公开(公告)号：CN119023701A

公开(公告)日：2024-11-26

申请号：CN202411497463.3

申请日：2024-10-25

Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心

Inventor： 黄进 ,  蒋晓东 ,  姚霖 ,  王海军 ,  刘太祥 ,  李昌朋 ,  顾菡

IPC: G01N21/95 ,  G01N21/88 ,  G01N21/552 ,  G01N21/31

Abstract: 本发明公开了一种光学元件表面吸收性缺陷的检测方法及检测系统，涉及光学元件检测领域，包括：S1、基于微区受抑全反射成像原理，采用EMCCD在受抑全反射条件下扫描标准玻片上的探针光倏逝波图像Ⅰ；S2、在探针光倏逝波图像Ⅰ采集之后或之前，扫描未泵浦条件下元件表面的探针光倏逝波图像Ⅱ；S3、基于设定坐标及路径，完成对待测光学元件全口径范围内的扫描；S4、将各探针光倏逝波图像Ⅰ、各探针光倏逝波图像Ⅱ分别进行拼接、对比，得到光学元件全口径范围内吸收性缺陷的相对光吸收强度。本发明提供一种光学元件表面吸收性缺陷的检测方法及检测系统，能在高效率的情况下，保证高灵敏度的检测效果。

公开(公告)号：CN116559987A

公开(公告)日：2023-08-08

申请号：CN202310599733.0

申请日：2023-05-25

Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心

Inventor： 刘太祥 ,  杨科 ,  严鸿维 ,  李昌朋 ,  黄林 ,  黄进 ,  张卓 ,  钱宇杰 ,  易聪之

IPC: G02B5/18

Abstract: 本发明公开了一种利用湿法浅刻提升光栅元件抗激光损伤性能的方法，包括：对光栅元件进行喷淋清洗；对喷淋清洗后的光栅元件进行碱液清洗；对碱液清洗后的光栅元件进行湿法浅刻；对湿法浅刻后的光栅元件进行漂洗；对漂洗后的光栅元件进行慢提拉。本发明可有效去除光栅元件表面或亚表面的污染或缺陷，大幅降低光栅元件在对激光能量的吸收，进而提升光栅元件的抗激光损伤性能，延长光栅元件使用寿命，降低光栅元件使用成本。

公开(公告)号：CN108455870B

公开(公告)日：2021-06-08

申请号：CN201810342443.7

申请日：2018-04-17

Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心

Inventor： 李昌朋 ,  李青芝 ,  石兆华 ,  邵婷 ,  夏汉定 ,  孙来喜 ,  叶鑫 ,  吴卫东 ,  蒋晓东

IPC: C03C15/00 ,  C03C17/245

Abstract: 本发明涉及光学材料领域，具体而言，涉及一种石英以及增加石英抗激光损伤性能的方法。增加石英抗激光损伤性能的方法，包括以下步骤：对石英基片进行刻蚀处理后在所述石英基片上沉积二氧化硅；在沉积所述二氧化硅的同时，对沉积的所述二氧化硅进行熔融。其通过刻蚀能够将较小的微裂纹完全去除，同时能将较大的微裂纹完全暴露并钝化裂纹尖端，便于后续熔覆过程对微裂纹的填补和修复。而后利用熔融沉积的二氧化硅的流动性修复填补裂纹，从而提高熔石英的机械性能并最终提升其抗激光损伤性能。同时，大面积均匀的沉积和熔覆玻璃涂层，使得熔石英整个表面具有较好的面型。

公开(公告)号：CN116375350B

公开(公告)日：2024-07-19

申请号：CN202310413943.6

申请日：2023-04-18

Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心

Inventor： 李昌朋 ,  杨科 ,  张卓 ,  王海军 ,  钱宇杰 ,  张传超 ,  易聪之 ,  刘太祥 ,  严鸿维 ,  黄进 ,  黄林

IPC: C03C15/00 ,  C03C23/00 ,  C03B20/00

Abstract: 本发明涉及一种高抗激光损伤性能的石英表面制备方法，包括以下步骤：先对石英基片进行刻蚀处理；其后再对所述石英基片进行Marangoni干燥处理；最后再对所述石英基片进行二氧化碳激光热处理；通过刻蚀能够有效去除石英表面的抛光残留物和亚表面缺陷层等低通量损伤前驱体，但同时也会引入高通量前驱体，比如痕量的无机盐和有机物类沉积物；而后利用Marangoni干燥大幅降低残留液膜厚度实现无机盐类沉积物的有效抑制；再利用二氧化碳激光热处理实现对有机物类沉积物的热降解，进而获得具有高抗激光损伤性能的石英表面。

公开(公告)号：CN116626793A

公开(公告)日：2023-08-22

申请号：CN202310599730.7

申请日：2023-05-25

Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心

Inventor： 刘太祥 ,  杨科 ,  严鸿维 ,  李昌朋 ,  黄林 ,  黄进 ,  张卓 ,  钱宇杰 ,  易聪之

IPC: G02B5/18 ,  C03C15/00

Abstract: 本发明公开了一种利用湿法刻蚀制作熔石英衬底曲线型光栅元件的方法，包括：对熔石英衬底进行清洗；对清洗后的熔石英衬底表面涂覆光敏性有机材料膜层；在涂覆有光敏性有机材料膜层的熔石英衬底表面曝光显影，产生光栅图像；进行湿法刻蚀，将曝光显影产生的光栅图像转移到熔石英衬底上，得到熔石英衬底光栅；对熔石英衬底光栅进行清洗，去除湿法刻蚀后熔石英衬底光栅表面残留的光敏性有机材料膜层材料，得到熔石英衬底曲线型光栅元件。本发明的方法可制作无亚表面缺陷的熔石英衬底光栅元件，进而提升熔石英衬底光栅元件的抗激光损伤性能，延长光栅元件使用寿命，降低熔石英衬底光栅元件使用成本。

公开(公告)号：CN108710163A

公开(公告)日：2018-10-26

申请号：CN201810436156.2

申请日：2018-05-08

Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心

Inventor： 李昌朋 ,  张庆军 ,  钟铭龙 ,  邵婷 ,  李青芝 ,  石兆华 ,  陈姝帆 ,  吴卫东 ,  蒋晓东

IPC: G02B1/10 ,  G02B1/14 ,  C09D129/04

Abstract: 一种熔石英表面镀聚乙烯醇涂层、制备方法以及应用，本发明属于光学材料制备技术领域，包括：用孔径为0.15‑0.30μm的PVDF过滤头对质量百分比为0.5％‑5％的聚乙烯醇水溶液进行过滤，最后冷却待用；通过旋涂或提拉镀膜的方式将所述聚乙烯醇镀制在表面整洁的熔石英基片后表面，干燥后得到聚乙烯醇涂层。这种聚乙烯醇涂层能够将最高电场强度的分布从熔石英后表面转移到涂层上，从而降低熔石英后表面的电场强度，其在紫外波段的激光损伤阈值提高10‑20％。这种方法工艺简单，条件温和，易于控制，成本低廉，环境友好，在光学材料领域具有良好的应用前景。