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公开(公告)号：CN117848202A
公开(公告)日：2024-04-09
申请号：CN202410040998.1
申请日：2024-01-09
Applicant: 北京理工大学重庆微电子研究院 , 北京理工大学
IPC: G01B7/30
Abstract: 本发明提供了一种MEMS微镜的角度和方向检测系统及方法，包括：MEMS微镜，其镜面在信号驱动下进行转动；电极板，设置于MEMS微镜镜面近处，并与MEMS微镜镜面形成电容，在MEMS微镜镜面转动时产生电信号；信号采集电路，用于采集由镜面转动产生的电信号，并进行预处理后送至处理器；以及处理器，用于为提供控制信号以驱动微镜进行转动，以及接收信号采集电路发送的信号，并解析出微镜偏转角度和方向信息。本发明可以稳定提取出高精度的反映微镜偏转角度和偏转方向的位置反馈信号；在不影响微镜转动的情况下实时反馈微镜偏转角度的同时获取微镜当前运动方向，降低了微镜设计和制造工艺复杂度。
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公开(公告)号：CN117420673A
公开(公告)日：2024-01-19
申请号：CN202311345999.9
申请日：2023-10-18
Applicant: 北京理工大学 , 北京理工大学重庆微电子研究院
Abstract: 本发明公开的基于MEMS微镜的高精度结构光条纹产生系统及方法，属于3D成像技术领域。本发明通过实时检测微镜当前运动的最大偏转角和相位差延时，实时修改微镜的驱动频率，实现MEMS微镜投影视场的稳定，避免温度、湿度等环境的干扰。通过构建MEMS微镜等间隔扫描模型，固定MEMS微镜投影视场，使得仅依靠FPGA即能够实现高精度、高实时性的微镜控制。通过实时对MEMS的变速运动导致相机采集时每一个投影像素的曝光时间不同进行激光电流补偿，使得投影出的结构光条纹精度高、灰度分布均匀。通过对激光驱动电路中激光驱动芯片和激光器的输入输出的非线性进行补偿，使得结构光条纹产生系统能够产生任意光强的激光束，实现高精度的结构光条纹投影。
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公开(公告)号：CN116878657A
公开(公告)日：2023-10-13
申请号：CN202310852196.6
申请日：2023-07-12
Applicant: 北京理工大学 , 北京理工大学重庆微电子研究院
Abstract: 本发明公开的一种基于时间分光的计算式光谱仪及工作方法，属于光谱分析技术领域。本发明包括超透镜、光电探测器、信号处理系统、光收集元件。超透镜能够对入射光聚焦。超透镜光轴上最近焦点与最远焦点之间任意一点的光强由光谱仪工作波段内所有波长信号按预定权重产生。超透镜光轴上最近焦点与最远焦点之间的任意一点上，在该处聚焦的波长信号产生最大权重。光收集元件放置于超透镜中心光轴上，具有固定光通量。光收集元件的入射端口与超透镜之间的距离可调，入射端口位置处于超透镜工作波段内最近焦点与最远焦点之间。通过光电探测器上的单一像元在不同时间依次采集响应信号，计算出原始光谱，解决空间分光方式固有的光谱精度与空间分辨率矛盾。
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公开(公告)号：CN116088165A
公开(公告)日：2023-05-09
申请号：CN202211456584.4
申请日：2022-11-21
Applicant: 北京理工大学 , 北京理工大学重庆微电子研究院
Abstract: 本发明公开的一种二维静电扫描微镜及其制作方法，属于微光机电技术领域。本发明公开的一种二维静电扫描微镜，包括器件层、绝缘层、衬底层。器件层上包括聚合物填充电隔离沟道和开放电隔离沟道。二维静电扫描微镜基于聚合物填充沟道，实现高深宽比沟道的填充，采用与具有电绝缘和机械连接性的聚合物填充沟道，实现对沟道两侧电极的电绝缘和固化机械稳定连接，进而实现二维静电扫描微镜驱动电极间的高电压驱动；此外，采用聚合物一次填充方式实现沟道的无缝隙填充，提高沟道填充效率和成品率，降低二维静电扫描微镜制作成本。利用聚合物具有超低杨氏模量的特性，有效消除沟道内填充物与沟道结构之间的应力失配，提高二维静电扫描微镜工作稳定性。
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公开(公告)号：CN119892002A
公开(公告)日：2025-04-25
申请号：CN202411771066.0
申请日：2024-12-04
Applicant: 北京理工大学重庆微电子研究院
Abstract: 本申请涉及滤波技术领域，具体涉及一种基于压电效应的F‑P腔滤波器及其制备方法，滤波器包括支撑框架；上极板；第一反射层和第二反射层，均设于支撑框架内且始终彼此平行，用以共同限定法布里‑珀罗谐振腔；驱动组件连接在上极板与支撑框架之间，驱动组件中设有驱动单元；驱动单元由伸缩层和至少一个非压电层组合形成，伸缩层包括压电层、位于压电层底部的底电极，以及位于压电层顶部的顶电极；至少一个非压电层配置为贴合设置于底电极和/或顶电极上。该压电驱动结构可实现滤波器小型化，结构简化，整体体积和重量降低，器件可靠性高。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN119764012A
