公开(公告)号：CN1199922A

公开(公告)日：1998-11-25

申请号：CN98105924.4

申请日：1998-03-30

Applicant: 三菱电机株式会社

Inventor： 石桥健夫 ,  丰岛利之 ,  片山圭一 ,  南出安由美

IPC: H01L21/312 ,  H01L21/302 ,  H01L21/027 ,  G03F7/00

CPC classification number: H01L21/0271 ,  G03F7/0035 ,  G03F7/038 ,  G03F7/40 ,  H01L21/0273

Abstract: 在用曝光形成抗蚀剂图形时,存在由波长引起的微细化方面的界限,故需要超越其界限。为此,把含有通过曝光产生酸的材料的抗蚀剂图形上表面用含有通过酸的存在而交联的抗蚀剂覆盖。通过加热或曝光使得在抗蚀剂图形中产生酸,作为抗蚀剂图形的被覆层形成生成在表面的交联层,使得抗蚀剂图形变粗。因此,能够缩小抗蚀剂的通孔直径,缩小分离宽度。