一种钙钛矿量子点发光二极管的制备方法及产品

    公开(公告)号:CN110718645B

    公开(公告)日:2021-01-05

    申请号:CN201910906165.8

    申请日:2019-09-24

    Abstract: 本发明属于发光二极管制备领域,并具体公开了一种钙钛矿量子点发光二极管的制备方法及产品。所述方法包括:将洁净的ITO玻璃表面进行活化处理;将活化处理后的ITO玻璃表面依次沉积一层ZnO薄膜和Al2O3薄膜;在Al2O3薄膜表面旋涂量子点溶液,以获取量子点薄膜;在量子点薄膜表面沉积一层Al2O3薄膜;在Al2O3薄膜表面依次制备一层TPD空穴传输层、MoO3空穴注入层和电极铝。本发明产品采用上述制备方法制备得到。本发明制备方法工艺简单便捷,所制备得到的产品具有较高的载流子注入、传输能力和稳定性,可以保护QLED器件不受破坏,无机物的引入使器件的稳定性得到明显的提高,从而改善器件的发光性能。

    用于微纳米颗粒充分分散包覆的超声流化原子层沉积装置

    公开(公告)号:CN109576673B

    公开(公告)日:2020-02-14

    申请号:CN201811502555.0

    申请日:2018-12-10

    Abstract: 本发明属于真空镀膜相关技术领域,并公开了一种用于微纳米颗粒充分分散包覆的超声流化原子层沉积装置,其包括载气及反应前驱体供给组件、反应腔体和超声振动组件,其中载气及反应前驱体供给组件为原子层沉积反应提供全区体反应物、载气和吹扫过程中需要的惰性气体;反应腔体作为原子层沉积反应的发生区域,前驱体进入反应腔体部分在基底表面沉积成膜;超声振动组件用于产生超声振动并传递给反应腔体部分,破解微纳米颗粒之间的软团聚,使颗粒在原子层沉积反应过程中处于分散状态,实现薄膜在单个颗粒表面的生长。通过本发明,能够克服大批量粉体颗粒仅在气流作用下无法完全流化分散的缺点,使纳米颗粒在气流和超声振动作用下获得更充分的分散。

    一种可拉伸电子器件的薄膜封装组件及其制备方法

    公开(公告)号:CN110783281A

    公开(公告)日:2020-02-11

    申请号:CN201911003784.2

    申请日:2019-10-22

    Abstract: 本发明属于电子器件封装领域,并公开了一种可拉伸电子器件的薄膜封装组件及其制备方法。该组件自下而上包括待封装电子器件、阻隔层、光热传导层和疏水防护层,其中,疏水防护层用于阻隔外界的水汽与光热传导层直接接触并进行腐蚀,光热传导层用于增强器件整体透光和散热能力,阻隔层用于进一步阻隔空气中的水和氧气,避免水和氧气进入待封装电子器件,其中,阻隔层包括有机涂层和无机-有机复合层;光热传导层依次包括两个封装层和设置在两个封装层之间的金属散热层。本申请还相应公开了上述封装组件的制备方法。通过本发明所获取的封装组件具备良好的水汽阻隔能力,且兼顾良好的透光性、传热性和拉伸性能,可实现对可拉伸电子器件的长效保护。

    一种用于大批量微纳米颗粒包裹的原子层沉积装置

    公开(公告)号:CN108715998B

    公开(公告)日:2019-08-13

    申请号:CN201810614134.0

    申请日:2018-06-14

    Abstract: 本发明属于原子层沉积制备仪器相关领域,并公开了一种用于大批量微纳米颗粒包裹的原子层沉积装置,该装置包括颗粒容器和反应腔体,其中反应腔体的下端设置有进源口,进源口中密封设置有用于输入前驱体和载气的进气管;反应腔体的上端开设有腔门,颗粒容器可以自由放置于反应腔体中,或从中取出;颗粒容器下端设有进气孔,进气管通过进气孔进入颗粒容器的内腔。通过本发明,能够有效将气流内循环与外循环的方法相结合,显著增大颗粒间的碰撞及与气体分子的接触概率,提升反应速率和前驱体利用率,实现大批量微纳米颗粒的高质高效包覆。

