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公开(公告)号：CN1910393A
公开(公告)日：2007-02-07
申请号：CN200580002923.X
申请日：2005-01-13
IPC: F16K51/00
CPC classification number: F16K51/02 , Y10T137/6606 , Y10T137/7043 , Y10T137/7062
Abstract: 本发明提供一种在气体供给系和气体排放系中可在高温状态下使用并且因具有优异的绝热性能而能够大大提高小型化、紧凑化程度的真空绝热阀。在由具有阀本体和执行器的阀以及容纳该阀的真空绝热箱形成的真空绝热阀中，所述真空绝热箱(S)由在其侧面具有真空绝热配管接口(J)并且上面敞口的方形的下部真空箱壳(S5)、以及从上方呈气密状态嵌合在该下部真空箱壳(S5)上并且下面敞口的上部真空箱壳(S4)形成。
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公开(公告)号：CN1886770A
公开(公告)日：2006-12-27
申请号：CN200480034967.6
申请日：2004-11-26
IPC: G09F9/30 , G02F1/1368 , H01L29/786 , H01L21/3205 , H05B33/14
CPC classification number: G02F1/1368 , G02F2001/133357 , H01L27/12 , H01L27/124 , H01L27/1248 , H01L27/1285 , H01L27/1292 , H01L29/41733 , H01L29/66742 , H01L29/78636
Abstract: 一种有源矩阵显示装置，包围源极配线、漏极配线及信号线而形成平坦化层，使源极配线、漏极配线及信号线实质上与平坦化层形成同一平面。
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公开(公告)号：CN1282848C
公开(公告)日：2006-11-01
申请号：CN03178745.2
申请日：2000-07-27
Applicant: 株式会社富士金 , 大见忠弘 , 饭田精一 , 东京毅力科创株式会社
IPC: F17D3/00
Abstract: 一种压力式流量控制装置的流量异常检知方法，该装置由控制阀(CV)、节流孔(2)、检测控制阀(CV)与节流孔(2)之间的上游侧压力P1的压力检测器(14)、流量设定回路(32)构成，所述方法包括以下步骤：在将上游测压力P1保持为下游侧压力P2的约2倍以上的状态下，根据QC＝KP1(K为常数)计算下游侧流量QC，根据该计算流量QC与设定流量QS之差信号Qy对控制阀(CV)进行开闭控制的，由流量设定回路(32)向控制阀(CV)输出具有检定振幅V0的检定用信号ΔQS，测定应答该控制阀(CV)的开闭而产生的上游侧压力P1的脉动压力ΔP1的压力振幅V，当该压力振幅V小于极限振幅Vt时，报知节流孔堵塞。
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公开(公告)号：CN1799292A
公开(公告)日：2006-07-05
申请号：CN200480015290.1
申请日：2004-06-01
CPC classification number: H05K3/107 , H05K3/0023 , H05K3/143 , H05K2201/0108
Abstract: 在透明基体上形成选择性地设置了到达该透明基体的沟的感光性透明树脂膜，在沟内设置实质上具有与感光性透明树脂膜的表面相同的表面的布线部。在将布线部覆盖在沟内之前，通过对感光性透明树脂膜表面或者沟的底面实施处理，可以迅速形成布线部，同时可以容易地控制布线部的厚度。
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公开(公告)号：CN1774797A
公开(公告)日：2006-05-17
申请号：CN200480010336.0
申请日：2004-04-13
Applicant: 大见忠弘
IPC: H01L21/316 , H01L21/336 , H01L29/78
CPC classification number: H01L21/049
Abstract: 有关本发明的半导体装置，作为基板采用SiC，同时通过等离子处理形成绝缘膜。此时，在绝缘膜中含有稀有气体。优选作为稀有气体，包括氪(Kr)、氩(Ar)、氙(Xe)中的至少一种。特别优选氧气与氪(Kr)的组合。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1754129A
公开(公告)日：2006-03-29
申请号：CN200480004891.2
申请日：2004-02-12
Applicant: 大见忠弘 , 日本陶瓷科技股份有限公司
