具有延伸漏结构的超结双SOI-LDMOS器件及制造方法

    公开(公告)号:CN117766588A

    公开(公告)日:2024-03-26

    申请号:CN202410196269.5

    申请日:2024-02-22

    Abstract: 本发明提出了一种具有延伸漏结构的超结双SOI‑LDMOS器件及制造方法,该器件包括:位于第二埋氧层上的第二SOI层,包括半导体区和半导体延伸漏接触区;位于第一埋氧层上的第一SOI层,包括体接触区、源区、漏区以及漂移区;漏极金属,其中漏极金属的第一部分平行于器件纵向的一侧面与第一埋氧层接触,其下表面与半导体延伸漏接触区的上表面;漏极金属的第二部分与半导体漏区的上表面接触。本发明在器件导通时利用第二SOI层中交替排列的第一半导体区和第二半导体区和延伸漏结构,使得第一SOI层漂移区表面感应出多数载流子,降低了比导通电阻;也在器件关断时改善了漂移区的势场分布从而提高了击穿电压。

    提升体硅LDMOS性能的动态背栅控制系统及体硅LDMOS的制造方法

    公开(公告)号:CN117614432A

    公开(公告)日:2024-02-27

    申请号:CN202311428545.8

    申请日:2023-10-30

    Abstract: 本发明提出了一种提升体硅LDMOS性能的动态背栅控制系统及体硅LDMOS的制造方法,该系统包括体硅LDMOS,包括栅极金属及背栅金属;动态背栅控制电路,其包括依次电连接的波形产生器、三电平逆变器、负电压转换器及电平转换器;负电压转换器包括负电压输出端和零电压输出端;负电压输出端连接电平转换器的第一输入端,零电压输出端连接电平转换器的第二输入端并接地;电平转换器的第一输出端连接栅极金属,其第二输出端连接背栅金属。本发明具有独立的背栅电极,通过在衍生的背栅电极上施加偏置,诱导界面电荷,调制外延层的电场分布,增加体内漏电端的电场,使其提高击穿电压,又因其漂移区采用重掺杂而具有低的比导通电阻,改进了两者之间的折中关系。

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