一种取向纳米晶ZnTe晶体的制备方法

    公开(公告)号:CN102586880A

    公开(公告)日:2012-07-18

    申请号:CN201210080824.5

    申请日:2012-03-26

    Abstract: 本发明公开一种取向纳米晶ZnTe晶体的制备方法,即以纯度高于99.999%的金属Zn和Te为原料,在真空中合成ZnTe合金料,合金料经过去离子水清洗,用导电银胶粘结在脉冲激光沉积设备载物台上,作为溅射靶材,在室温下以脉冲激光能量密度为2~5J/cm2溅射ZnTe靶材,靶材与衬底距离设置为5cm,溅射衬底为玻璃、蓝宝石或单晶硅等,将溅射后的薄膜在30~400℃下进行原位退火处理后,即得到取向纳米晶ZnTe晶体。所得的取向纳米晶ZnTe晶体,其晶粒尺寸约为20~60nm,且具有 和 取向。与传统制备方法相比,该方法可通过溅射后退火温度控制、衬底控制实现纳米晶ZnTe晶体取向生长。

    硅酸铋闪烁晶体的定形提拉生长方法

    公开(公告)号:CN102002754B

    公开(公告)日:2012-07-04

    申请号:CN201010608426.7

    申请日:2010-12-28

    Abstract: 本发明公开了一种定形提拉法生长硅酸铋(Bi4Si3O12,简称BSO)闪烁晶体的方法,属于单晶生长领域。其特点是在坩埚中设计和安装特定形状的模具,利用定形提拉炉生长的BSO闪烁晶体。所述的方法为:Bi2O3、SiO2经过高温预烧得到BSO多晶原料,放入带有特定形状模具的坩埚中,装入定形提拉炉中。持续加热至1100-1200℃,恒温3-5h,然后下籽晶并快速提拉,生长得到板状BSO晶体。本发明能够快速生长高质量的板状BSO闪烁晶体,减少晶体生长周期,同时减少了后期的晶体加工工序,提高晶体利用率,有效节约生产成本。

    一种稀土铁氧体磁光晶体生长方法

    公开(公告)号:CN101545133B

    公开(公告)日:2011-06-29

    申请号:CN200910048392.8

    申请日:2009-03-27

    Abstract: 本发明涉及一种稀土铁氧体磁光材料RFeO3晶体(R为Y、Gd、Tm、Nd、Sm、Eu、Ho、Yb等稀土元素)的生长方法,属于单晶生长领域。即R2O3和Fe2O3形成的初烧料与PbO+PbF2+B2O3复合助熔剂混合均匀后,放入铂金坩埚内气密后,将坩埚置于下降炉内,升温熔化原料,通过控制炉温、调节坩埚底部的气流量或水流量、优化固液界面温度梯度和生长速度等参数,实现不同化学组成的该系列稀土磁光晶体的生长。本发明通过助熔剂降低了晶体生长温度,同时坩埚底部通气或通水造成局部过冷并快速成核,从而生长出大尺寸的RFeO3单晶。同时具有设备简单、一炉多产、成本低有利于实现晶体的批量生产等。

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