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公开(公告)号：CN102381032A
公开(公告)日：2012-03-21
申请号：CN201110249416.3
申请日：2011-08-29
Applicant: 佳能株式会社
IPC: B41J2/16
CPC classification number: B41J2/1604 , B41J2/1628 , B41J2/1629 , B41J2/1631 , B41J2/1632 , B41J2/1634 , B41J2/1635 , B41J2/1639 , B41J2/1643 , B41J2/1645 , B41J2/1646 , Y10T29/49401
Abstract: 本发明提出一种制造液体排出头的方法，该方法包括：提供基板，变成流路壁部件的固体部件在该基板上被设置为包围变成流路的区域；在该区域内形成由金属或金属化合物制成的模子；设置由树脂制成的覆盖层以覆盖固体部件和模子；和去除模子以形成流路。
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公开(公告)号：CN1693080A
公开(公告)日：2005-11-09
申请号：CN200510069706.4
申请日：2005-05-08
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 提供一种喷墨记录头用基体的制造方法和记录头的制造方法，用来形成更均匀的发热电阻层。该喷墨记录头用基体具有：表面上有绝缘层的支撑体、配置在该支撑体的上述表面上的一对电极层、以及连续地覆盖该一对电极层和它们之间的发热电阻层，其制造方法包括：在上述支撑体上形成电极层的工序；以及通过刻蚀上述电极层，形成上述一对电极层的工序，在形成上述一对电极层的工序中，对位于上述绝缘层的上述一对电极层之间的表面部分进行刻蚀，在上述绝缘层的该部分上形成凹部。
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公开(公告)号：CN1401485A
公开(公告)日：2003-03-12
申请号：CN02128577.2
申请日：2002-08-09
Applicant: 佳能株式会社
IPC: B41J2/16 , H01L21/324
CPC classification number: B41J2/1604 , B41J2/1603 , B41J2/1626 , B41J2/1628 , B41J2/1629 , B41J2/1631 , B41J2/1639 , B41J2/1642 , B41J2/1645 , Y10T29/49401
Abstract: 在形成有墨水喷出能量发生元件的Si基板上，从形成有墨水喷出能量发生元件的面的相反侧面、即背面进行各向异性蚀刻来形成墨水供给口9。在进行各向异性蚀刻时，使存在于Si基板背面的OSF(氧化诱起叠层缺陷)的密度为2×104个/cm2以上，并且使该OSF的长度为2μm以上。
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公开(公告)号：CN1344619A
公开(公告)日：2002-04-17
申请号：CN01132845.2
申请日：2001-07-31
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: B41J2/1646 , B41J2/14048 , B41J2/14129 , B41J2/1604 , B41J2/1628 , B41J2/1629 , B41J2/1631 , B41J2/1642 , B41J2202/03
Abstract: 本发明提供一种喷墨头基片,其包括一形成加热部分的发热电阻元件,一与该发热电阻元件电连接的电极布线,以及一经由绝缘保护层提供在发热电阻元件和电极布线上的抗空蚀膜,其中该抗空蚀膜由多于两层的不同材料构成。
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公开(公告)号：CN1156666A
公开(公告)日：1997-08-13
申请号：CN96100211.5
申请日：1996-04-15
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: B41J2/14024 , B41J2/1404 , B41J2/14048 , B41J2/14056 , B41J2002/14379 , B41J2002/14467 , B41J2202/12 , B41J2202/21
Abstract: 一种依靠产生气泡喷射液体的液体喷头，包括与喷出口以液体连通的第一液流通路，具有热产生元件以便向液体供热产生气泡的第二液流通路，和一供应通路用以从所说热产生元件的上游端，供给液体到热产生元件的上部。一面对热产生元件放置的可动部件，当所说热产生元件被驱动时，根据产生的压力移动到所说第一液流通路的一侧，并且可动部件具有一自由端，一个用于使液体从热产生元件的上部流过的引导通路。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103171288A
