底栅型薄膜晶体管、其制造方法及显示装置

    公开(公告)号:CN101548389A

    公开(公告)日:2009-09-30

    申请号:CN200780045002.0

    申请日:2007-11-20

    CPC classification number: H01L29/7869 H01L27/1225 H01L29/66969

    Abstract: 提供一种底栅型薄膜晶体管,该底栅型薄膜晶体管在衬底(1)上包括:栅电极(2)、作为栅极绝缘膜的第一绝缘膜(3)、作为沟道层的氧化物半导体层(4)、作为保护层的第二绝缘膜(5)、源电极(6)和漏电极(7),其中,氧化物半导体层(4)包括氧化物,所述氧化物包括选自由In、Zn和Sn构成的组的至少一种,并且,第二绝缘膜(5)包括被形成为与氧化物半导体层(4)接触的非晶氧化物绝缘体,并且在其中含有3.8×1019分子/cm3或更多的脱附气体,该脱附气体通过温度编程脱附测量被观察为氧。

    造型物的制造方法和造型物

    公开(公告)号:CN111436197A

    公开(公告)日:2020-07-21

    申请号:CN201880069821.7

    申请日:2018-10-26

    Abstract: 提供造型物的制造方法,其包括通过进行一次或多次的下述步骤来形成造型物:形成粉末层的步骤,该粉末层含有包含无机化合物粉末的材料粉末,和对所述粉末层的表面的规定区域照射能量束从而使所述材料粉末熔融/凝固的步骤。在使所述材料粉末熔融/凝固的步骤中,通过改变所述能量束的输出功率、所述粉末层的表面与所述能量束的焦点的相对位置和所述能量束的扫描速度中的至少一个来分别形成富非晶区域和富结晶区域。

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