防护膜组件、曝光原版、曝光装置和防护膜组件的制造方法

    公开(公告)号:CN117916662A

    公开(公告)日:2024-04-19

    申请号:CN202280061304.1

    申请日:2022-09-12

    Abstract: 一种防护膜组件,其具备防护膜组件框、防护膜以及粘着层。粘着层的内壁面和外壁面的至少一者满足下述式(1)。式(1):([A2s]/[A50s])≤0.97。式(1)中,A2s表示通过飞行时间型二次离子质谱法对粘着层的距表面的深度为第一深度的第一深部进行分析而得的粘着层的主剂成分所含的部分结构的归一化强度。第一深度是通过用氩气团簇离子束即溅射离子枪对表面的600μm见方的区域进行累计2秒照射而形成的。A50s表示通过飞行时间型二次离子质谱法对深度为第二深度的第二深部进行分析而得的粘着层的主剂成分所含的部分结构的归一化强度。第二深度是通过用上述溅射离子枪对上述区域进行累计50秒照射而形成的。

    防护膜组件、其制造方法及曝光方法

    公开(公告)号:CN113917783B

    公开(公告)日:2023-12-19

    申请号:CN202111214914.4

    申请日:2015-09-17

    Abstract: 本发明提供远紫外光光刻用的防护膜组件、其制造方法以及曝光方法。本发明涉及的防护膜组件具备:第1框体,该第1框体配置有防护膜;第2框体,该第2框体具有厚部和第2面,并将上述防护膜和上述第1框体从外侧包围,所述厚部包含第1面,所述第1面承接与上述第1框体的配置有上述防护膜的面相反侧的面,所述第2面与上述第1面连接并承接上述第1框体的侧面;贯通孔,该贯通孔配置在上述第2框体的上述厚部;以及过滤器,该过滤器配置在与配置有上述防护膜的上述第1框体的面交叉的上述第2框体的外侧的侧面,并覆盖上述贯通孔。

    防护膜组件、其制造方法及曝光方法

    公开(公告)号:CN113917783A

    公开(公告)日:2022-01-11

    申请号:CN202111214914.4

    申请日:2015-09-17

    Abstract: 本发明提供远紫外光光刻用的防护膜组件、其制造方法以及曝光方法。本发明涉及的防护膜组件具备:第1框体,该第1框体配置有防护膜;第2框体,该第2框体具有厚部和第2面,并将上述防护膜和上述第1框体从外侧包围,所述厚部包含第1面,所述第1面承接与上述第1框体的配置有上述防护膜的面相反侧的面,所述第2面与上述第1面连接并承接上述第1框体的侧面;贯通孔,该贯通孔配置在上述第2框体的上述厚部;以及过滤器,该过滤器配置在与配置有上述防护膜的上述第1框体的面交叉的上述第2框体的外侧的侧面,并覆盖上述贯通孔。

    防护膜组件、曝光原版、曝光装置和防护膜组件的制造方法

    公开(公告)号:CN118020023A

    公开(公告)日:2024-05-10

    申请号:CN202280061342.7

    申请日:2022-09-12

    Abstract: 本发明的防护膜组件具备防护膜组件框、支撑于上述防护膜组件框的一个端面的防护膜、以及设于上述防护膜组件框的另一个端面的粘着层,并且满足下述式(1)。式(1):[A60℃]≥4.0gf/mm2。式(1)中,[A60℃]表示将防护膜组件制成试验用层叠体时的第一剥离强度。试验用层叠体是通过将防护膜组件以粘着层与石英玻璃基板的表面接触的方式载置在石英玻璃基板上、并且在预定的条件下将载荷保持在防护膜组件上而获得的。第一剥离强度表示在预定的条件下,使用标准型万能试验机将试验用层叠体所含的防护膜组件从上述石英玻璃基板剥离时所需要的每单位粘接面积的载荷。

    防护膜组件及其制造方法
    19.
    发明公开

    公开(公告)号:CN115136072A

    公开(公告)日:2022-09-30

    申请号:CN202180015498.7

    申请日:2021-03-24

    Abstract: 本公开的目的在于提供一种具有平坦性良好的粘着剂层的防护膜组件、及用于再现性良好地制造该防护膜组件的方法。所述目的通过如下的防护膜组件来达成,所述防护膜组件具有:防护膜组件框、铺设于防护膜组件框的一端面的防护膜以及设置于防护膜组件框的另一端面的粘着剂层,粘着剂层包含树脂组合物的固化物,所述树脂组合物包含固化性聚合物(A)、固化剂(B1)以及固化剂(B2),固化剂(B1)及固化剂(B2)为固化条件不同的固化剂。

    防护膜组件、其制造方法及曝光方法

    公开(公告)号:CN106662806B

    公开(公告)日:2021-11-05

    申请号:CN201580046947.9

    申请日:2015-09-17

    Abstract: 本发明提供远紫外光光刻用的防护膜组件、其制造方法以及曝光方法。本发明涉及的防护膜组件具备:第1框体,该第1框体配置有防护膜;第2框体,该第2框体具有厚部和第2面,并将上述防护膜和上述第1框体从外侧包围,所述厚部包含第1面,所述第1面承接与上述第1框体的配置有上述防护膜的面相反侧的面,所述第2面与上述第1面连接并承接上述第1框体的侧面;贯通孔,该贯通孔配置在上述第2框体的上述厚部;以及过滤器,该过滤器配置在与配置有上述防护膜的上述第1框体的面交叉的上述第2框体的外侧的侧面,并覆盖上述贯通孔。

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