    一种柔性器件的超薄复合封装薄膜结构及制备方法

    公开(公告)号:CN110112313A

    公开(公告)日:2019-08-09

    申请号:CN201910413501.5

    申请日:2019-05-17

    Abstract: 本发明属于薄膜封装技术领域,并公开了一种柔性器件的超薄复合封装薄膜结构及制备方法。所述封装薄膜结构包括基底、设于基底上的器件、封装于所述器件表面的第一无机隔离层以及设于该无机隔离层表面的第一复合阻隔层;第一复合阻隔层包括设于第一无机隔离层上的至少两层第一无机阻隔层以及设于相邻两层第一无机阻隔层之间的至少一层第一有机阻隔层。本发明还公开了相应结构的制备方法。本发明封装薄膜结构中存在不同无机结构之间和有机结构与无机结构之间相互掺杂、相互交联的界面特征,极大地改善了薄膜应力集中的缺点,隔离了无机层之间的缺陷,大幅度延长了水氧透过薄膜的时间和路径、提高薄膜阻隔水氧的能力,能够有效地保护柔性器件。

    一种常压下曲面基底的原子层沉积薄膜制备设备

    公开(公告)号:CN108754456A

    公开(公告)日:2018-11-06

    申请号:CN201810503730.1

    申请日:2018-05-23

    CPC classification number: C23C16/45548 C23C16/45519 C23C16/45568 C23C16/52

    Abstract: 本发明属于微纳制造相关设备领域,并公开了一种常压下曲面基底的原子层沉积薄膜制备设备,它包括喷头模块及对应配备的液压传动模块,其中该喷头模块用于对基底进行原子层沉积,具有空间隔离的作用,并且四周的气浮区可以帮助喷头在经过曲面时改变方向达到曲面沉积的作用;该液压传动模块通过转阀来实时获取喷头转动角度的信息,并通过改变进出油口的相对连接位置而使得喷头总体上升或者下降或者保持不动。通过本发明,能够可获得一种开放式、具有自调整功能的原子层沉积薄膜制备设备,其不仅可在常温常压下即可执行各类曲面沉积操作,而且喷头能够根据曲面曲率的不同而快速改变角度及升降运动,进而与现有设备相比可显著提高作业效率和适用性。

    一种用于纳米颗粒表面包覆的连续原子层沉积设备

    公开(公告)号:CN108220917A

    公开(公告)日:2018-06-29

    申请号:CN201810073257.8

    申请日:2018-01-25

    Abstract: 本发明属于原子层沉积设备领域,并具体公开了一种用于纳米颗粒表面包覆的连续原子层沉积设备,包括进料仓、第一反应室、第二反应室和出料仓,进料仓用于控制纳米颗粒进入第一反应室,纳米颗粒在第一反应室中利用超声振动网打散,与第一前驱体反应物发生反应;反应后的纳米颗粒经第一旋转给料装置进入第一清洗室,并通过气体吹扫清洗掉反应副产物;经过清洗后的纳米颗粒送入第二反应室中,并在第二反应室内部利用超声振动网打散,且与第二前驱体反应物发生反应;反应后的纳米颗粒经第二旋转给料装置进入第二清洗室,并通过气体吹扫清洗掉反应副产物,最后送入出料仓中。本发明可实现纳米颗粒表面薄膜的连续均匀沉积,且无团聚现象。

    一种用于气相沉积薄膜的装置

    公开(公告)号:CN105369220B

    公开(公告)日:2018-06-19

    申请号:CN201510923920.5

    申请日:2015-12-14

    Abstract: 本发明公开了一种用于气相沉积薄膜的装置,包括反应腔体上盖、反应腔体底座以及加热器;所述反应腔体底座用于承载基片,其与反应腔体上盖活动链接形成气相沉积反应腔,其背部与加热器接触导热;所述反应腔体底座为圆形且具有环形凹槽。本发明提供的装置用于气相沉积薄膜,可保证反应腔体整体不会产生太大变形,从而保证薄膜的均匀程度。

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