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公开(公告)号：CN101495665B
公开(公告)日：2011-07-13
申请号：CN200780027962.4
申请日：2007-07-18
Applicant: 新明和工业株式会社
CPC classification number: C23C14/14 , C22C5/06 , C23C14/32 , G11B7/266 , G11B11/10582
Abstract: 本发明的真空成膜装置(100)具备内部能够减压的真空槽(20)、在真空槽(20)内支持基板(11)的基板托架(12)、对基板托架(12)施加偏压的偏置电源(V1)、在真空槽内，配置在银中添加铋的反射膜用的材料的材料支架(15)、以及从材料支架(15)向基板放出材料，同时在材料放出时使所述材料离子化的材料放出手段，基于偏压使离子化的材料的动能增加，以在基板上堆积材料构成的反射膜，反射膜的反射率基于偏压以及铋的添加量进行调整。
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公开(公告)号：CN102099584A
公开(公告)日：2011-06-15
申请号：CN200980127887.8
申请日：2009-07-15
Applicant: 新明和工业株式会社
CPC classification number: F04D29/225
Abstract: 本发明公开了一种离心泵用叶轮及离心泵。离心泵用叶轮(11)，包括叶轮主体和一个离心叶片(37)，在该叶轮主体内形成有内部流路(35)，该离心叶片(37)设置在叶轮主体中，使得出口(34)的位置成为该离心叶片(37)的前缘且叶轮主体的外周缘上的规定位置成为该离心叶片(37)的后缘。离心叶片(37)设计为：由离心叶片(37)划分出的外部流路(36)中在圆周方向上从离心叶片(37)的后缘算起的270°的角度范围内的部分的面积与由叶轮主体的外周缘包围的叶轮主体的整体面积之比小于0.3。
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公开(公告)号：CN102072166A
公开(公告)日：2011-05-25
申请号：CN201010277905.5
申请日：2010-09-08
IPC: F04D13/06 , F04D29/044
CPC classification number: F04D29/0473
Abstract: 本发明涉及一种配备有轴承的水泵，可以包括：驱动轴；围绕驱动轴的外周安装的至少两个彼此接合的圆弧型的轴承；壳体，壳体中固定有至少两个所述圆弧型的轴承，从而驱动轴可以在至少两个所述圆弧型的轴承中转动。
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公开(公告)号：CN102072164A
公开(公告)日：2011-05-25
申请号：CN201010254061.2
申请日：2010-08-16
IPC: F04D13/06
CPC classification number: F04D13/064 , H02K5/128
Abstract: 一种电动水泵装置，可以包括：主体，其在其中具有定子腔和转子腔；定子，其具有中空的圆筒形形状且设置在所述定子腔中，并且产生磁场，其中所述定子使得所述定子腔和所述转子腔流体隔绝；转子，其设置在所述转子腔中且被所述定子包围，其中所述转子在所述定子处产生的磁场的作用下旋转；和泵盖，其与所述主体连接，且在所述泵盖中形成涡旋腔，其中所述涡旋腔和所述转子腔通过形成于所述主体的连接孔流体连通，并且冷却液通过所述连接孔被供给至所述转子腔，其中所述定子包括在其中的内圆周上形成的定子凹槽，所述定子凹槽通过所述连接孔与所述转子腔和所述涡旋腔流体连接。
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公开(公告)号：CN102035227A
公开(公告)日：2011-04-27
申请号：CN201010298310.8
申请日：2010-09-30
Applicant: 新明和工业株式会社
Inventor： 金口晃
IPC: H02J7/00
CPC classification number: Y02E40/50
Abstract: 本发明提供能够利用机械式停车设备的三相电源平衡良好地取出多个充电用的单相电源的机械式停车设备的充电控制方法及其控制装置。为了从机械式停车设备的动力用三相电源取出多台电动车辆充电用的单相电源，对进行组合以便能够从所述三相电源取出单相电源的二相的各电磁接触器的接点进行控制，有选择地切换各电磁接触器的接点，以此选择三相电源的二相，以对多台电动车辆的充电状况进行监视，避免电流平衡劣化。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101300372B
公开(公告)日：2011-01-26
申请号：CN200680041174.6
申请日：2006-11-02
Applicant: 新明和工业株式会社
IPC: C23C14/35
