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公开(公告)号:CN106662806A
公开(公告)日:2017-05-10
申请号:CN201580046947.9
申请日:2015-09-17
Applicant: 三井化学株式会社
IPC: G03F1/64 , H01L21/027
CPC classification number: G03F1/64 , G03F7/2008 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供远紫外光光刻用的防护膜组件、其制造方法以及曝光方法。本发明涉及的防护膜组件具备:第1框体,该第1框体配置有防护膜;第2框体,该第2框体具有厚部和第2面,并将上述防护膜和上述第1框体从外侧包围,所述厚部包含第1面,所述第1面承接与上述第1框体的配置有上述防护膜的面相反侧的面,所述第2面与上述第1面连接并承接上述第1框体的侧面;贯通孔,该贯通孔配置在上述第2框体的上述厚部;以及过滤器,该过滤器配置在与配置有上述防护膜的上述第1框体的面交叉的上述第2框体的外侧的侧面,并覆盖上述贯通孔。
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公开(公告)号:CN117916662A
公开(公告)日:2024-04-19
申请号:CN202280061304.1
申请日:2022-09-12
Applicant: 三井化学株式会社
Abstract: 一种防护膜组件,其具备防护膜组件框、防护膜以及粘着层。粘着层的内壁面和外壁面的至少一者满足下述式(1)。式(1):([A2s]/[A50s])≤0.97。式(1)中,A2s表示通过飞行时间型二次离子质谱法对粘着层的距表面的深度为第一深度的第一深部进行分析而得的粘着层的主剂成分所含的部分结构的归一化强度。第一深度是通过用氩气团簇离子束即溅射离子枪对表面的600μm见方的区域进行累计2秒照射而形成的。A50s表示通过飞行时间型二次离子质谱法对深度为第二深度的第二深部进行分析而得的粘着层的主剂成分所含的部分结构的归一化强度。第二深度是通过用上述溅射离子枪对上述区域进行累计50秒照射而形成的。
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公开(公告)号:CN113917783B
公开(公告)日:2023-12-19
申请号:CN202111214914.4
申请日:2015-09-17
Applicant: 三井化学株式会社
Abstract: 本发明提供远紫外光光刻用的防护膜组件、其制造方法以及曝光方法。本发明涉及的防护膜组件具备:第1框体,该第1框体配置有防护膜;第2框体,该第2框体具有厚部和第2面,并将上述防护膜和上述第1框体从外侧包围,所述厚部包含第1面,所述第1面承接与上述第1框体的配置有上述防护膜的面相反侧的面,所述第2面与上述第1面连接并承接上述第1框体的侧面;贯通孔,该贯通孔配置在上述第2框体的上述厚部;以及过滤器,该过滤器配置在与配置有上述防护膜的上述第1框体的面交叉的上述第2框体的外侧的侧面,并覆盖上述贯通孔。
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公开(公告)号:CN113917783A
公开(公告)日:2022-01-11
申请号:CN202111214914.4
申请日:2015-09-17
Applicant: 三井化学株式会社
Abstract: 本发明提供远紫外光光刻用的防护膜组件、其制造方法以及曝光方法。本发明涉及的防护膜组件具备:第1框体,该第1框体配置有防护膜;第2框体,该第2框体具有厚部和第2面,并将上述防护膜和上述第1框体从外侧包围,所述厚部包含第1面,所述第1面承接与上述第1框体的配置有上述防护膜的面相反侧的面,所述第2面与上述第1面连接并承接上述第1框体的侧面;贯通孔,该贯通孔配置在上述第2框体的上述厚部;以及过滤器,该过滤器配置在与配置有上述防护膜的上述第1框体的面交叉的上述第2框体的外侧的侧面,并覆盖上述贯通孔。
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公开(公告)号:CN106796391B
公开(公告)日:2020-02-11
申请号:CN201580046926.7
申请日:2015-09-18
Applicant: 三井化学株式会社
IPC: G03F1/64 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供远紫外光光刻用的防护膜组件、其制造方法以及曝光方法。本发明涉及的防护膜组件具备:配置有防护膜的第1框体;支持上述第1框体的第2框体;贯通上述第1框体的贯通孔;以及在上述第1框体的配置有上述防护膜的面侧覆盖上述贯通孔的过滤器。上述贯通孔可以贯通上述防护膜,上述过滤器可以配置在上述防护膜上。此外,上述过滤器可以与上述防护膜相邻地配置在上述第1框体上。
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公开(公告)号:CN103842399A
