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发明公开
半导体器件及其制造方法审中-公开

公开(公告)号：CN118450699A

公开(公告)日：2024-08-06

申请号：CN202410095371.6

申请日：2024-01-23

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 李基硕 , 高承甫 , 金钟珉 , 金熙中 , 朴相在 , 朴台镇 , 尹灿植 , 李明东 , 李泓浚 , 姜玟州 , 金根楠

IPC: H10B12/00

Abstract: 一种半导体器件包括：在第一方向上延伸并且在与第一方向交叉的第二方向上布置的第一和第二有源图案，第一和第二有源图案中的每个包括在第一方向上彼此间隔开的第一和第二边缘部分；顺序提供在第一有源图案的第一边缘部分上的第一存储节点焊盘和第一存储节点接触；以及顺序提供在第二有源图案的第二边缘部分上的第二存储节点焊盘和第二存储节点接触。第一存储节点接触和第二存储节点接触中的每个包括金属材料。

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