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公开(公告)号：CN115044233B
公开(公告)日：2023-03-31
申请号：CN202210578973.8
申请日：2022-05-25
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: C09D1/02 , C09D1/00 , C09D133/04 , C09D183/04 , C09D129/04 , C09D7/62
Abstract: 本发明提供一种抗高能激光烧蚀自愈合涂层及其制备方法，所述抗高能激光烧蚀自愈合涂层包括硅酸盐树脂、有机树脂、笼型聚倍半硅氧烷(羟基POSS)等，再通过加入氧化锆纳米纤维、氧化硼粉末、特性填料来提高涂层的抗高能激光与自愈合性能，最后再均匀涂覆在特种陶瓷表面室温固化后即可得抗高能激光烧蚀自愈合涂层。本发明提供的抗高能激光烧蚀自愈合涂层所用硅酸盐树脂、有机树脂、羟基POSS在高温陶瓷化后结构致密稳定，氧化锆纳米纤维的引入提高涂层表面反射率，减少辐射热能，氧化硼粉末在高能激光下熔融提供玻璃相，实现涂层本征型自愈合，特性填料的存在能吸收一些反射不完全的辐射热能，一些填料熔融后会自愈合激光辐照后留下的部分缺陷，还能催化原位生成短纤维，实现涂层自增韧。该抗高能激光自愈合涂层结构致密完整，抗高能激光反射与自愈合性能优异，在抗高能激光防护领域意义重大。
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公开(公告)号：CN115304884A
公开(公告)日：2022-11-08
申请号：CN202210969580.X
申请日：2022-08-12
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 一种自愈合与损伤原位识别环氧树脂复合材料及其制备方法与应用，属于复合材料制备技术领域。本发明采用Pickering乳液模板法制备出粒径均匀、尺寸可控易于大规模生产的环氧树脂和硫醇微胶囊，利用该双组分微胶囊所负载的修复剂反应释放大量热的特点，将外援自愈合与被动式红外实时监测技术相融合，发明了一种被动式红外原位实时监测技术，依靠损伤区域微胶囊破裂后(破损方式是受外力作用，如挤压，弯折，冲击，剪切，撕拉等)，修复剂在对损伤进行高强度修复的同时，反应局部放热释放热信号可被红外热成像仪捕捉的特点，实时原位监测损伤的产生、生长、演变过程。
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公开(公告)号：CN114561011A
公开(公告)日：2022-05-31
申请号：CN202210233843.0
申请日：2022-03-10
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 本发明公开了一种自乳化离子型水性聚酰胺酰亚胺及其制备方法、碳纤维上浆剂及其制备方法和应用，属于高分子及复合材料领域，具体方案如下：一种自乳化非离子型水性聚酰胺酰亚胺，结构式如式Ⅰ所示：本发明中提供的聚酰胺酰亚胺可通过自乳化在水及少量有机溶剂的存在下形成均一稳定的水性分散体，无需使用表面活性剂，显著提高复合材料力学性能。本发明中的亲水性基团季铵盐侧基，可在纤维上浆工艺中脱去，有利于提高纤维及其复合材料的抗湿热老化性能。本发明的聚酰胺酰亚胺上浆剂解决了传统碳纤维环氧上浆剂与高性能热塑性树脂复合材料耐热性、相容性不匹配的难题，适用于多种碳纤维增强高性能热塑性复合材料。
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公开(公告)号：CN111172764B
公开(公告)日：2022-05-13
申请号：CN202010091264.8
申请日：2020-02-13
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: D06M15/59 , D06M11/74 , D06M101/36
Abstract: 一种凯夫拉纳米纤维/碳纳米管复合增强纤维的方法，它涉及一种增强纤维的方法。本发明的目的是要解决现有凯夫拉纤维的反应活性低，难以通过表面化学改性的方法进一步提升其拉伸强度的问题。方法：一、凯夫拉纤维的预处理；二、凯夫拉纳米纤维溶液的制备；三、制备凯夫拉纳米纤维/碳纳米管混合分散液；四、超声处理、干燥，得到凯夫拉纳米纤维/碳纳米管复合增强纤维。本发明制备过程简单易行，条件温和，尤其是凯夫拉纤维本身难以通过化学方法改性，本发明无需借助其他化学反应或多余的化学成分，仅利用本体纳米纤维即可将碳纳米管稳定地修饰到凯夫拉纤维表面，进而起到增强凯夫拉纤维的效果。本发明可获得一种凯夫拉纳米纤维/碳纳米管复合增强纤维。
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公开(公告)号：CN112980020B
公开(公告)日：2022-05-10
申请号：CN202110335653.5
申请日：2021-03-29
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 一种兼具可逆变色和紫外屏蔽的POSS基膜材料的合成方法，属于POSS基材料合成技术领域。本发明解决了目前同时兼具热致变色和紫外屏蔽性能材料较少，且POSS应用范围固定的问题，所述方法为：将POSS溶解在水中；将铜盐和铬盐加入到POSS水溶液中，室温搅拌3h；20‑40℃搅拌1～24h，20‑80℃挥发溶剂，得到兼具可逆变色和紫外屏蔽的POSS基膜材料。本发明首次合成了兼具可逆变色和紫外屏蔽的POSS基膜材料，POSS基膜材料在80℃，由绿色变成亮黄色，变色明显，且膜材料的在200‑400nm处几乎没有紫外透过，紫外透过率几乎为0％，可用作紫外屏蔽材料。本发明室温合成，绿色环保的方法，将POSS同时应用到变色和紫外屏蔽领域。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113527637B
