-
公开(公告)号：CN114914776A
公开(公告)日：2022-08-16
申请号：CN202210388293.X
申请日：2022-04-13
Applicant: 同济大学
IPC: H01S3/04
Abstract: 本发明涉及一种用于激光系统的镜片散热装置，安装在激光系统的镜片上，所述镜片散热装置包括安装镜架、固定压圈和冷却接头，所述安装镜架设有中心孔洞和围绕该中心孔洞的镜片安装槽，所述安装镜架、镜片和固定压圈依次连接，所述镜片安装在所述镜片安装槽内，所述固定压圈还固定连接所述安装镜架；所述安装镜架内部形成有冷却流道，该冷却流道的端部贯通安装镜架的端面，形成冷却液进出口。与现有技术相比，本发明散热装置简单可靠，能够达到快速散热的目的，保证镜片温升处于稳定状态，不会随着时间的增加累积增加。
-
公开(公告)号：CN113566714A
公开(公告)日：2021-10-29
申请号：CN202110862699.2
申请日：2021-07-29
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种自溯源型光栅干涉精密位移测量系统，包括相干光源、光电探测模块、自溯源光栅和信号处理模块，所述自溯源光栅设置于待测的位移运动平台上，所述相干光源、光电探测模块和信号处理模块依次连接，所述相干光源产生的激光经光电探测模块传播后，入射至自溯源光栅，与自溯源光栅发生衍射作用，返回至光电探测模块中继续传播，进入信号处理模块，信号处理模块采集干涉信号获取运动位移量和运动方向。与现有技术相比，本发明克服了位移测量溯源难度大和光栅刻线密度低的缺点，其直接溯源的测量途径具有位移测量准确性高、鲁棒性强的优势。
-
公开(公告)号：CN109471211B
公开(公告)日：2021-07-02
申请号：CN201811639285.8
申请日：2018-12-29
Applicant: 润坤(上海)光学科技有限公司 , 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种消偏振合束镜薄膜，包括基底以及设置在基底上的第一薄膜，所述的第一薄膜的膜系结构为Sub|x1H x2L x3H x4L......xk‑3H xk‑2L xk‑1H xkL|Air，其中，Sub为薄膜元件基板，Air为出射介质空气，H和L分别为1/4中心波长光学厚度的高折射率材料薄膜层和低折射率材料薄膜层，x1～xk为每层薄膜层的光学厚度系数，k为薄膜层总数。与现有技术相比，本发明具有优化过程简单，膜系规整，便于精确制备，降低了制备复杂性，消偏效果好、光谱特性优良，便于推广使用等优点，在大型激光装置光路传输中具有广阔的实用前景，可用于不同波长激光的非相干合束。
-
公开(公告)号：CN112596137A
公开(公告)日：2021-04-02
申请号：CN202011420469.2
申请日：2020-12-07
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种高损伤阈值的多层介质膜矩形衍射光栅制备方法，包括以下步骤：镀制多层介质膜；在Si片上刻蚀制备出与目标矩形光栅结构相反的矩形Si光栅母版；利用软材料模板转移矩形Si光栅母版的图案；使用紫外纳米软压印技术，通过软材料模板在多层介质膜上形成与目标矩形光栅结构相反的光刻胶光栅；使用原子层沉积工艺在所述光刻胶光栅上沉积构成光栅的薄膜；去除多余薄膜和光刻胶，形成需要的矩形光栅结构。与现有技术相比，本发明克服了传统光栅刻蚀工艺造成的梯形光栅结构，解决了梯形光栅结构偏差引起的光栅内电场增强效应加剧，避免了因刻蚀过程中离子束轰击在介质光栅侧壁产生吸收缺陷，提高介质多层膜衍射光栅的激光损伤阈值。
-
公开(公告)号：CN108919398B
公开(公告)日：2020-07-07
申请号：CN201810548515.3
申请日：2018-05-31
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种二维原子光刻栅格结构制备方法，包括以下步骤：基于原子光刻技术在基板上进行第一次原子光刻，得到一维原子光刻沉积光栅样板；利用光阑的限位作用，保持会聚光指向与光栅样板的平面法向量指向不变，将光栅样板旋转角度θ；调整会聚光形成的驻波场空间高度使其与金属原子束待沉积区域存在重叠部分，在沉积光栅样板上进行第二次原子光刻，形成二维原子光栅菱形栅格结构，且菱形的其中一个内角与旋转角度相等。与现有单次沉积方法相比，本发明克服了二维激光冷却和二维光学势阱效果难以保证的问题，化繁为简，具备操作方便，栅格角度可控等优点。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110727037A
