公开(公告)号：CN1946751B

公开(公告)日：2010-12-08

申请号：CN200580012969.X

申请日：2005-04-25

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 石冢启太 ,  肋屋和正 ,  远藤浩太郎 ,  吉田正昭

IPC: C08F20/10 ,  C08F22/00 ,  C08F36/16 ,  G03F7/11 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/11 ,  C08F220/18 ,  C08F220/28 ,  C08F232/08 ,  G03F7/2041

Abstract: 一种液浸曝光工艺，特别是通过在光刻曝光光线到达光刻胶膜的通路中，至少在前述光刻胶膜上设置特定厚度的，折射率比空气大并且比前述光刻胶膜小的液体的状态下，进行曝光提高光刻胶图案的分辨率，同时防止使用以水为首的各种浸渍液的液浸曝光中的光刻胶膜的变质和所使用浸渍液的变质，并且没有导致处理工艺步骤的增加，并可以形成使用液浸曝光的高分辨率光刻胶图案。在所使用的光刻胶膜的表面上形成了具有与浸渍光刻胶膜的液体特别是水实质上不相溶，而可溶于碱的特性的保护膜。

公开(公告)号：CN100533143C

公开(公告)日：2009-08-26

申请号：CN200510137592.2

申请日：2004-01-27

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 平山拓 ,  羽田英夫 ,  藤村悟史 ,  岩井武 ,  佐藤充 ,  高须亮一 ,  立川俊和 ,  岩下淳 ,  石塚启太 ,  山田知孝 ,  高山寿一 ,  吉田正昭

IPC: G01N33/00 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70616 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/70341 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111

Abstract: 一种在包括浸渍曝光的抗蚀剂图案形成方法中使用的抗蚀剂组合物的评价方法，该方法包括：由抗蚀剂组合物形成抗蚀剂膜，将该膜选择性曝光，其后使在浸渍曝光中使用的浸渍溶剂与膜接触，将如此得到的膜曝光后烘焙，接着将膜显影，以及评价得到的抗蚀剂图案。