公开(公告)日：2022-05-03
申请号：CN202110908914.8
申请日：2021-08-09
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: C08G59/50 , C07C319/20 , C07C323/36 , C08J5/24 , C08J11/10 , C08L63/02 , C08K7/06
Abstract: 一种可γ射线辐照降解的热固性环氧树脂的制备及降解方法，属于γ射线辐照降解环氧树脂技术领域。本发明要解决现有环氧树脂材料降解条件苛刻，同时难以兼顾环氧树脂优异使用性能与降解性能的技术问题。本发明方法为γ射线辐照降解；该降解方法应用于降解热固性环氧树脂和环氧树脂复合材料。本发明通过在环氧树脂固化剂结构中引入稳定的共轭结构连接的N—N键或N—O键，通过交联固化反应将其引入到环氧树脂交联结构中，使得交联网络中的N—N键或者N—O键在γ射线辐照条件下优先断裂，达到降解热固性环氧树脂的目的。本发明使用的γ射线辐照降解方法真正的实现了零能耗，无需高温、高压、强酸、强碱等苛刻降解条件。
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公开(公告)号：CN111807808B
公开(公告)日：2022-04-22
申请号：CN202010803914.7
申请日：2020-08-11
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 一种耐高温隔热复合材料的制备方法，属于复合材料制备技术领域。本发明的目的是为了实现高蒙脱土填充的同时、提高材料的机械性能，所述方法为：将蒙脱土放在NaCl溶液中，油浴搅拌处理，除去Cl‑，烘干；加入有机聚合物，混合均匀，加入乙酸乙酯，在常温下搅拌30min，去除乙酸乙酯挥发掉，得到有机杂化蒙脱土；将磷酸盐树脂与金属氧化物按照1：1的质量比混合，研制出磷酸盐胶黏剂，加入到制备好的有机杂化蒙脱土中，混合均匀放进模具中，压制成圆柱形样品；将成型的材料进行阶梯状的温度固化即可。本方法用来制备一种磷酸盐、耐高温聚合物共同杂化的有机‑无机杂化蒙脱土复合材料使其具有一定的强度和形变能力。
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公开(公告)号：CN114225089A
公开(公告)日：2022-03-25
申请号：CN202111544891.3
申请日：2021-12-16
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 一种电活性抗菌止血敷料的制备方法，涉及一种止血敷料的制备方法。目的是现有的壳聚糖和MXene复合时结构不稳定的问题。制备方法：将壳聚糖纤维敷料基材置于真空干燥箱中干燥，制备Mxene水分散液，采用聚多巴胺(PDA)对MXene进行修饰得到PDA修饰MXene纳米片溶液，最后与壳聚糖纤维敷料混合抽滤，得到壳聚糖/MXene电活性抗菌止血敷料。本发明采用聚多巴胺在MXene表面氧化和聚合对MXene进行修饰提高所得敷料的组织湿粘附能力，所得敷料具有良好的吸水性能、优异的生物相容性、止血性能、导电性和机械强度。本发明适用于制备止血敷料。
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公开(公告)号：CN110685157B
公开(公告)日：2022-02-11
申请号：CN201911121606.X
申请日：2019-11-15
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: D06M15/37 , D06M13/368 , C08G83/00 , D06M101/30
Abstract: 一种利用在纤维表面负载过渡金属离子增强纤维抗紫外光性能的方法，本发明涉及增强纤维抗紫外光性能的方法。本发明要解决现有化学纤维抗紫外改性后纤维力学性能下降严重，抗紫外光性能并不理想，且操作复杂，成本较高的问题。方法：一、纤维表面的预处理；二、过渡金属离子负载媒介在纤维表面的生长；三、基于金属有机骨架化合物媒介的过渡金属离子配位，即完成利用在纤维表面负载过渡金属离子增强纤维抗紫外光性能的方法。
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公开(公告)号：CN110483777B
公开(公告)日：2022-02-08
申请号：CN201910854383.1
申请日：2019-09-10
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 一种多硅羟基POSS的合成方法，属于POSS制备技术领域。所述方法步骤如下：步骤一：将甲醇溶液和四丙氧基硅烷混合；步骤二：加入四甲/乙基氢氧化铵作为催化剂，20℃～40℃水解缩合24～36h；步骤三：混合液旋蒸浓缩得到粘稠态透明液体，3～5次水洗，除去多余的催化剂，即得到多硅羟基POSS。本发明合成了长久以来国内外未有涉猎的多硅羟基POSS，一步法直接合成多硅羟基POSS，合成方法简单易操作，且产物后处理简单。直接使用四丙氧基硅烷一步合成多硅羟基POSS。使用Et4NOH/Me4NOH作为催化剂，低温合成多硅羟基POSS，操作简单且合成条件温和。本发明合成多硅羟基POSS，产率高且耗时短。
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