公开(公告)日:2014-06-04
申请号:CN201280048389.6
申请日:2012-10-05
Applicant: 三井化学株式会社
CPC classification number: C09K3/10 , C08G18/2081 , C08G18/3876 , C08G18/757 , C08G18/7621 , C08G18/7671 , C08G2190/00 , C09D175/04 , G02B1/04 , H01L51/5253 , C08G18/2063 , H05B33/02 , C08L75/04 , C08L81/00
Abstract: 本发明的聚合性组合物含有(A)异氰酸酯化合物、(B)选自4,8或4,7或5,7-二巯基甲基-1,11-二巯基-3,6,9-三硫杂十一烷、4-巯基甲基-1,8-二巯基-3,6-二硫杂辛烷、季戊四醇四巯基乙酸酯、季戊四醇四巯基丙酸酯、2,5-双(巯基甲基)-1,4-二噻烷、双(巯基乙基)硫醚、1,1,3,3-四(巯基甲基硫基)丙烷、4,6-双(巯基甲基硫基)-1,3-二噻烷、2-(2,2-双(巯基甲基硫基)乙基)-1,3-二硫杂环丁烷中的至少一种的硫醇化合物、和(C)有机强碱盐。
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公开(公告)号:CN118020023A
公开(公告)日:2024-05-10
申请号:CN202280061342.7
申请日:2022-09-12
Applicant: 三井化学株式会社
Abstract: 本发明的防护膜组件具备防护膜组件框、支撑于上述防护膜组件框的一个端面的防护膜、以及设于上述防护膜组件框的另一个端面的粘着层,并且满足下述式(1)。式(1):[A60℃]≥4.0gf/mm2。式(1)中,[A60℃]表示将防护膜组件制成试验用层叠体时的第一剥离强度。试验用层叠体是通过将防护膜组件以粘着层与石英玻璃基板的表面接触的方式载置在石英玻璃基板上、并且在预定的条件下将载荷保持在防护膜组件上而获得的。第一剥离强度表示在预定的条件下,使用标准型万能试验机将试验用层叠体所含的防护膜组件从上述石英玻璃基板剥离时所需要的每单位粘接面积的载荷。
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公开(公告)号:CN115398334B
公开(公告)日:2023-09-26
申请号:CN202180027875.9
申请日:2021-04-02
Applicant: 三井化学株式会社 , 国立研究开发法人产业技术综合研究所
Abstract: 一种曝光用防护膜,其包含碳纳米管膜,碳纳米管膜含有碳纳米管,碳纳米管膜在波长13.5nm时的EUV光的透射率为80%以上,碳纳米管膜的厚度为1nm以上50nm以下,将碳纳米管膜配置于硅基板上,对于配置后的碳纳米管膜,使用反射分光膜厚度计,以下述条件测定反射率时,反射率的3σ为15%以下。<条件>测定点的直径:20μm,基准测定波长:波长285nm,测定点数:121点,相邻的测定点的中心点间距离:40μm。
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公开(公告)号:CN115136072A
公开(公告)日:2022-09-30
申请号:CN202180015498.7
申请日:2021-03-24
Applicant: 三井化学株式会社
Abstract: 本公开的目的在于提供一种具有平坦性良好的粘着剂层的防护膜组件、及用于再现性良好地制造该防护膜组件的方法。所述目的通过如下的防护膜组件来达成,所述防护膜组件具有:防护膜组件框、铺设于防护膜组件框的一端面的防护膜以及设置于防护膜组件框的另一端面的粘着剂层,粘着剂层包含树脂组合物的固化物,所述树脂组合物包含固化性聚合物(A)、固化剂(B1)以及固化剂(B2),固化剂(B1)及固化剂(B2)为固化条件不同的固化剂。
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公开(公告)号:CN106662806B
公开(公告)日:2021-11-05
申请号:CN201580046947.9
申请日:2015-09-17
Applicant: 三井化学株式会社
IPC: G03F1/64 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供远紫外光光刻用的防护膜组件、其制造方法以及曝光方法。本发明涉及的防护膜组件具备:第1框体,该第1框体配置有防护膜;第2框体,该第2框体具有厚部和第2面,并将上述防护膜和上述第1框体从外侧包围,所述厚部包含第1面,所述第1面承接与上述第1框体的配置有上述防护膜的面相反侧的面,所述第2面与上述第1面连接并承接上述第1框体的侧面;贯通孔,该贯通孔配置在上述第2框体的上述厚部;以及过滤器,该过滤器配置在与配置有上述防护膜的上述第1框体的面交叉的上述第2框体的外侧的侧面,并覆盖上述贯通孔。
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