光波导微流体芯片的制造方法

    公开(公告)号:CN111229335A

    公开(公告)日:2020-06-05

    申请号:CN202010052131.X

    申请日:2020-01-17

    Inventor: 陈昌 刘博 豆传国

    Abstract: 本发明提供一种光波导微流体芯片的制造方法,包括提供衬底,在衬底上形成牺牲层,在牺牲层上形成下包层;在下包层上形成波导层,波导层是氮化硅材料;以波导层形成光波导;在波导层上形成上包层;形成微流道,微流道由上而下贯穿上包层和波导层延伸进下包层;去除牺牲层,以将上包层、波导层和下包层与衬底剥离。具有有益效果:在柔性基底上沉积光学性能可调的氮化硅薄膜,扩展以氮化硅为光学器件材料应用的范围和形式,生产芯片级光学检测系统,把传统的台式甚至大型的光学系统缩小到芯片尺寸,保证同等甚至更出色的分析性能,实现微纳尺度下的生物样品的高通量芯片级光学检测和分析集成系统,大幅度降低系统成本。

    基于CMOS图像传感的光栅波导微流体检测系统

    公开(公告)号:CN111157734A

    公开(公告)日:2020-05-15

    申请号:CN202010055437.0

    申请日:2020-01-17

    Inventor: 陈昌 刘博 王靖

    Abstract: 本发明提供一种基于CMOS图像传感的光栅波导微流体检测系统,包括:微流体芯片、CMOS图像传感层和分析装置;微流体芯片包括:光栅波导和微流道,光栅波导包括出射光栅,出射光栅位于微流道下方用以将光沿垂直方向向上导入微流道内;还包括:依次由下而上设置的下包层、波导层、保护层、上包层和流道盖板,波导层是在25-150℃沉积温度下形成的氮化硅材料,波导层用以形成光栅波导;微流道贯穿上包层以暴露出保护层。具有有益效果:在CMOS图像传感层和高分子聚合材料上低温沉积光学性能可调的氮化硅光波导,不破坏CMOS图像传感层,减少了实验中对收集光路调整等准备工作,提高了实验效率;提高了检测系统的便携性,大大增加了系统的应用场景。

    光波导微流体检测系统
    13.
    发明公开

    公开(公告)号:CN111157726A

    公开(公告)日:2020-05-15

    申请号:CN202010052172.9

    申请日:2020-01-17

    Inventor: 陈昌 刘博 豆传国

    Abstract: 本发明提供一种光波导微流体检测系统,包括光波导,微流道,光谱收集装置和分析装置;光波导用以将光沿水平方向导入微流道内;微流体芯片还包括:依次由下而上设置的下包层、波导层、上包层和流道盖板,波导层是氮化硅材料,波导层用以形成光波导;微流道由上而下贯穿上包层和波导层延伸进下包层;微流道不贯穿下包层、宽度为10-100μm。具有有益效果:在柔性基底上沉积光学性能可调的氮化硅薄膜,扩展以氮化硅为光学器件材料应用的范围和形式,生产芯片级光学检测系统,把传统的台式甚至大型的光学系统缩小到芯片尺寸,保证同等甚至更出色的分析性能,实现微纳尺度下的生物样品的高通量芯片级光学检测和分析集成系统,大幅度降低系统成本。

    光栅波导多微流道芯片的制造方法

    公开(公告)号:CN111151317A

    公开(公告)日:2020-05-15

    申请号:CN202010053511.5

    申请日:2020-01-17

    Inventor: 陈昌 刘博 豆传国

    Abstract: 本发明提供一种光栅波导多微流道芯片的制造方法,包括提供衬底,在所述衬底上形成下包层;在所述下包层上形成波导层;以所述波导层形成光栅波导;所述光栅波导包括出射光栅;形成第一数量的微流道,形成微流体组;所述微流道贯穿所述上包层以暴露出所述保护层;所述出射光栅位于所述微流道下方用以将光沿垂直方向向上导入所述微流道内。具有有益效果:具有有益效果:形成光波导与多微流道一体化矩阵的结构,通过多微流体通道和大规模矩阵化的光波导来实现比传统光学系统更高通量的分析性能,快速构建高通量生物样品的芯片级的片上光学检测分析系统,实现微纳尺度下的生物检测的高通量芯片。