IPC: G03F7/20 , H01L21/027 , G02F1/13 , C04B35/565 , C04B35/584
CPC classification number: G03F7/70716 , C04B35/565 , C04B35/584 , C04B2235/36 , C04B2235/77 , C04B2235/80 , C04B2235/9607 , G03F7/7095
Abstract: 对于液晶面板用曝光装置(100)的掩模台面(2)和基板台面(12)，使用具有蜂窝构造的，在碳化硅中添加了玻璃的复合陶瓷材料。
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公开(公告)号：CN1751384A
公开(公告)日：2006-03-22
申请号：CN200480004782.0
申请日：2004-02-20
IPC: H01L21/3065
CPC classification number: H05H1/46 , H01J37/32192 , H01J37/3222 , H01J37/32238
Abstract: 一种等离子加工装置包括：处理室；具有靠谐振形成微波的第1驻波的内部空间(20)的引入波导管(4)；在内部靠谐振形成微波的第2驻波的介质(5p、5q)；以及具有使微波从内部空间(20)通向介质(5p、5q)用的缝隙(6a)的缝隙天线(6)。缝隙(6a)设置成近似位于将形成第1驻波波腹的位置对于缝隙天线(6)垂直地投影的地点和将形成第2驻波波腹的位置对于缝隙天线(6)垂直地投影的地点一致的地点。根据本发明，能提供一种通过提高穿过缝隙天线开口部的微波的传播效率、从而将微波的能量高效地引入处理室的等离子加工装置。
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公开(公告)号：CN1751196A
公开(公告)日：2006-03-22
申请号：CN200480004466.3
申请日：2004-02-09
Abstract: 本发明提供一种适用于半导体制造装置的真空排气系统用的隔膜阀，可以防止由气体的热分解所产生的生成物的堆积附着所带来的部件的腐蚀、或由生成物而带来堵塞或泄漏的发生，进而，可以实现真空排气系统的设备的小型化、随之可降低成本，而且，可以相应地进行用于缩短真空排气时间的真空排气系统的配管的小口径化。具体来说，真空排气系统用的隔膜阀(1)具有阀体(2)、隔膜(3)和驱动机构(4)，所述阀体(2)具有流入通路(6)、流出通路(7)和形成于其间的阀座(8)，所述隔膜(3)设于阀体(2)上并可接触或离开阀座(8)，所述驱动机构(4)设于阀体(2)上并可使隔膜(3)与阀座(8)接触或离开阀座(8)，在上述阀体(2)和隔膜(3)的流体接触部分(25)上涂覆规定厚度的合成树脂覆膜(5)。
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公开(公告)号：CN1216322C
公开(公告)日：2005-08-24
申请号：CN98801151.4
申请日：1998-08-13
Applicant: 株式会社富士金 , 大见忠弘 , 东京毅力科创株式会社
IPC: G05D7/06
CPC classification number: G05D7/0647 , Y10T137/7759 , Y10T137/7761
Abstract: 一种压力式流量控制装置，包括节流孔；设置于节流孔上游侧的控制阀；设置于控制阀与节流孔之间的压力检测器；根据压力检测器的检测压力P1以Q＝KP1(其中K为常数)计算流体的流量Q并以流量指令信号Qs与上述计算出的流量信号Q二者之差作为控制信号Qy向上述控制阀的驱动部输出的控制装置。在将下游侧压力P2与节流孔的上游侧压力P1之比保持在被控制流体的临界压比以下的状态下，通过上述控制阀的开闭来调整节流孔上游侧的压力P1，对节流孔下游侧的流体流量Q进行控制的压力式流量控制装置，是以直接接触型金属隔膜阀作为上述节流孔，以阀座与膜片之间的环形间隙作为可变式的节流孔，并且可通过节流孔驱动装置调整上述间隙的大小。
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公开(公告)号：CN1637375A
公开(公告)日：2005-07-13
申请号：CN200510004231.0
申请日：2005-01-05
IPC: F28C1/00
Abstract: 本发明是一种空气冷却装置，其把多个波纹板层叠而成的大致为长方体的斜行蜂窠体放置在只在相对的两个面上设有开口部的箱体中。该空气冷却装置包括：冷却单元，其把该相对的两个面的开口部作为上面开口部及下面开口部大致水平地配置在垂直通道内；冷却水供给装置；接水部；送风装置。所述斜行蜂窠体层叠上下方向的长度不同的两种以上的波纹板，下面开口部侧的端面形成由所述长波纹板的端面连续形成的凸部和所述短波纹板的端面连续形成的凹部组成的凹凸形状。
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