电子元件上金属图形的形成方法

    公开(公告)号:CN1178260C

    公开(公告)日:2004-12-01

    申请号:CN02118013.X

    申请日:2002-04-19

    Abstract: 本发明涉及一种制造各种图形例如金属或金属化合物图形的方法,其中,在形成步骤过程中所除去的、构成该图形的材料的量能减至最小。该方法包括:形成树脂图形的步骤,即在基质表面上形成能够吸收含有金属成分的溶液的树脂图形;吸收步骤,即,将该树脂图形浸入含有金属成分的所述溶液中,以便使所述树脂图形吸收该含有金属成分的溶液;洗涤步骤,即洗涤在其上面形成有树脂图形的基质,该树脂图形已经吸收了含有金属成分的所述溶液;以及燃烧步骤,即在洗涤后燃烧所述树脂图形。

    一种图形及一种制造金属或金属化合物的方法

    公开(公告)号:CN100530494C

    公开(公告)日:2009-08-19

    申请号:CN200610094400.9

    申请日:2002-04-19

    Abstract: 本发明涉及一种图形,包括:第一区域,该第一区域有第一金属和第一金属化合物中的至少一种,且孔隙度为60%或更少;以及第二区域,该第二区域布置成与所述第一区域接触,并有第二金属和第二金属化合物中的至少一种,该第二金属和第二金属化合物中的所述至少一种与第一金属和第一金属化合物中的所述一种不同。

    一种图形及一种制造金属或金属化合物的方法

    公开(公告)号:CN1901128A

    公开(公告)日:2007-01-24

    申请号:CN200610094400.9

    申请日:2002-04-19

    Abstract: 本发明涉及一种图形,包括:第一区域,该第一区域有第一金属和第一金属化合物中的至少一种,且孔隙度为60%或更少;以及第二区域,该第二区域布置成与所述第一区域接触,并有第二金属和第二金属化合物中的至少一种,该第二金属和第二金属化合物中的所述至少一种与第一金属和第一金属化合物中的所述一种不同。

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