公开(公告)日：2013-06-26
申请号：CN201210576369.8
申请日：2012-12-26
Applicant: 佳能株式会社
IPC: B41J2/16
CPC classification number: B44C1/227 , B41J2/1603 , B41J2/1629 , B41J2/1634 , B41J2/1639 , B41J2/1643 , Y10T29/49401
Abstract: 本发明提供一种用于喷墨头基板的处理方法，包括：在基板上形成阻挡层并且在阻挡层上形成种子层；在种子层上形成抗蚀膜并且对抗蚀膜进行图案化以使得图案化后的抗蚀膜与用于将喷墨头电连接到喷墨头外部的盘部相对应；在图案化后的抗蚀膜的开口中形成盘部；去除抗蚀膜；对基板进行各向异性蚀刻以形成供墨口；去除阻挡层和种子层；以及从基板的表面进行激光处理。
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公开(公告)号：CN102470674A
公开(公告)日：2012-05-23
申请号：CN201080034835.9
申请日：2010-07-29
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: B41J2/1404 , B41J2/14145 , B41J2/1603 , B41J2/1629 , B41J2/1634 , B41J2/1639
Abstract: 提供一种液体排出头用基板的制造方法，液体排出头用基板包括第一面、产生将液体排出到与第一面相反的第二面的能量用的能量产生元件以及用于将液体供给到能量产生元件的液体供给口。所述方法包括：制备硅基板，该硅基板在第一面具有蚀刻掩模层，蚀刻掩模层具有与将要形成液体供给口的部分对应的开口，并且该硅基板具有设置于开口内的第一凹部和设置于第二面的将要形成液体供给口的区域中的第二凹部，第一凹部和第二凹部通过基板的一部分而彼此分离；以及从第一面的开口起通过结晶各向异性蚀刻来对硅基板进行蚀刻以形成液体供给口。
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公开(公告)号：CN102398423A
公开(公告)日：2012-04-04
申请号：CN201110262633.6
申请日：2011-09-07
Applicant: 佳能株式会社
IPC: B41J2/16
CPC classification number: B41J2/1603 , B41J2/1606 , B41J2/1628 , B41J2/1629 , B41J2/1632 , B41J2/1634 , Y10T29/49401
Abstract: 本发明提供了一种液体喷射头的制造方法，该方法包括以下的步骤：制备具有流路壁部件的基板；使流路壁部件与由光固化树脂构成并且用作喷射口部件的树脂层接合使得在内侧提供用作流路的空间；在树脂层中设置通孔，使得空间与外部空气连通；将树脂层的一部分曝光；加热树脂层的曝光部分；和从加热的树脂层去除未曝光部分以形成喷射口，由此在树脂层中形成喷射口部件。
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公开(公告)号：CN100588547C
公开(公告)日：2010-02-10
申请号：CN200510069706.4
申请日：2005-05-08
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 提供一种喷墨记录头用基体的制造方法和记录头的制造方法，用来形成更均匀的发热电阻层。该喷墨记录头周基体具有：表面上有绝缘层的支撑体、配置在该支撑体的上述表面上的一对电极层、以及连续地覆盖该一对电极层和它们之间的发热电阻层，其制造方法包括：在上述支撑体上形成电极层的工序；以及通过刻蚀上述电极层，形成上述一对电极层的工序，在形成上述一对电极层的工序中，对位于上述绝缘层的上述一对电极层之间的表面部分进行刻蚀，在上述绝缘层的该部分上形成凹部。
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公开(公告)号：CN101032885A
公开(公告)日：2007-09-12
申请号：CN200710080082.5
申请日：2007-03-07
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: B41J2/1603 , B41J2/1628 , B41J2/1631 , B41J2/1632 , B41J2/1634 , B41J2/1635 , B41J2/1639 , B41J2/1645 , H01L21/76898
Abstract: 本发明提供一种喷墨头基片和喷墨头及其制造方法。该喷墨头基片的制造方法包括在硅基片中形成供墨口，该方法包括：在基片的一面形成蚀刻掩模层的步骤，该蚀刻掩模层在与供墨口相对应的位置处具有开口；沿开口的长度方向形成至少两行通过蚀刻掩模层的开口的未穿透孔的步骤；以及通过在开口中对基片进行晶体各向异性蚀刻来形成供墨口的步骤。
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