    基于CMOS图像传感的光栅波导微流体芯片

    公开(公告)号:CN111135890A

    公开(公告)日:2020-05-12

    申请号:CN202010054066.4

    申请日:2020-01-17

    Inventor: 陈昌 刘博 王靖

    Abstract: 本发明提供一种基于CMOS图像传感的光栅波导微流体芯片,包括:光栅波导和微流道,光栅波导包括出射光栅,出射光栅位于微流道下方用以将光沿垂直方向向上导入微流道内,还包括:依次由下而上设置的CMOS图像传感层、下包层、波导层、保护层和上包层;所述波导层是在25-150℃沉积温度下形成的氮化硅材料,波导层用以形成光栅波导;保护层是二氧化硅材料,用以覆盖光栅波导并保护出射光栅;微流道贯穿所述上包层以暴露出保护层。具有有益效果:在CMOS图像传感层和高分子聚合材料上低温沉积光学性能可调的氮化硅光波导,不破坏CMOS图像传感层,减少了实验中对收集光路调整等准备工作,提高了实验效率;提高了检测系统的便携性,大大增加了系统的应用场景。

    一种基于双束显微镜的制备纳米孔的方法及装置

    公开(公告)号:CN119100327A

    公开(公告)日:2024-12-10

    申请号:CN202310625879.8

    申请日:2023-05-30

    Abstract: 本发明提供了一种基于双束显微镜的制备纳米孔的方法,包括:提供一硅片衬底基体;其中,所述硅片衬底基体的两侧表面各沉积一层氮化硅薄膜;通过半导体工艺将所述氮化硅薄膜进行图像化,得到图像化氮化硅薄膜;通过所述双束显微镜将所述图像化氮化硅薄膜进行打孔处理,得到纳米孔;对所述纳米孔进行电化学表征检测。本发明利用双束显微镜,具有良好的分辨率,并且采用氮化硅材料可以通过光学或者电学的方式同时检测多个颗粒过孔的脉冲信号。本发明还提供了一种装置,具有相应优势。

    基于CMOS图像传感的光栅波导多微流道芯片的制造方法

    公开(公告)号:CN111229342B

    公开(公告)日:2022-02-11

    申请号:CN202010054306.0

    申请日:2020-01-17

    Inventor: 陈昌 刘博 豆传国

    Abstract: 本发明提供一种CMOS图像传感的光栅波导多微流道芯片的制造方法,包括提供CMOS图像传感层;在25‑150℃沉积温度下形成氮化硅材料的波导层;形成光栅波导组,包括光栅波导及出射光栅;形成第一数量的微流道,光栅波导组与微流道对应组成第一数量的微流体,形成微流体组;出射光栅位于微流道下方用以将光沿垂直方向向上导入所述微流道内。具有有益效果:形成光栅波导与多微流道一体化矩阵的结构,通过多微流体通道和大规模矩阵化的光栅波导来实现比传统光学系统更高通量的分析性能,快速构建高通量生物样品的芯片级的片上光学检测分析系统,实现微纳尺度下的生物检测的高通量芯片;减少实验中对收集光路调整等准备工作,提高检测系统的便携性。

    基于CMOS图像传感的光波导多微流道芯片的制造方法

    公开(公告)号:CN111250181A

    公开(公告)日:2020-06-09

    申请号:CN202010052676.0

    申请日:2020-01-17

    Inventor: 陈昌 刘博 豆传国

    Abstract: 本发明提供一种基于CMOS图像传感的光波导多微流道芯片的制造方法,包括提供CMOS图像传感层,在所述CMOS图像传感层上形成下包层;在所述下包层上形成波导层;以所述波导层形成光波导;在所述波导层上形成上包层;所述光波导用以将光沿水平方向导入所述微流道内;所述微流道暴露出所述CMOS图像传感层。具有有益效果:形成光波导与多微流道一体化矩阵的结构,通过多微流体通道和大规模矩阵化的光波导来实现比传统光学系统更高通量的分析性能,快速构建高通量生物样品的芯片级的片上光学检测分析系统,实现微纳尺度下的生物检测的高通量芯片;减少实验中对收集光路调整等准备工作,提高检测系统的便携性。

    光栅波导微流体芯片的制造方法

    公开(公告)号:CN111229339A

    公开(公告)日:2020-06-05

    申请号:CN202010053711.0

    申请日:2020-01-17

    Inventor: 陈昌 刘博 豆传国

    Abstract: 本发明提供一种光栅波导微流体芯片的制造方法,包括提供衬底,在衬底上形成牺牲层,形成下包层;形成波导层;形成光栅波导,包括出射光栅;在波导层上形成保护层,用于覆盖光栅波导并保护出射光栅;在保护层上形成上包层;形成微流道,贯穿上包层以暴露出保护层;出射光栅位于微流道下方用以将光沿垂直方向向上导入微流道内;去除牺牲层。具有有益效果:在柔性基底上沉积光学性能可调的氮化硅薄膜,扩展SiN光学器件材料的应用范围和形式,将传统光学系统通过集成光学或片上光学器件来实现,把传统的台式大型的光学系统缩小到芯片尺寸,保证出色的分析性能,实现微纳尺度下的生物样品的高通量芯片级光学检测和分析集成系统,大幅度降低系统成本。

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