CPC classification number: C23C14/3407 , H01J37/3405 , H01J37/3461
Abstract: 本发明提供能够利用简单的驱动机构改变靶表面上的磁力线分布，谋求靶的均匀侵蚀的磁体构件。磁体构件(110)具备配置于靶(20)的背面(20B)一侧，而且配置得能够形成达到靶(20A)表面的主磁力线的主磁体(10、13)、配置于所述靶(20)的背面(20B)一侧，配置得可形成能够改变主磁力线形成的磁通密度分布的校正磁力线的校正磁体(11)、配置于所述靶(20)的背面(20B)一侧的所述校正磁力线的磁路(21A、21B、24)、以及能够改变贯通磁路(21A、21B、24)内部的校正磁力线的强度的磁场校正手段(12、14)。
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公开(公告)号：CN101943498A
公开(公告)日：2011-01-12
申请号：CN201010503347.X
申请日：2005-01-05
Applicant: 新明和工业株式会社
CPC classification number: F25B9/006 , F25B39/028 , F25B45/00 , F25B49/005 , F25B2500/01 , F25B2500/26 , F25B2700/1931 , F25D11/04 , F25D2400/30
Abstract: 本发明涉及一种超低温冷冻装置，于使用混合沸点相互各异复数种冷媒的混合冷媒的超低温冷冻装置(R)中，为确保对于过冷却器(31)的液体冷媒流量，增大低温盘管(32)的冷却效率，对于设置了低温盘管(32)及毛细管(29)的主冷媒回路(38)、上流端连接于上述主冷媒回路(38)的上流端，设置了毛细管(28)的副冷媒回路(39)，使副冷媒回路(39)的高度位置低于主冷媒回路(38)的高度位置。使自过冷却器(31)一次一侧(31a)喷出的气液混合状态冷媒流入副冷媒回路(39)的流量比流入主冷媒回路(38)的流量多，流向副冷媒回路(39)的液体冷媒流量比流入主冷媒回路(38)的流量增加。
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公开(公告)号：CN1701131B
公开(公告)日：2010-04-28
申请号：CN200480000795.0
申请日：2004-05-25
Applicant: 新明和工业株式会社
CPC classification number: C23C14/205 , B05D1/62 , B05D5/068 , C23C14/0036 , C23C14/0089 , C23C14/352 , C23C14/562 , C23C16/45557 , C23C16/509
Abstract: 本发明的成膜装置及方法是由HF电源(11)对背面配置有永久磁铁(10)的阴极(5)提供高频电压，使其产生反应模式的等离子体，使用该等离子体进行等离子体聚合成膜。又，调整真空室(1)内的等离子体源气体的压力，产生金属模式的等离子体而非反应模式的等离子体，使用该等离子体，使作为溅射靶的阴极(5)溅射，进行磁控溅射成膜。
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公开(公告)号：CN100529815C
公开(公告)日：2009-08-19
申请号：CN02156957.6
申请日：2002-09-20
CPC classification number: G02B1/113 , C23C14/0694 , C23C14/32
Abstract: 本发明提供光学特性和耐磨耗性优良、并且能够在低温下形成的光学系统的膜结构。在用于把可见光透射率调整为任意值的光学系统(101)中，使光学系统(101)的至少一部分由具有3nm以上并且10nm以下的结晶粒径的氟化物(103)构成。该氟化物(103)还具有1～5m2/g的比表面积。
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公开(公告)号：CN101495665A
公开(公告)日：2009-07-29
申请号：CN200780027962.4
申请日：2007-07-18
Applicant: 新明和工业株式会社
CPC classification number: C23C14/14 , C22C5/06 , C23C14/32 , G11B7/266 , G11B11/10582
Abstract: 本发明的真空成膜装置(100)具备内部能够减压的真空槽(20)、在真空槽(20)内支持基板(11)的基板托架(12)、对基板托架(12)施加偏压的偏置电源(V1)、在真空槽内，配置在银中添加铋的反射膜用的材料的材料支架(15)、以及从材料支架(15)向基板放出材料，同时在材料放出时使所述材料离子化的材料放出手段，基于偏压使离子化的材料的动能增加，以在基板上堆积材料构成的反射膜，反射膜的反射率基于偏压以及铋的添加量进行调整。
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