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公开(公告)号：CN118192179B
公开(公告)日：2024-08-06
申请号：CN202410615551.2
申请日：2024-05-17
Applicant: 之江实验室
Abstract: 本发明涉及一种激光直写装置、激光直写方法及超构透镜，沿光路传播方向依次包括光源、数字微镜阵列、锥透镜以及刻写平台，所述数字微镜阵列的数量与所述锥透镜的数量相同，以使所述数字微镜阵列和所述锥透镜一一对应。本发明通过改变数字微镜阵列中处于打开状态的子微镜分布、数量，由此能够改变在锥透镜出光侧所形成焦点区域对应的焦深，以及焦点区域在x方向和y方向上对应的宽度，由此改变获得的柱体高度和半径。
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公开(公告)号：CN117908339B
公开(公告)日：2024-07-09
申请号：CN202410309866.4
申请日：2024-03-19
Applicant: 之江实验室
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种宽带飞秒激光高轴向分辨率直写装置及方法，该装置按光前进方向依次包括飞秒激光光源、第一透镜、介质、第二透镜、反射镜、数字微镜阵列、第三透镜、物镜和位移台，其中，介质位于第一透镜和第二透镜之间的焦点位置，数字微镜阵列位于第三透镜的前焦面位置，物镜的焦面位于位移台所承载的样品内；利用飞秒激光在介质中的非线性作用生成宽带飞秒激光，通过数字微镜阵列对该飞秒激光进行调制实现光场调控，并结合该宽带飞秒激光在刻写平面的时空同步聚焦效应，实现对样品的刻写。本发明能够大幅度提升轴向分辨率，实现高通量、高分辨率、任意复杂结构的三维刻写。
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公开(公告)号：CN117950283B
公开(公告)日：2024-07-09
申请号：CN202410356480.9
申请日：2024-03-27
Applicant: 之江实验室
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种基于千束焦斑独立调控的超分辨灰度刻写装置及方法，包括：激发光、抑制光均为先通过扩束器、光束整形器进行扩束和光斑匀化，再通过反射镜反射到数字微镜阵列上；激发光和抑制光从数字微镜阵列法线出射并合束，合束后的双光束通过两个透镜组成的1：1成像系统入射微透镜阵列，使数字微镜阵列上的光场成像到微透镜阵列表面，并在微透镜阵列焦面产生千束边缘光抑制光斑阵列，该光斑阵列通过透镜和物镜组成的成像系统，成像在位移台上样品内的物镜焦面进行刻写。本发明通过产生千束边缘光抑制直写阵列，可大幅度提升刻写通量和精度，且各边缘光抑制光斑可精准独立调谐，具有高精度调谐灰度刻写的功能。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN118192179A
公开(公告)日：2024-06-14
申请号：CN202410615551.2
申请日：2024-05-17
Applicant: 之江实验室
Abstract: 本发明涉及一种激光直写装置、激光直写方法及超构透镜，沿光路传播方向依次包括光源、数字微镜阵列、锥透镜以及刻写平台，所述数字微镜阵列的数量与所述锥透镜的数量相同，以使所述数字微镜阵列和所述锥透镜一一对应。本发明通过改变数字微镜阵列中处于打开状态的子微镜分布、数量，由此能够改变在锥透镜出光侧所形成焦点区域对应的焦深，以及焦点区域在x方向和y方向上对应的宽度，由此改变获得的柱体高度和半径。
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公开(公告)号：CN117950283A
公开(公告)日：2024-04-30
申请号：CN202410356480.9
申请日：2024-03-27
Applicant: 之江实验室
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种基于千束焦斑独立调控的超分辨灰度刻写装置及方法，包括：激发光、抑制光均为先通过扩束器、光束整形器进行扩束和光斑匀化，再通过反射镜反射到数字微镜阵列上；激发光和抑制光从数字微镜阵列法线出射并合束，合束后的双光束通过两个透镜组成的1：1成像系统入射微透镜阵列，使数字微镜阵列上的光场成像到微透镜阵列表面，并在微透镜阵列焦面产生千束边缘光抑制光斑阵列，该光斑阵列通过透镜和物镜组成的成像系统，成像在位移台上样品内的物镜焦面进行刻写。本发明通过产生千束边缘光抑制直写阵列，可大幅度提升刻写通量和精度，且各边缘光抑制光斑可精准独立调谐，具有高精度调谐灰度刻写的功能。
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公开(公告)号：CN117930600A
公开(公告)日：2024-04-26
申请号：CN202410330745.8
申请日：2024-03-22
Applicant: 之江实验室
Abstract: 本发明公开一种基于DMD实现双光束时空调制及扫描的打印方法及系统。该系统将单个DMD分为两个半区实现对两束窄带激光的独立高速调制，并利用二值全息术实现对其衍射级次的三维随机扫描及精确对准。进一步的，本发明还可以在空间域和时间域对两束激光进行任意调制，以适用不同曝光条件的刻写介质。通过匹配物镜的数值孔径和双光束在物镜后孔阑的距离，两束激光在物镜下垂直相交，从而实现更优的等效点扩散函数，并达到接近1：1的体素纵横比。该系统具有高灵活度，高稳定性，低复杂度和低成本的特点，适用于高通量的三维超分辨打印领域。
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公开(公告)号：CN117908339A
公开(公告)日：2024-04-19
申请号：CN202410309866.4
申请日：2024-03-19
Applicant: 之江实验室
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种宽带飞秒激光高轴向分辨率直写装置及方法，该装置按光前进方向依次包括飞秒激光光源、第一透镜、介质、第二透镜、反射镜、数字微镜阵列、第三透镜、物镜和位移台，其中，介质位于第一透镜和第二透镜之间的焦点位置，数字微镜阵列位于第三透镜的前焦面位置，物镜的焦面位于位移台所承载的样品内；利用飞秒激光在介质中的非线性作用生成宽带飞秒激光，通过数字微镜阵列对该飞秒激光进行调制实现光场调控，并结合该宽带飞秒激光在刻写平面的时空同步聚焦效应，实现对样品的刻写。本发明能够大幅度提升轴向分辨率，实现高通量、高分辨率、任意复杂结构的三维刻写。
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公开(公告)号：CN117590703A
公开(公告)日：2024-02-23
申请号：CN202311555302.0
申请日：2023-11-21
Applicant: 之江实验室
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种基于光栅光阀角色散补偿的飞秒激光扫描刻写装置及方法，该装置按光前进方向依次包括飞秒激光光源、第一柱面透镜、第二柱面透镜、偏振分束棱镜、光栅光阀、透镜、四分之一波片、反射镜、套筒透镜、物镜和位移台，将飞秒激光一维扩束成线光场进行激光扫描直写，并通过光栅光阀对飞秒线形光斑各子区域强度独立调控，产生任意强度分布的飞秒激光线光场，结合位移台的扫描，进行快速的线光场扫描刻写；由于光栅光阀具有衍射光栅属性，飞秒激光入射后会产生角色散，通过引入角色散补偿模块使出射光栅光阀后发散的飞秒激光不同波长原光路返回，实现角色散补偿。本发明的响应速度极快，可实现高效、灵活的灰度刻写和高均匀结构加工。
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