公开(公告)日：2025-04-04
申请号：CN202411861417.7
申请日：2024-12-17
Applicant: 重庆邮电大学 , 北京理工大学重庆微电子研究院
Abstract: 本发明公开了一种三维立体微型集成硅基磁芯功率电感及其设计制备方法，属于微电子领域，该电感包括顶层和底层，所述顶层其内设有多个用作螺旋线圈的穿透硅通孔结构以及顶层重布线层；其中，穿透硅通孔结构之间填充有磁性材料；所述底层内设有多个用作螺旋线圈的穿透硅通孔结构以及底层重布线层；其中，穿透硅通孔结构之间填充有磁性材料；所述顶层和底层之间填充有磁性材料，所述顶层的穿透硅通孔结构和底层的穿透硅通孔结构之间通过锡银共晶键合。本发明通过将一组线圈分为上下两部分制作之后进行以锡银为焊料的共晶键合的方式，实现体积小、电感密度高、高品质因数、可集成的三维立体微型集成硅基磁芯功率电感制作。
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公开(公告)号：CN119586955A
公开(公告)日：2025-03-11
申请号：CN202411986827.4
申请日：2024-12-31
Applicant: 北京理工大学重庆微电子研究院
Abstract: 本发明涉及医疗器械领域，公开了一种双模态内窥镜的光学系统及内窥镜成像探头和内窥镜，光学系统包括：沿主光轴方向依次设置的物镜组、目镜组和光控制器，光控制器用于控制白光和近红外光的传播方向，白光经过光控制器后其传播方向保持不变，近红外光经过光控制器后其传播方向被改变，经过光控制器后的近红外光进入光转换模块内，光转换模块包括：MEMS微镜和准直透镜，其中，近红外光依次经过光控制器和MEMS微镜后其传播方向平行于主光轴，本发明的OCT成像与白光成像共用一套光学系统，不需要改变现有的白光内窥镜插入部分的直径，且可以使得OCT成像实现大视场和大工作距离的优点。
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公开(公告)号：CN119148370A
公开(公告)日：2024-12-17
申请号：CN202411290342.1
申请日：2024-09-14
Applicant: 北京理工大学重庆微电子研究院
Abstract: 本发明公开了一种MEMS微位移平台及其位置检测方法，属于MEMS器件检测领域，主要在MEMS微镜的附近放一块位置感应元器件，将感应元器件集成到MEMS微镜中，当MEMS微镜的镜面偏转靠近感应元器件时，感应元器件会产生相应的电信号，放置感应元器件后，通过TSV或者TGV等工艺将信号传递给驱动控制电路，从而实时获取镜面的位置。本发明将器件检测与TSV或TGV工艺相结合，大大提高现有检测器件的集成度，且可以大批量低成本量产，有较高的市场前景。
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公开(公告)号：CN119118048A
公开(公告)日：2024-12-13
申请号：CN202411183678.8
申请日：2024-08-27
Applicant: 北京理工大学重庆微电子研究院 , 重庆工商大学
Abstract: 本发明公开了一种集成压电反馈的电热微动平台及其位置检测方法，属于微机电技术领域，该平台包括外围支撑结构、电热驱动结构、微平台，以及用于检测微平台的位置和运动状态的压电位置检测结构。本发明将压电位置检测结构与电热微动平台进行一体式集成，不仅能在不影响微动结构运动的情况下实时、稳定、高精度地获得微动结构偏转角度和偏转方向的姿态信息，还能显著降低器件及其系统的闭环控制姿态反馈电路的复杂程度，优化相关应用产品的结构和尺寸，以及实现器件的小型化和轻量化。
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公开(公告)号：CN118954418A
公开(公告)日：2024-11-15
申请号：CN202411049351.1
申请日：2024-08-01
Applicant: 北京理工大学重庆微电子研究院
Abstract: 本发明公开了一种CMOS‑MEMS集成电热微镜及制备方法，属于微机电系统领域。在硅晶圆上设置读出/控制电路，其介质层上设置光学吸收层或电容位置检测电路下电极，功能层上设置导电支撑结构与顶层金属通过金属钨塞连接，在导电支撑结构上设置电热微镜。电热微镜有同层和双层两种结构。而电热微镜的镜面结构间设置连续的缝隙或不连续的孔。该集成电热微镜通过在硅晶圆上制备读出/控制电路，其上依次沉积功能层、牺牲层、导电支撑结构和光学微镜，最后去除牺牲层得到。本发明通过结构设计和调控驱动结构的应力，可实现电热微镜释放后的初始位置控制；所设计的多种功能可以集成到同一层拓展功能层的层结构中，该拓展功能层可以提高电热微镜的功能集成度。
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