公开(公告)日：2020-01-24
申请号：CN201910893576.8
申请日：2019-09-20
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种基于高反膜的线性位相梯度超表面结构，包括由下而上依次设置的基板(1)、高反膜(2)和超表面(3)，所述的高反膜(2)为由高折射率介质膜层H1和低折射率介质膜层L交替设置构成的介质膜堆，高反膜(2)与超表面(3)接触的一侧为低折射率介质膜层L，所述的超表面(3)采用高折射率介质膜层H2，所述的超表面(3)的一个周期由多个不同宽度的单元结构构成。与现有技术相比，本发明省略了传统厚层金属衬底，引入全介质高反膜，提高了超表面的反射率，降低了超表面的损耗，方法新颖，可以针对可见光至近红外范围内的激光波长在设计和实验上分别实现99％和98％的异常反射偏折效率。
-
公开(公告)号：CN106549297B
公开(公告)日：2018-12-18
申请号：CN201610940925.3
申请日：2016-10-26
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种钕玻璃激光器用背入射式高反薄膜系统的制备方法，包括针对钕玻璃激光器谐振腔构型所需的光谱特性，采用垂直偏振态S光作为工作偏振态，以及对应的角度匹配的S光增透膜和背入射高反膜的组合膜系；优化背入射高反膜的驻波电场在薄膜‑基板界面最小；对增透膜和背入射高反膜的电场分布进行归一化，改变驻波电场最大值处的增透膜膜厚，进一步提高损伤阈值。与现有平行偏振态P光背入射高反膜的方案相比，本发明具有工作角度可调，反射带更宽，激光损伤阈值更高，稳定性和容错率更好的优点。
-
公开(公告)号：CN108919397A
公开(公告)日：2018-11-30
申请号：CN201810548512.X
申请日：2018-05-31
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种用于实现分步沉积型二维原子光刻的装置，包括第一反射镜、第二反射镜和机械固定机构，第一反射镜和第二反射镜垂直粘合构成垂直反射镜组，所述机械固定机构包括第一结构件、第二结构件、第三结构件和第四结构件，第一结构件、第二结构件、第三结构件和第四结构件构成一可容纳垂直反射镜组的框架，且该框架留有用于穿过原子束和会聚光的空间。与现有技术相比，本发明将二维原子光刻栅格夹角溯源至垂直反射镜组的垂直夹角，确保了栅格结构的正交性，并控制二维原子光刻分步沉积过程中驻波场切光的平行性，确保了光刻栅格结构的一致性与均匀性，可实现分步沉积型原子光刻技术制备非正交性误差小于0.01度的二维原子光刻栅格结构。
-
公开(公告)号：CN106066498B
公开(公告)日：2018-08-24
申请号：CN201610595894.2
申请日：2016-07-27
Applicant: 同济大学 , 光驰科技(上海)有限公司
Abstract: 本发明涉及一种修正薄膜元器件高低折射率材料相对厚度配比的膜系，该膜系的基本结构为Sub|HL1.5HLHL1.5HL|Air，Sub是薄膜元件基板，Air是出射介质空气，H和L分别是1/4中心波长光学厚度的高低折射率材料。采用膜系结构的薄膜元件透射光谱特征峰较多，中心波长反射带右侧两个等高特征峰用来修正高低材料的相对膜厚配比。本发明结构简单、可参考光谱特征峰多、峰高对膜层材料配比敏感，光谱可用常规的光学监控或晶振监控实现，具有较高的可制备性，便于推广。本发明在薄膜光学领域有广阔的实用前景，可用于镀膜机内膜层厚度均匀性及大尺寸光学元件整体厚度均匀性的修正，并且可用来校正高低折射率膜层材料相对厚度的配比，提高高精度光谱需求薄膜元件的制备精度和量产程度。
-
公开(公告)号：CN106435487B
公开(公告)日：2018-07-06
申请号：CN201610908397.3
申请日：2016-10-10
Applicant: 同济大学
IPC: C23C14/30
Abstract: 本发明公开了一种非线性晶体三硼酸锂晶体表面高激光损伤阈值增透膜的制备方法。针对LBO晶体各向异性强及增透膜的损伤机理，该方法的步骤包括LBO晶体表面采用IAD工艺镀SiO2膜、在LBO晶体表面IAD工艺镀制的薄膜上采用溶胶‑凝胶法进行镀膜。由本发明制备的LBO增透膜光学特性优异、损伤阈值高、环境稳定性好，可以与现有的基板加工、清洗及薄膜制备工艺兼容。具有工艺重复性好、可控性强、易于推广等优点，在未来的高功率激光薄膜领域具有广泛应用前景。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
208
records
(took 0.024 seconds)
