镀膜后的薄膜附着力及抗裂纹特性等优点。
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公开(公告)号：CN118706408B
公开(公告)日：2025-03-21
申请号：CN202410983254.3
申请日：2024-07-22
Applicant: 同济大学
IPC: G01M11/02
Abstract: 本发明公开了一种连续激光作用下光学元件热效应的测试装置，涉及激光技术领域，包括连续激光准直系统、样品温度测试系统、波前相位测试系统、光束质量测试系统、计算机，连续激光准直系统接收连续激光发射装置发射的大功率激光束，并输出测试激光，测试激光经过样品温度测试系统产生反射光和透射光，反射光和透射光分别进入波前相位测试系统或光束质量测试系统。本发明采用上述结构的一种连续激光作用下光学元件热效应的测试装置，能够实现连续激光作用下的光学元件温升测试、波前形状和相位畸变测试以及光束质量测试的多种性能测试。
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公开(公告)号：CN118730494A
公开(公告)日：2024-10-01
申请号：CN202410983251.X
申请日：2024-07-22
Applicant: 同济大学
IPC: G01M11/02
Abstract: 本发明公开了一种用于高功率激光系统的高精度原位性能检测装置，涉及高功率激光系统领域，包括振动宽温原位平台和集成化多功能检测平台，振动宽温原位平台包括振动平台和安装在振动平台上的宽温平台，待测高功率激光系统固定在宽温平台内，集成化多功能检测平台包括调整架和设置于调整架上的集成平台，集成平台的上方设置有光束进入装置、光束探测器、功率能量检测装置、光轴位置检测装置、可见激光调节装置。本发明采用上述结构的一种用于高功率激光系统的高精度原位性能检测装置，通过振动、温度可调节的模拟真实环境场景的原位安装平台，实现高功率激光系统多性能参数的原位的检测。
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公开(公告)号：CN118706408A
公开(公告)日：2024-09-27
申请号：CN202410983254.3
申请日：2024-07-22
Applicant: 同济大学
IPC: G01M11/02
Abstract: 本发明公开了一种连续激光作用下光学元件热效应的测试装置，涉及激光技术领域，包括连续激光准直系统、样品温度测试系统、波前相位测试系统、光束质量测试系统、计算机，连续激光准直系统接收连续激光发射装置发射的大功率激光束，并输出测试激光，测试激光经过样品温度测试系统产生反射光和透射光，反射光和透射光分别进入波前相位测试系统或光束质量测试系统。本发明采用上述结构的一种连续激光作用下光学元件热效应的测试装置，能够实现连续激光作用下的光学元件温升测试、波前形状和相位畸变测试以及光束质量测试的多种性能测试。
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公开(公告)号：CN117991427A
公开(公告)日：2024-05-07
申请号：CN202410284689.9
申请日：2024-03-13
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明公开了一种低损耗、高反射率的193nm薄膜及其制备方法，包括基底、薄膜，所述薄膜设置在所述基底上；膜系结构为Sub/(HL)^n/Air，其中，Sub为薄膜元件基板，Air为出射介质空气，H和L分别为1/4中心波长光学厚度的高折射率材料薄膜层和低折射率材料薄膜层，n为高低折射率材料的膜堆数。本发明采用上述一种低损耗、高反射率的193nm薄膜及其制备方法，能够有效抑制193nm高反射薄膜中的LaF3薄膜的结晶，进而降低反射膜的粗糙度、抑制散射损耗，并提高薄膜的反射率；而且有效提升了电子束蒸发193nm LaF3/AlF3多层高反膜的反射率和成膜质量，同时制作成本低，易于推广，在紫外光刻领域具有广泛的应用前景。
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