一种柔性器件及其制备方法

    公开(公告)号:CN112382666B

    公开(公告)日:2022-09-02

    申请号:CN202011225486.0

    申请日:2020-11-05

    Inventor: 常永伟 董业民

    Abstract: 本发明涉及一种柔性器件及其制备方法,主要结构由上至下包括:基底层(1)、粘结层(2)、隔离区(3)、保护层(4),及其包围的器件区,所述器件区包括源区和漏区(5)、体区(6)、栅介质层(7)、栅电极(8)、互连层(9)、第一连接电极(10)、第二连接电极(11)。本发明通过设置基底层和保护层对柔性器件形成保护,对其进行应力缓冲,能够防止外界的沾污、冲击等对器件功能层造成损伤,提高了柔性器件的可靠性和柔性。

    一种柔性电子器件及其制备方法

    公开(公告)号:CN111725149B

    公开(公告)日:2022-06-07

    申请号:CN201911000927.4

    申请日:2019-10-21

    Abstract: 本发明涉及半导体技术领域,特别涉及一种柔性电子器件及其制备方法,包括:柔性基底和电子器件,所述电子器件包括衬底层和延伸层,所述延伸层设置在所述衬底层上;所述柔性基底设置在所述延伸层远离所述衬底层的表面上。在电子器件正面形成柔性基底,可避免器件减薄、转移、键合等制造过程中导致力学失效和破坏,提高柔性器件的性能可靠性和稳定性。在电子器件之间形成大面积柔性隔离层,进一步增强器件单元之间的柔性连接,提高器件结构的整体柔韧性和延展性。本发明同时形成背栅偏压控制端,能够实现器件电学性能的动态调制,改善器件的抗辐射特性。

    一种柔性电子器件及其制备方法

    公开(公告)号:CN111725149A

    公开(公告)日:2020-09-29

    申请号:CN201911000927.4

    申请日:2019-10-21

    Abstract: 本发明涉及半导体技术领域,特别涉及一种柔性电子器件及其制备方法,包括:柔性基底和电子器件,所述电子器件包括衬底层和延伸层,所述延伸层设置在所述衬底层上;所述柔性基底设置在所述延伸层远离所述衬底层的表面上。在电子器件正面形成柔性基底,可避免器件减薄、转移、键合等制造过程中导致力学失效和破坏,提高柔性器件的性能可靠性和稳定性。在电子器件之间形成大面积柔性隔离层,进一步增强器件单元之间的柔性连接,提高器件结构的整体柔韧性和延展性。本发明同时形成背栅偏压控制端,能够实现器件电学性能的动态调制,改善器件的抗辐射特性。

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