还原型吡咯并喹啉醌的制造方法

    公开(公告)号:CN102770432B

    公开(公告)日:2015-10-14

    申请号:CN201180009574.X

    申请日:2011-02-16

    CPC classification number: C07D471/04

    Abstract: 本发明的目的在于提供一种不需要昂贵的设备、由氧化型吡咯并喹啉醌简便地制造还原型吡咯并喹啉醌的方法、以及稳定地保存还原型吡咯并喹啉醌的方法。根据本发明,通过在溶剂中混合吡咯并喹啉醌和抗坏血酸,能够以适于工业规模的生产的方法、简便且有效地得到高品质的还原型吡咯并喹啉醌。

    光致抗蚀剂脱除剂
    20.
    发明授权

    公开(公告)号:CN100472331C

    公开(公告)日:2009-03-25

    申请号:CN200410002076.4

    申请日:2004-01-09

    Inventor: 池本一人

    CPC classification number: G03F7/425 G03F7/426

    Abstract: 本发明的光致抗蚀剂脱除剂包含由摩尔比为0.8或0.8以下的甲醛与烷醇胺进行反应而得到的反应产物。该光致抗蚀剂脱除剂能在低温下,在短时间内迅速除去涂敷在各种基体上的光致抗蚀剂层、经蚀刻后留下的光致抗蚀剂层以及经蚀刻磨光后的光致抗蚀剂残留物。该光致抗蚀剂脱除剂在除去光致抗蚀剂层和光致抗蚀剂残留物时不会对基体、导线材料、绝缘层等产生腐蚀作用,因而能实施精细加工和制成高精密电路。

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